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拓荆科技股份有限公司2022年半年度报告总结

公司概况

• 公司代码：688072
• 公司简称：拓荆科技
• 公司全称：拓荆科技股份有限公司
• 法定代表人：吕光泉
• 注册及办公地址：辽宁省沈阳市浑南区水家900号
• 公司网址：www.piotech.cn
• 电子信箱：ir@piotech.cn

核心内容概述

财务表现

• 营业收入：523,216,870.90元，同比增长364.87%
• 净利润：108,122,692.12元，实现扭亏为盈
• 扣除非经常性损益净利润：49,150,276.77元，同比增长1.17亿元
• 经营活动产生的现金流量净额：261,341,641.50元，同比增长2.94亿元
• 净资产：3,429,681,082.65元，同比增长187.58%
• 总资产：5,601,016,787.77元，同比增长122.46%
• 基本每股收益：1.03元/股，同比增长1.24元/股
• 研发投入占营业收入比例：22.46%，同比下降49.22个百分点

技术研发与产品

• 主要产品：PECVD、ALD、SACVD设备

• 产品特点：

  • PECVD设备：可沉积多种介质薄膜材料，支持8英寸与12英寸晶圆，具备高产能和低生产成本优势
  • ALD设备：用于高深宽比、极窄沟槽开口的薄膜沉积，应用于逻辑芯片、存储芯片及先进封装领域
  • SACVD设备：用于沟槽填充工艺，适用于DRAM存储芯片制造等

• 研发投入：本期研发投入为1.18亿元，同比增长45.66%，主要因研发直接投入和研发人员薪酬增加

• 研发成果：累计申请专利625项，获得专利187项，其中发明专利107项

核心技术与竞争优势

• 核心技术：

  • 先进薄膜工艺设备设计技术
  • 反应模块架构布局技术
  • 高产能平台技术
  • 等离子体稳定控制技术
  • 反应腔关键件设计技术
  • 气体输运控制系统
  • 气体高速转换系统设计技术
  • 反应腔温度控制技术

• 核心竞争力：

  • 技术优势：拥有丰富的技术储备和国际先进的核心技术，产品性能达到国际同类设备水平
  • 研发团队：国际化、专业化的研发团队，具备深厚的专业知识和丰富的产线验证经验
  • 市场地位：国内领先的半导体薄膜沉积设备厂商，打破国际厂商在高端设备领域的垄断
  • 客户资源：与国内主要集成电路晶圆厂建立稳定合作关系，市场占有率不断提升
  • 供应链优势：拥有稳定的供应链体系，运营成本相对较低

行业情况与市场前景

• 行业地位：半导体设备是半导体产业链的技术先导者，国内半导体设备市场主要依赖进口，国产替代空间广阔
• 行业增长：2022年全球半导体设备市场保持增长，中国大陆成为全球晶圆厂新增产能中心
• 薄膜沉积设备市场：
  • 2021年全球市场规模约210亿美元，中国大陆市场占比约28.87%
  • 2022年预计全球市场规模达到250亿美元，中国大陆市场持续增长
• 发展趋势：
  • 芯片工艺进步推动薄膜沉积设备需求增加
  • 28nm及以下制程设备需求增长显著，推动设备研发和产业化进程
  • 3D NAND、DRAM等存储芯片制造对薄膜沉积设备依赖度提升

重要事项与风险提示

• 风险提示：公司已对可能存在的风险进行详细说明，但未提及重大风险
• 未出席董事情况：杨征帆董事无法取得联系，未委托他人代为行使职权
• 利润分配预案：无
• 公司治理：无特殊安排
• 前瞻性陈述：公司未来计划、发展战略等前瞻性陈述不构成实质承诺
• 非经常性损益：非经常性损益合计58,972,415.35元，主要来源于政府补助及股份支付影响

产品与市场拓展

• 产品应用领域：
  • 28nm及以上逻辑芯片、3D NAND FLASH、DRAM存储芯片制造
  • 先进封装领域
• 订单增长：公司设备在客户端产线累计流片量增加至7100余万片，平均机台稳定运行时间超过90%
• 新产品布局：
  • TS-300（多边形高产能平台）
  • HDPCVD设备
  • PE-ALD设备
  • Thermal-ALD设备
  • 深沟槽填充薄膜工艺设备
  • 三维集成设备

研发投入与人员构成

• 研发投入：
  • 费用化研发投入1.18亿元，同比增长45.66%
  • 研发人员296人，占公司总人数的43.72%，其中硕士及以上学历占比55.41%
• 研发人员薪酬：本期合计4,153.92万元，同比增长1.88亿元

结论

拓荆科技在2022年上半年实现了显著的业绩增长，营业收入和净利润均大幅上升，主要得益于国内半导体行业的快速发展及公司产品竞争力的提升。公司核心技术达到国际先进水平，研发投入持续增加，产品线不断拓展，市场占有率稳步提升。同时，公司注重供应链管理和客户服务，增强了市场竞争力。未来，随着半导体行业向先进制程发展，拓荆科技有望在薄膜沉积设备领域继续扩大市场份额。