深度报告-20220621-东吴证券-拓荆科技-688072.SH-引领薄膜沉积设备进口替代_业绩持续高速增长_34页_2mb

拓荆科技-U（688072）总结

核心内容

拓荆科技是一家专注于半导体薄膜沉积设备研发与生产的本土龙头企业，产品覆盖PECVD、SACVD和ALD三大类，其中PECVD和SACVD是国内唯一实现产业化应用的设备供应商。公司产品已成功供货中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户，引领进口替代，业绩实现持续高速增长。

主要观点

• 业绩增长显著：2018-2021年公司营业收入CAGR为121%，2021年营收达7.58亿元，2021年实现归母净利润6849万元，首次扭亏为盈。
• 技术优势明显：公司已掌握薄膜沉积设备的八大核心技术，技术水平达到国际先进水准，尤其在PECVD和SACVD领域具备先发优势。
• 市场前景广阔：随着全球晶圆产能向东转移，中国大陆成为全球晶圆扩产中心，预计未来5年将新增25座12英寸晶圆厂，薄膜沉积设备市场价值量占比高达25%，是前道三大核心设备之一。
• 成长空间大：PECVD市场国产化率低，仍有较大提升空间；SACVD和ALD作为新兴设备，正逐步进入放量阶段，将成为新的增长点。

关键信息

盈利预测与估值

市场数据

资产负债率与股权结构

技术研发与团队

• 公司拥有高水平研发团队，核心技术人员均具有多年海外一线半导体企业经验。
• 截至2021Q3末，公司技术研发人员占比高达44%，本科及以上学历员工占比达78%。
• 研发费用持续增长，2021年研发费用达2.88亿元，研发费用率38.0%，显著高于行业平均水平。
• 公司已形成八大薄膜沉积设备核心技术，覆盖PECVD、ALD和SACVD。

客户结构

• 中芯国际为公司第一大客户，2020和2021Q1-3收入占比分别为45.73%和28.80%。
• 公司客户集中度较高，2018-2021Q1-Q3前五大客户占比分别为100%、84.02%、83.78%和92.44%。

订单与库存

• 截至2021年9月，公司在手订单超过15亿元。
• 截至2022Q1末，存货和合同负债分别达到12.94亿元和7.80亿元，较2021Q3末增长32%和75%。
• 发出商品占比60%，1年以内发出商品占比82%，显示订单执行良好。

投资评级

• 评级：买入（首次）
• 理由：公司作为本土薄膜沉积设备龙头，产品覆盖广泛，技术优势明显，受益于中国大陆晶圆厂扩产趋势，未来成长性突出。

风险提示

• 晶圆厂资本开支不及预期
• Demo机台无法实现最终销售

市场前景

• 全球晶圆产能东移：中国大陆未来5年将新增25座12英寸晶圆厂，总规划月产能将超过160万片。
• 半导体设备需求增长：2021年全球半导体设备销售额达1026亿美元，中国大陆占28.9%。
• 薄膜沉积设备价值量占比：25%，仅次于刻蚀设备，是前道三大核心设备之一。
• 先进制程需求提升：随着制程节点缩小，薄膜沉积设备需求量和价值量均有望提升。

总结

拓荆科技作为国内领先的半导体薄膜沉积设备供应商，凭借强大的研发能力和市场拓展能力，实现了业绩的持续快速增长。公司产品已成功应用于主流客户，未来在PECVD、SACVD和ALD三大业务线均有较大成长空间。随着中国大陆晶圆厂扩产趋势的持续推进，公司有望在薄膜沉积设备市场中占据更大份额，实现业绩的进一步提升。