20260404-东方证券-电子行业动态跟踪_光刻胶导入边际加速_3页_308kb

报告摘要

光刻胶作为半导体制造中的关键感光材料，主要用于将电路图案转移到硅片上。其技术壁垒较高，导入晶圆厂需经过严格的验证流程，周期较长。根据弗若斯特沙利文数据，2028年中国境内半导体光刻胶市场规模预计将达到150.3亿元，其中高端市场主要由JSR、TOK、信越化学等日本企业占据。

光刻胶按曝光波长分为G线、I线、KrF、ArF及EUV光刻胶。随着制程向先进迭代，ArF光刻胶（含浸没式）的用量显著增加，其在全球市场中的价值占比接近50%。目前，国内企业在G线/I线光刻胶领域已实现较高自给率，而KrF及ArF光刻胶国产化率仍较低。

市场前景：2028年中国光刻胶市场规模将达150.3亿元，高端市场仍由日企主导。
产品升级：ArF光刻胶因先进制程需求，用量持续上升，成为行业关注焦点。
国产化进展：
- 鼎龙股份：已有3款ArF/KrF光刻胶进入稳定批量供应，二期年产300吨量产线已建成。
- 彤程新材：ArF/KrF光刻胶已通过多家客户验证，逐步实现切线上量。
- 上海新阳：具备I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式光刻胶的完整研发与生产平台，ArF浸没式已有销售订单。
- 八亿时空：百吨级KrF光刻胶树脂产线已建成并开始量产。
- 圣泉集团：G线/I线光刻胶用酚醛树脂已实现量产，KrF光刻胶用PHS树脂处于市场导入阶段。
投资建议：关注光刻胶导入节奏较快的相关标的，包括鼎龙股份、彤程新材、上海新阳、恒坤新材、南大光电、华懋科技、晶瑞电材、雅克科技、艾森股份。