20210527-光大证券-光刻胶行业跟踪报告之一_日本光刻胶供应不足_看好国产替代的先锋队_5页_549kb

光刻胶行业跟踪报告总结

核心内容

光刻胶作为光刻工艺中的关键材料，被称为“光刻工艺的粮食”。其在全球半导体制造中占据重要地位，尤其在高端领域，如7nm及以下制程工艺中，光刻胶的性能直接影响芯片制造质量。目前，全球光刻胶市场主要由日本企业主导，市场份额高达97%，其中JSR、东京应化、信越化学等占据主导地位。国内光刻胶企业在高端市场仍处于起步阶段，国产化率低，但随着国家政策支持及技术进步，国产替代进程正在加快。

主要观点

1. 光刻胶的重要性
   光刻胶在芯片制造中成本占比约30%，耗时占比约40%-50%，是芯片制造中最核心的工艺材料之一。

2. 全球供应格局
   全球光刻胶市场高度集中，日本企业占据主导地位，尤其在KrF、ArF、EUV等高端光刻胶领域。中国企业在这些高端领域仍依赖进口，国产化率不足5%。

3. 国内发展现状
   国内光刻胶企业在低端市场（如PCB光刻胶）已实现较高国产化率（>50%），但在高端半导体光刻胶（如ArF、EUV）领域仍面临技术瓶颈。

4. 国产替代加速
   由于日本地震导致信越化学KrF光刻胶产能受损，中国大陆部分晶圆厂面临供应紧张问题，推动了国产替代进程。同时，国家政策支持和企业研发投入增加，为国产光刻胶发展提供了契机。

5. 重点企业分析

   • 彤程新材：通过收购北京科华，实现对电子化学品业务的并表，布局半导体及平板显示光刻胶项目，未来增长潜力大。
   • 晶瑞股份：在半导体和新能源锂电材料领域均有布局，尤其在ArF光刻胶研发方面取得突破，打破国外垄断。
   • 上海新阳：购买ASML光刻机用于高端光刻胶研发，具备一定的技术储备。
   • 南大光电：自主研发的ArF光刻胶通过客户认证，实现小批量销售，是国内首个通过认证的国产ArF光刻胶。
   • 华懋科技：投资徐州博康，切入半导体关键材料领域，技术体系完整，未来有望成为行业龙头。

关键信息

• 光刻胶按曝光波长分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶等。
• 光刻胶的应用市场包括半导体、LCD、PCB及其他领域。
• 全球半导体光刻胶市场中，KrF光刻胶占比最高（28%），其次是ArF（22%）和g/i线（14%）。
• 国内光刻胶企业面临研发成本高、技术壁垒大等挑战，但已逐步取得进展。
• 国产替代的先锋队包括彤程新材、晶瑞股份、上海新阳、南大光电和华懋科技。

行业与公司评级

• 行业评级：化工行业“增持”，电子行业“买入”。
• 公司评级：建议关注彤程新材、晶瑞股份、上海新阳、南大光电、华懋科技。

风险提示

• 下游需求不及预期：若移动终端、新能源汽车等应用领域发展缓慢，可能影响半导体行业景气度及光刻胶需求。
• 研发进度不及预期：光刻胶研发周期长、成本高，存在技术突破失败的风险。

总结

光刻胶行业是半导体制造的核心环节，目前全球市场由日本企业主导，国产化率在高端领域较低。然而，随着日本地震导致供应短缺以及国家政策的推动，国产替代进程加快。国内企业如彤程新材、晶瑞股份、上海新阳、南大光电和华懋科技正在通过技术突破、并购整合和研发投入等方式，逐步提升在高端光刻胶市场的竞争力。未来，随着技术进步和市场拓展，这些企业有望在光刻胶国产替代中占据重要地位。