20160629-中国银河-石化化工行业：关键电子化学品系列报告之一：光刻胶_28页_1mb

光刻胶行业深度研究报告总结

核心内容

光刻胶是半导体集成电路制造的核心材料，其质量和性能直接影响集成电路的性能、成品率和可靠性。光刻工艺在芯片制造中占据约35%的成本和40%-60%的时间，因此光刻胶在电子制造领域具有举足轻重的地位。

主要观点

• 技术壁垒高：光刻胶具有极高的技术壁垒，国内企业与全球先进水平存在较大差距，尤其是高端产品。
• 国内领先企业：目前，北京科华和苏州瑞红是国内技术领先的光刻胶企业，但其营收规模较小，尚处于发展阶段。
• 上市标的推荐：国内投资者应重点关注苏州晶瑞、南大光电和强力新材三家公司，其中苏州晶瑞持有苏州瑞红54.6%的股权，南大光电持有北京科华31.4%的股权，强力新材虽不直接生产光刻胶，但已进入国际供应链，具备分享行业红利的潜力。
• 跨国并购建议：建议国内企业关注国际上市值在100亿人民币以下的光刻胶企业，如台湾长兴化学、日本东京应化、日本东洋油墨、日本ADEKA、韩国锦湖化学等，作为技术获取的有效手段。

关键信息

• 光刻胶分类：根据化学反应机理和显影原理，光刻胶分为正像和负像光刻胶；根据感光树脂的化学结构，分为光聚合型、光分解型和光交联型。
• 光刻胶应用领域：主要应用于PCB、LCD和半导体行业。其中，PCB光刻胶主要分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨；LCD光刻胶包括彩色光刻胶、黑色光刻胶等；半导体光刻胶则根据曝光波长分为g线、i线、KrF和ArF等。
• 光刻技术发展：光刻技术随着集成电路的发展不断演进，从G线（436nm）发展到193nm、EUV（13.5nm）等。分辨率的提高主要依赖于缩短曝光波长和提升透镜的NA值。
• 光刻胶国产化进程：国内在PCB光刻胶方面几乎无自主生产能力；在TFT-LCD光刻胶方面，主要依赖进口；在磺化橡胶类光刻胶方面，已实现国产化，北京科华和苏州瑞红占据主要市场；在g/i线光刻胶方面，自给率约10%；在KrF光刻胶方面，几乎全部进口，仅有北京科华完成中芯国际认证。

行业分析

• 全球光刻胶市场格局：日本在光刻胶产业中占据主导地位，拥有7家全球前10名光刻胶企业，2010年其销售额占全球市场份额近70%。韩国和中国台湾地区则因LCD和半导体产业的崛起，成为重要的光刻胶生产地区。
• 中国光刻胶产业现状：中国光刻胶产业起步较晚，目前技术水平落后国外2-3代，主要依赖进口。国内主要企业为北京科华和苏州瑞红，技术实力较强，但市场占有率有限。
• 光刻胶技术参数：包括分辨率、对比度、敏感度、粘滞性、粘附性、抗蚀性、表面张力、存储和传送条件等，这些参数直接影响光刻胶的性能和适用性。

投资建议

• 估值与投资建议：推荐关注苏州晶瑞、南大光电和强力新材，作为国内光刻胶行业的优质标的。
• 催化剂：电子产品升级换代加速，人工智能、可穿戴设备、虚拟现实等产业的发展将推动光刻胶需求增长。
• 风险因素：电子产品需求增长低于预期、技术进步和进口替代进程低于预期。

行业发展趋势

• 新一代光刻技术：包括EUV、电子束、离子束和X射线光刻技术，这些技术对光刻胶提出了更高的要求，也代表了未来光刻胶行业的发展方向。
• 光刻胶未来发展方向：随着半导体和LCD产业的持续发展，光刻胶行业将向高分辨率、高灵敏度和高抗蚀性方向演进。

公司介绍

• 北京科华：成立于2004年，是国内首家拥有自主知识产权的光刻胶企业，具备较高的技术实力和市场占有率。
• 苏州瑞红：由苏州电子材料集团与日本Zeon公司和丸红公司合资成立，是国内主要的光刻胶生产商之一，产品广泛应用于集成电路和LCD制造。

评级标准

• 银河证券行业评级体系：推荐、谨慎推荐、中性、回避。
• 银河证券公司评级体系：同样分为推荐、谨慎推荐、中性、回避，分别对应不同的预期回报率。

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