深度报告-20260127-东海证券-拓荆科技-688072.SH-公司深度报告_深耕薄膜沉积技术护城河_打造混合键合第二增长极_26页_3mb

拓荆科技深度总结

核心内容

拓荆科技是一家深耕薄膜沉积技术的国内半导体设备龙头企业，专注于集成电路制造前道工艺，拥有薄膜沉积设备和三维集成设备（键合及配套量检测设备）两大业务平台。公司产品覆盖PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD及Flowable CVD等多种薄膜沉积设备，可应用于逻辑芯片、存储芯片制造及先进封装领域，其产品矩阵已实现约100种关键工艺应用。此外，公司积极布局混合键合设备领域，已实现产业化应用并获得重复订单，成为三维集成设备的重要参与者。

主要观点

• 行业领先地位：拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备领域的龙头企业，其产品在客户端产线运行稳定性达到国际水平，平均机台稳定运行时间超过90%。
• 业绩增长显著：2020-2024年公司营收复合增长率达75.19%，2024年归母净利润达6.9亿元，2025年前三季度营收达42.2亿元，净利润增长105.14%。
• 技术优势明显：公司技术积累深厚，产品种类丰富，覆盖多种薄膜沉积工艺。其中，ALD设备在国产设备厂商中薄膜工艺覆盖率位居首位。
• 国产替代空间广阔：当前中国半导体设备国产化率整体较低，薄膜沉积设备国产化率不足20%，市场替代潜力巨大。
• 未来增长点：公司前瞻布局混合键合设备，随着3D集成技术的发展，该领域有望成为新的业绩增长点。

关键信息

公司概况

• 公司名称：拓荆科技（688072）
• 数据日期：2026/01/26
• 收盘价：359.59元
• 总股本：28,234万股
• 资产负债率：67.72%
• 市净率：16.64倍
• 净资产收益率（加权）：9.78%
• 12个月内最高/最低价：394.00/138.63元

投资建议

• 评级：买入（首次覆盖）
• 预测营收：2025-2027年分别为63.82、84.46和105.97亿元
• 预测净利润：2025-2027年分别为10.41、16.27和24.48亿元
• PE估值：2025-2027年分别为97.50、62.41和41.47倍

风险提示

• 研发及验证进度不及预期
• 地缘政治风险
• 下游需求不及预期

产品矩阵

技术布局

• 薄膜沉积技术：涵盖PVD、CVD、ALD等，其中ALD技术在薄膜厚度控制和台阶覆盖率方面表现优异。
• 三维集成技术：公司已实现混合键合设备产业化，并获得重复订单，同时推出配套量检测设备，进一步完善技术解决方案。

市场前景

• 全球薄膜沉积设备市场：2025年市场规模约为244亿美元，中国大陆市场规模约为102亿美元。
• 混合键合市场：预计2029年全球先进封装市场规模将达280亿美元，混合键合设备年需求量预计达1400套，市场空间广阔。

公司优势

• 技术积累：公司在薄膜沉积领域技术深厚，产品覆盖广泛，已实现多项关键工艺的产业化。
• 研发能力：公司累计申请专利1,783项，其中发明专利294项，研发费用持续投入，推动产品迭代。
• 市场拓展：公司已与中芯国际、华虹集团、长江存储等国内主流晶圆厂合作，市场渗透率显著提升。
• 费用管理：公司销售费用率和管理费用率持续下降，费用管控能力增强。

未来展望

• 业绩增长：预计未来三年公司营收和净利润将持续增长，2025-2027年复合增速分别为55.52%、32.35%和25.47%。
• 技术拓展：公司将持续推进ALD、SACVD、HDPCVD等技术的深入应用，并积极布局混合键合设备，拓展三维集成市场。

结论

拓荆科技凭借其在薄膜沉积设备领域的深厚积累和持续的技术创新，在国内半导体设备市场占据领先地位。随着国产替代进程加快和晶圆厂产能扩张，公司未来发展前景广阔，具备成为半导体设备行业龙头的潜力。