深度报告-20220622-开源证券-拓荆科技-688072.SH-公司首次覆盖报告_国产薄膜沉积设备龙头_成长动力充足_36页_3mb

拓荆科技（688072.SH）总结

核心内容

拓荆科技是国内领先的半导体薄膜沉积设备制造商，专注于PECVD、ALD和SACVD设备的研发与产业化。公司于2022年4月在科创板上市，是国内唯一实现集成电路PECVD和SACVD设备产业化应用的企业。受益于全球半导体行业高景气度、国内晶圆产能扩张以及国产替代趋势，公司成长动力充足，首次覆盖给予“买入”评级。

主要观点

• 市场前景广阔：薄膜沉积设备是半导体制造的关键设备之一，占半导体设备市场约20%。2021年全球市场规模达190亿美元，预计2025年将增长至340亿美元，CAGR达15.7%。
• 行业格局：全球薄膜沉积设备市场主要由应用材料（AMAT）、泛林半导体（Lam）、东京电子（TEL）等国际巨头主导，国产替代空间巨大。
• 技术实力强大：公司研发投入高，研发费用率高于国内外同行，核心技术达到国际先进水平，产品关键性能参数达到国际同类设备水平。
• 客户资源优质：公司已成功导入中芯国际、长江存储、华虹集团等国内知名企业，合同负债维持高位，产品持续验证中。
• 成长动力充足：公司营收快速增长，近三年CAGR达74%，2021年营收7.58亿元，归母净利润0.68亿元，同比扭亏。募投项目将助力产能和技术提升。

关键信息

财务指标

• 2022年6月22日股价：148.56元
• 总市值：187.90亿元
• 流通市值：38.88亿元
• 营收与净利润预测：2022-2024年分别预计实现EPS 1.04/1.60/2.98元，归母净利润1.31/2.03/3.77亿元。
• 估值指标：当前股价对应PS 15.21倍，2022E对应PS 9.86倍，2024E对应PS 7.74倍。

产品与市场

• 主要产品：PECVD、ALD、SACVD，其中PECVD为营收主要来源，占比达89.11%。
• 技术应用：公司产品已应用于14nm及以上制程，并展开10nm以下制程验证测试。
• 市场拓展：公司业务主要集中在中国大陆，占比达98.32%，未来有望拓展海外客户。

上下游关系

• 上游：直接材料占总成本约90%，采购价格呈下降趋势，公司与供应商保持长期良好关系，供应链稳定。
• 下游：客户集中度高，2021Q1-Q3前五大客户占比达92.43%，主要为中芯国际、长江存储等。
• 产销情况：公司产销率低于100%，主要由于验收周期较长。

行业驱动力

• 晶圆厂扩产：全球计划新建29座晶圆厂，中国占比超过一半，带动设备需求。
• 技术升级：芯片制程升级导致薄膜沉积工序增加，先进制程设备需求提升。
• 国产替代：国际巨头占据全球CVD市场70%，ALD市场31%和29%，国产替代需求显著。

成长动力

• 研发与创新：公司研发人员占员工总数44.06%，研发投入高，技术团队国际化。
• 产能扩张：公司募投10亿元用于主要产品研发，未来产能和技术实力将进一步提升。
• 市场验证：多个产品正在进行客户验证，未来有望贡献更多收入。

风险提示

• 募投项目扩产不及预期
• 行业竞争加剧
• 行业景气度下滑
• 技术研发不及预期

结论

拓荆科技凭借强大的技术实力、优质的客户资源以及显著的国产替代潜力，有望在半导体薄膜沉积设备市场中持续增长，成长动力充足，具备较高的投资价值。