深度报告-20220630-德邦证券-拓荆科技-688072.SH-半导体薄膜沉积设备国产龙头扬帆起航_24页_2mb

拓荆科技 (688072.SH) 详细总结

核心内容

拓荆科技是一家专注于半导体薄膜沉积设备的国产企业，主要产品包括PECVD、ALD和SACVD设备，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线。公司凭借强大的技术实力和丰富的海外经验，成功突破了海外厂商在薄膜沉积设备领域的垄断，成为国内领先的国产替代企业。

主要观点

• 技术实力：公司核心技术团队具备海外设备厂商的丰富经验，已掌握多项关键专利和核心技术，适用于多种设备类型。
• 市场地位：2022年1-5月，拓荆科技在国内薄膜沉积设备中标份额快速上升至14%，领先于其他国内厂商。
• 研发能力：公司持续加大研发投入，2021年研发费用达2.88亿元，研发费用率38%，推动产品升级和市场拓展。
• 客户结构：公司客户集中度较高，主要为国内头部晶圆厂，如中芯国际、长江存储等，但随着市场拓展，客户结构将逐步多元化。
• 盈利预测：预计2022年至2024年公司收入将分别达到12.77亿元、18.30亿元和25.43亿元，对应当前PS估值14.7倍、10.3倍和7.4倍；归母净利润预计分别为1.33亿元、2.33亿元和3.67亿元，对应当前PE估值140.9倍、80.5倍和51.1倍。
• 行业前景：全球薄膜沉积设备市场预计2025年将达340亿美元，复合增速14.6%。随着国内晶圆厂扩产，薄膜沉积设备市场需求将持续增长。

关键信息

股票数据

• 总股本：126.48百万股
• 流通A股：26.17百万股
• 52周内股价区间：89.71-161.90元
• 总市值：18,782.10百万元
• 总资产：2,887.62百万元
• 每股净资产：12.45元

财务数据预测

技术与产品优势

• 产品系列：公司产品涵盖PECVD、ALD、SACVD设备，其中PECVD已实现产业化应用，ALD和SACVD处于验证阶段。
• 技术突破：公司通过多个国家科技重大专项，实现了在PECVD、ALD等领域的技术突破，尤其是与长江存储、长鑫存储等合作研发。
• 平台型企业：公司大部分专利和核心技术适用于多种设备，具备平台型公司潜力。

募投项目

• 高端半导体设备扩产项目：投资约0.8亿元，用于二期扩产，新增约2600平方米厂房。
• 先进半导体设备技术研发与改进项目：投资4亿元，研发28nm以下制程的PECVD设备。
• ALD设备研发与产业化项目：投资2.71亿元，建设上海临港基地，开发28nm-10nm制程的ALD设备。

市场与行业分析

• 全球市场：2020年全球薄膜沉积设备市场规模为172亿美元，预计2025年达到340亿美元，复合增速14.6%。
• 国内市场：2022年中国半导体设备销售额预计达386亿美元，同比增长30%，其中薄膜沉积设备市场占比将提升。
• 客户验证：公司已在国内多个晶圆厂（如长江存储、中芯国际、华虹半导体等）完成设备验证，预计未来将实现批量销售。

风险提示

• 新产品研发进度不及预期
• 客户验收周期过长
• 下游晶圆厂扩产放慢
• 半导体设备行业竞争加剧

总结

拓荆科技凭借其在薄膜沉积设备领域的技术突破和市场拓展，已在国内市场占据一定份额，并有望在国际市场上进一步发展。公司持续的研发投入和丰富的客户验证经验，使其具备良好的成长潜力。随着国内晶圆厂扩产和先进制程需求增长，公司有望在薄膜沉积设备市场实现快速发展。