半导体设备行业系列报告之三：清洗篇，清洗需求提高，关注设备进口替代-20200305-招商证券-31页_2mb

半导体清洗设备行业分析报告总结

核心内容

本报告主要分析了半导体清洗设备行业的发展现状、市场格局及国产替代机会。随着半导体行业向中国转移，清洗设备作为产业链中的重要环节，其需求持续增长，技术难度也不断加大。清洗设备对半导体制造的良率和经济效益影响深远，未来市场空间广阔，国产替代前景可期。

主要观点

1. 存储器价格反弹与产能提升：

   • NAND和DRAM价格在2019年底止跌回升，带动行业景气度回暖。
   • 长江存储和合肥长鑫产能持续爬坡，有望在2020年显著提升，推动设备需求增长。
   • 存储器标准化程度高，成为国产化突破的重要方向。

2. 清洗工艺的重要性：

   • 清洗步骤约占整体工艺的33%，随着制程工艺节点的提升，清洗难度和频率也显著增加。
   • 污染物包括颗粒、有机物、金属和氧化物，清洗效果直接影响产品良率。
   • 清洗设备是确保芯片性能和质量的关键环节。

3. 清洗技术路线：

   • 湿法清洗因成本低、产能高占据主流，但存在化学污染和二次交叉污染问题。
   • 干法清洗环境友好、低磨损，但成本高、控制难度大，尚未大规模应用。
   • 单晶圆清洗设备因其高精度和低交叉污染逐渐成为先进制程的主流选择。

4. 市场格局与行业趋势：

   • 全球清洗设备市场高度垄断，主要由SCREEN、Tokyo Electron等海外巨头主导。
   • 中国清洗设备市场空间巨大，预计2020年市场规模达30-40亿美元，国内企业具备进口替代潜力。
   • 随着半导体制造环节向中国大陆转移，中国将成为全球最大的半导体设备市场。

关键信息

全球市场表现

• 2019年全球半导体销售额为4110亿美元，同比下降12.4%。
• 存储器价格回升带动行业复苏，全球晶圆厂设备支出预计在2019年上修至566亿美元。
• 中国半导体销售额占全球市场约35%，成为全球增长最快的地区之一。

国内清洗设备企业

• 至纯科技：

  • 自2015年起进入半导体清洗设备领域，与中芯、万国、燕东、TI等企业合作。
  • 槽式和单片清洗设备均具竞争力，已获得多个批量订单。
  • 2019年前三季度收入同比增长94.35%，归母净利润增长172%。
  • 重点推荐，因其在清洗设备国产化方面具备领先优势。

• 盛美半导体：

  • 主攻单片清洗设备，SAPS和TEBO技术解决兆声波清洗的均匀性和损伤性问题。
  • 在22nm DRAM产线中，单片清洗设备占比达70%。
  • 技术实力强，有望实现更多国产替代。

• 北方华创：

  • 通过收购Akrion实现槽式清洗设备国产化，产品线覆盖单片和槽式清洗设备。
  • 在刻蚀、薄膜沉积等设备领域更具成长性，整体市场占有率较高。
  • 2019年1-9月收入同比增长30.25%，净利润增长27.3%。

清洗设备市场空间

• 全球清洗设备市场规模预计从2017年的27亿美元增长至2025年的46亿美元。
• 中国清洗设备市场预计在2020年达到30-40亿美元，占全球市场约5%。
• 随着半导体制造向中国转移，清洗设备需求将显著上升，国产替代空间广阔。

风险提示

• 半导体资本开支及设备国产化可能不及预期。
• 清洗设备产品利润率可能下滑。

财务指标（部分重点公司）

行业发展趋势

• 随着5G、AI、IoT等新兴技术发展，半导体市场需求持续扩大。
• 清洗设备作为关键环节，其市场空间稳定增长，未来几年复合增长率达6.8%。
• 单片清洗设备因高精度和低交叉污染逐渐取代槽式清洗设备，成为先进制程的主流。
• 国产设备在清洗领域有望率先实现进口替代，至纯科技、盛美半导体、北方华创等企业具备较大发展潜力。

总结

半导体清洗设备行业随着存储器价格回升和国内产能爬坡而迎来发展机遇。清洗作为半导体制造的关键环节，其重要性日益凸显，尤其是随着制程工艺节点的不断演进。虽然目前市场仍由海外巨头主导，但国内企业如至纯科技、盛美半导体和北方华创正通过技术引进、自主研发和并购等方式，逐步提升竞争力，有望在清洗设备国产化方面取得突破。未来几年，清洗设备市场空间将不断扩大，国产替代前景广阔，是半导体设备国产化的重要突破口。