光刻胶行业深度报告：半导体材料·光刻胶投资宝典-20200413-浙商证券-58页_3mb

半导体行业深度报告：光刻胶投资宝典

核心内容

光刻胶是半导体、面板和PCB制造过程中不可或缺的关键材料，其技术壁垒高，市场潜力巨大。随着全球半导体产业链逐步向中国转移，光刻胶行业迎来了国产替代的重要窗口期。报告指出，疫情导致日本“封城”进一步放大了国内光刻胶供需矛盾，为国产替代提供了契机。

主要观点

1. 光刻胶的市场潜力

• 全球光刻胶市场在2010年至今年均复合增长率（CAGR）约为5.4%，预计未来3年仍将以年均5%的速度增长，至2022年市场规模将超过100亿美元。
• 中国光刻胶市场本土供应增长迅速，2011年至2019年年均增长率达11%，高于全球平均增速。
• 预计2022年中国半导体光刻胶市场将达55亿元，面板光刻胶市场将达105亿元，合计约160亿元，市场空间巨大。

2. 国产替代窗口期

• 国内晶圆厂在2020-2022年将迎来密集投产，为光刻胶国产替代提供了良好契机。
• 国内中低端光刻胶已实现技术突破并形成产能，中高端光刻胶技术也逐步成熟。
• 国家政策支持（如“02专项”）和大基金投入，推动光刻胶国产化进程。

3. 光刻胶技术与应用

• 光刻胶根据光化学反应类型分为正性与负性光刻胶，以及根据化学结构分为光聚合型、光分解型、光交联型和化学放大型。
• 光刻胶是半导体制造过程中成本占比约4%的重要材料，占芯片制造成本约35%。
• 光刻胶对分辨率有直接影响，随着制程工艺向纳米级演进，对光刻胶性能要求越来越高。

关键信息

1. 光刻胶的应用场景

• 半导体制造：光刻胶用于芯片制造的多个步骤，如涂胶、曝光、显影、蚀刻等。
• 面板制造：用于TFT-LCD的阵列制造、滤光片制造和触摸屏制造。
• PCB制造：用于线路布局图形转移，包括干膜、湿膜和感光阻焊油墨。

2. 光刻胶的分类

• 按照曝光波长分类：紫外光刻胶（300~450nm）、深紫外光刻胶（160~280nm）、极紫外光刻胶（EUV，13.5nm）。
• 按照光刻工艺分类：包括静态旋转法、动态喷洒法等。
• 按照光刻胶的化学结构分类：光聚合型、光分解型、光交联型、化学放大型。

3. 光刻胶市场结构

• 全球光刻胶市场由日本、美国、韩国等主导，其中日本占据主导地位。
• 中国光刻胶市场以PCB光刻胶为主，面板和半导体光刻胶占比低，但增长迅速。

重点企业

A股上市公司

• 南大光电：主要生产半导体光刻胶，已实现部分中高端产品国产化。
• 雅克科技：从其他半导体化学品业务切入光刻胶领域。
• 上海新阳：专注于光刻胶及配套试剂。
• 晶瑞股份：以面板材料为基础，逐步向半导体光刻胶扩展。
• 容大感光：具备光刻胶及配套产品生产能力。
• 飞凯材料：在光刻胶领域有较强竞争力。
• 永太科技、江化微、强力新材等也涉足光刻胶业务。

非上市公司

• 北京科华微电子、北旭电子、江苏博砚、中电彩虹等企业也在光刻胶领域有较强实力。

风险提示

1. 客户进展较慢
2. 价格下降
3. 行业景气度下行

行业催化剂

1. 晶圆厂建设超预期
2. 国产替代率超预期

行业评级

• 看好：半导体行业整体处于上升轨道，光刻胶作为关键材料，将迎来发展机遇。

市场趋势

• 全球晶圆厂产能持续扩张，中国将占新增产能的一半。
• 显示面板产业向中国转移，推动光刻胶市场需求增长。
• PCB行业全球产能向中国集中，中国已占据全球PCB产值的一半。

技术演进

• 光刻技术从g-line、i-line逐步向KrF、ArF发展，至EUV技术的出现。
• CAR技术体系成为深紫外光刻胶的主流，具有高分辨率和高效率。
• 浸没光刻和双重曝光技术提升光刻分辨率，推动光刻胶性能需求升级。

政策支持

• 国家出台多项政策支持半导体产业发展，如《国家集成电路产业发展推进纲要》、《中国制造2025》等。
• 地方政府积极布局，推动集成电路产业链建设，带动光刻胶需求。

市场预测

• 2022年中国半导体光刻胶市场规模预计达55亿元，面板光刻胶市场预计达105亿元。
• 中国光刻胶市场增速远超全球，未来三年增长空间广阔。

行业前景

• 随着国产替代进程加快，光刻胶行业将迎来发展机遇。
• 中国光刻胶企业需在中高端领域实现突破，以应对国际大厂竞争。
• 光刻胶市场前景广阔，未来3年将保持稳定增长。