深度报告-20221020-光大证券-拓荆科技-688072.SH-投资价值分析报告_中国半导体CVD设备龙头国产化持续放量_36页_3mb

拓荆科技投资价值分析报告总结

核心内容

拓荆科技是中国半导体CVD设备的龙头企业，专注于等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、原子层沉积（ALD）和次常压化学气相沉积（SACVD）设备的研发、生产与销售。公司产品已广泛应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯和燕东微电子等国内主流晶圆厂，打破了国际厂商在该领域的垄断地位，与国际寡头直接竞争。

主要观点

• 市场地位与技术优势：拓荆科技是国内唯一实现集成电路PECVD和SACVD产业化应用的厂商，也是国内领先的ALD设备厂商。其产品可适配180-14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM及64/128层FLASH制造工艺。
• 产品线布局：公司主要产品包括PECVD、ALD和SACVD设备，其中PECVD是核心产品，已实现产业化应用；ALD设备已成功量产，ThermalALD正在研发；SACVD设备也已实现产业化应用。
• 市场前景：全球半导体薄膜沉积市场年复合增长率约为14.6%，预计2025年市场规模将达340亿美元。国产化率持续提升，预计2025年将达到20-25%。
• 盈利预测：公司2022-2024年预计归母净利润分别为2.57亿元、4.28亿元和6.08亿元，PE值分别为117x、70x和49x，首次覆盖给予“增持”评级。
• 风险提示：包括国产化进度不及预期、晶圆厂扩张不及预期、次新股股价调整风险等。

关键信息

• 2021年营收：7.58亿元，其中PECVD设备收入6.75亿元（占比89.1%）、SACVD设备0.41亿元（占比5.4%）、ALD设备0.29亿元（占比3.8%）。
• 营收增长：2021年同比增长73.99%，2022年预计同比增长100.34%，2023年预计同比增长62.19%，2024年预计同比增长40.60%。
• 毛利率趋势：2018-2022H1毛利率逐年上升，2021年达到42.64%。
• 客户群体：主要客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储等国内领先晶圆厂。
• 技术发展：公司具备领先的研发实力，产品技术参数达到国际水平，正在推进先进制程的客户端验证和设备研发。

未来增长点

• PECVD：国内唯一实现集成电路产业化应用，具备卡位优势，预计未来持续放量。
• ALD：已实现产业化应用，未来将进入放量期，ThermalALD正在研发中。
• SACVD：已实现产业化应用，随着客户端导入增加，将进入放量阶段。

市场分析

• 全球市场：2020年全球半导体薄膜沉积市场规模约为172亿美元，预计2025年将达到340亿美元。
• 国产化趋势：2020年国产化率约10-15%，预计2025年将提升至20-25%，国产设备厂商受益。
• 晶圆厂扩张：中国大陆主要晶圆厂持续扩产，预计2022年半导体设备销售额将达364.3亿美元，占全球市场约23%。

股票表现

• 当前价：237.75元
• 一年最低/最高：88.10元 / 327.00元
• 近3月换手率：51.77%

投资建议

• 首次覆盖评级：增持
• 核心逻辑：国产化率提升与市场份额扩大是推动公司收入增长的核心动力，半导体设备是长周期优质赛道。

总结

拓荆科技作为国内半导体CVD设备龙头，具备显著的产业化技术优势与研发实力，其PECVD、ALD和SACVD设备已广泛应用于国内主流晶圆厂。随着国产化率的持续提升和晶圆厂的扩张，公司有望在未来实现快速增长。盈利预测显示，2022-2024年归母净利润将显著增长，PE值逐步下降，公司成长空间广阔。投资建议为“增持”，但需关注国产化进度、晶圆厂扩张及股价波动等风险。