深度报告-20220622-浙商证券-拓荆科技-688072.SH-拓荆科技深度报告_薄膜沉积设备龙头_引领国产替代大潮崛起_27页_2mb

拓荆科技深度报告总结

核心内容

拓荆科技是国内领先的半导体薄膜沉积设备制造商，专注于PECVD、SACVD、ALD等设备的研发与生产，致力于实现国产替代。公司自2010年成立以来，深耕行业十二载，产品广泛应用于集成电路制造、TSV封装、OLED、Micro-LED等高端领域。

主要观点

• 行业地位：公司是国内半导体薄膜沉积设备的主要企业之一，与中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等国内主流晶圆厂保持长期深度合作，是国产替代的重要推动者。
• 市场空间：全球薄膜沉积设备市场空间广阔，预计2025年将达到340亿美元，中国作为全球主要晶圆制造基地，市场占比约29%，2021年全球市场约172亿美元，国内市场约55亿美元。
• 国产化率低：2021年国产化率不足10%，国内晶圆厂扩产推动下，国产替代需求旺盛。
• 产品优势：公司产品在关键性能参数上达到国际先进水平，单价持续上升，显示产品竞争力强。
• 成长性：2021年营收达7.58亿元，同比增长73.99%，2022Q1营收同比增长86.21%，显示公司成长性与确定性兼备。
• 研发与扩产：公司持续加大研发投入，2022年计划募资10亿元用于产能扩张和先进制程设备研发，增强未来增长动能。

关键信息

财务表现

• 营收：2021年实现营收7.58亿元，2022Q1营收1.08亿元，同比增长86.21%。
• 净利润：2021年归母净利润为68.49亿元，2022Q1合同负债达7.8亿元，显示在手订单充足。
• 毛利率：2018年毛利率为31.67%，2022Q1毛利率为47.44%，持续提升。
• 研发投入：2019-2021年研发费用率均超过行业平均水平，研发人员占比超过70%，显示公司对技术的重视。

市场与客户

• 市场格局：全球薄膜沉积设备市场由AMAT、LAM、TEL等海外企业主导，国产化率低，存在较大替代空间。
• 客户资源：公司客户涵盖中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等国内主要晶圆厂，客户集中度高，与国际巨头竞争。
• 订单增长：2022Q1存货余额达12.94亿元，合同负债增长2.92亿元，预示未来增长潜力大。

技术与研发

• 技术团队：公司核心团队由归国海外专家组成，技术背景深厚，参与多项国家重大专项，如“90-65nm等离子体增强化学气相沉积设备研发与应用”和“1x nm 3D NAND PECVD研发及产业化”。
• 产品线：公司产品覆盖PECVD、SACVD、ALD，其中PECVD为公司主力产品，2021年营收占比达89.11%。
• 产品性能：公司设备在关键性能参数上达到国际水平，如设备产能、稳定运行时间、故障间隔时间等。

未来展望

• 成长预测：预计未来三年营收分别为12.56亿元、18.33亿元、24.86亿元，归母净利润分别为1.50亿元、2.42亿元、3.87亿元，显示公司具有强劲增长潜力。
• 市场趋势：随着国内晶圆厂持续扩产和制程迭代，薄膜沉积设备需求将持续增长，公司有望充分享受国产替代红利。

风险提示

• 晶圆厂扩产不及预期
• 疫情导致物流中断
• 技术更新快
• 关键人才流失
• 产品验收周期长
• 核心技术泄密
• 市场竞争加剧

估值与评级

• 当前价格：￥154.00
• 盈利预测：2022E营收1256.21亿元，归母净利润150.04亿元，2023E营收1832.70亿元，归母净利润242.45亿元，2024E营收2485.95亿元，归母净利润387.19亿元。
• 估值：2021A P/E为274.36，2022E P/E为125.23，2023E P/E为77.50，2024E P/E为48.53，显示估值逐步下降。
• 投资建议：公司作为国内薄膜沉积设备龙头，具备良好的成长性和确定性，建议买入。

图表目录

• 图1：公司历史沿革
• 图2：公司股权结构
• 图3：公司营收增长趋势
• 图4：公司净利润变化
• 图5：公司毛利率和净利率
• 图6：公司费用率变化
• 图7：存货情况
• 图8：预收账款/合同负债增长
• 图9：薄膜制备方法分类
• 图10：PVD、CVD及ALD成膜效果
• 图11：PECVD设备工作原理
• 图12：SACVD设备工作原理
• 图13：半导体设备市场拆分
• 图14：全球薄膜沉积设备市场规模
• 图15：中国大陆晶圆厂扩产规划
• 图16：不同制程设备需求
• 图17：全球薄膜沉积设备占比
• 图18：逻辑芯片薄膜工艺及材料
• 图19：2019年CVD、PVD、ALD市场格局
• 图20：2021年中国CVD设备市场份额
• 图21：2021年中国PVD设备市场份额
• 图22：公司设备在芯片制造中的应用
• 图23：公司产品关键性能参数
• 图24：PECVD设备单价趋势
• 图25：公司成膜设备中标台数
• 图26：公司技术服务中心分布
• 图27：研发支出及占比
• 图28：技术人员占比

表格目录

• 表1：公司产品分类及介绍
• 表2：薄膜沉积设备分类
• 表3：薄膜沉积工序数量
• 表4：国内晶圆厂产能及扩产规划
• 表5：国内外薄膜沉积设备厂商对比
• 表6：公司营收按产品类别拆分
• 表7：公司设备主要客户
• 表8：公司前五大客户情况
• 表9：中芯国际重复订单验收周期
• 表10：核心技术专家团队介绍
• 表11：公司承担的国家项目
• 表12：核心技术产品收入占比
• 表13：公司IPO募投项目
• 表14：盈利预测
• 表15：可比公司估值对比