半导体设备行业系列报告之三：清洗篇，清洗需求提高，关注设备进口替代-200305_31页__2mb

半导体清洗设备行业分析报告总结

核心内容概述

本报告聚焦于半导体清洗设备行业，分析了行业背景、技术演进、设备类型及市场格局，并重点探讨了清洗设备国产化趋势与机会。报告指出，随着半导体行业向中国转移，清洗设备作为半导体制造中的关键环节，其市场需求持续增长，国产替代前景广阔。

主要观点

• 存储器行业回暖：NAND和DRAM价格在2019年末止跌回升，全球行业景气度回暖，带动资本开支，国内存储器厂商如长江存储和合肥长鑫进入产能爬坡期，设备需求增加。
• 清洗工艺重要性提升：随着制程工艺节点的演进，清洗步骤占比提升至约33%，清洗需求和难度不断增长，对杂质敏感度提高。
• 清洗设备市场格局：全球清洗设备市场由迪恩士、东京电子等海外巨头主导，国内企业如至纯科技、盛美半导体、北方华创等逐步进入市场，具备一定的竞争力。
• 清洗设备国产化趋势：随着国内半导体制造企业对设备国产化的要求提升，清洗设备有望成为最先实现大规模国产化的半导体设备品类。

关键信息

一、行业数据

• 全球半导体市场：2019年全球半导体销售额为4110亿美元，同比下降12.4%；预计2023年将达到783亿美元。
• 清洗设备市场规模：2017年全球清洗设备市场规模为27亿美元，预计2025年将增长至46亿美元。
• 国内市场份额：2019年中国半导体设备销售额预计达到180亿美元，成为全球最大市场。

二、清洗设备类型与技术

• 湿法清洗：占整个清洗制程90%以上，成本低、产能高，但存在化学污染、二次污染等问题。
• 干法清洗：环境友好，对表面无损，但成本高、控制要求高，尚未普及。
• 单晶圆清洗：精度高，适用于先进制程，逐步取代槽式清洗。
• 槽式清洗：适用于中低端工艺，存在交叉污染风险。

三、清洗设备市场结构

• 全球市场份额：迪恩士（SCREEN）占据约60%市场份额，东京电子（Tokyo Electron）占据约30%，其余由韩国、美国等厂商占据。
• 国内清洗设备厂商：
  • 至纯科技：涉足单片和槽式清洗设备，已获得中芯、万国、TI等客户订单，技术实力快速提升。
  • 盛美半导体：专注于单片清洗设备，技术实力最强，已实现部分国产替代。
  • 北方华创：通过收购Akrion，实现槽式清洗设备国产化，产品线覆盖更广。

四、清洗设备对半导体制造的重要性

• 清洗是保障半导体器件质量的关键环节，对杂质敏感度高。
• 清洗步骤约占整个制造流程的33%，清洗次数随着制程提升而增加。
• 清洗设备对提高良率、降低制造成本具有重要意义。

五、清洗设备市场增长与国产化机遇

• 清洗设备市场年复合增长率约为6.8%，预计2020年市场规模将达35-40亿美元。
• 中国半导体设备市场增长迅速，预计2019年达到173亿美元，成为全球最大市场。
• 国内清洗设备企业有望受益于国产化趋势，至纯科技作为龙头，被重点推荐。

相关公司及投资建议

• 至纯科技：重点推荐，已切入中芯、万国、燕东、TI等领先企业，具备单片和槽式清洗设备能力。
• 盛美半导体：技术实力强，主攻单片清洗设备，已实现部分国产替代。
• 北方华创：通过收购Akrion实现槽式清洗国产化，产品线丰富，具备良好发展前景。

风险提示

• 半导体资本开支及设备国产化不及预期。
• 清洗设备利润率可能下滑。

总结

清洗设备作为半导体制造中的重要环节，其市场需求随着制程工艺节点的演进而不断增长。国内企业如至纯科技、盛美半导体和北方华创在清洗设备领域逐步崛起，具备良好的国产替代潜力。随着中国半导体产业的快速发展，清洗设备市场将迎来新的增长机遇，相关企业有望从中受益。