20260531-华鑫证券-拓荆科技-688072.SH-公司动态研究报告_半导体设备迎来升级窗口_薄膜沉积+三维集成_技术领先_5页_507kb

拓荆科技公司动态研究报告总结

核心内容

拓荆科技（688072.SH）作为一家专注于半导体设备研发与生产的公司，近年来在薄膜沉积及三维集成设备领域取得了显著的技术突破和规模化量产能力，成为行业中的领先者。随着先进制程和三维集成技术的发展，传统薄膜沉积材料已无法满足芯片制造的新需求，高端薄膜沉积设备迎来了升级窗口。公司凭借在 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD 等设备的技术优势，推动了业务的快速增长。

主要观点

• 技术领先：公司在薄膜沉积和三维集成设备领域具备核心技术，能够满足先进制程对高深宽比、高刻蚀选择比等工艺的需求。
• 市场需求增长：3D NAND、HBM、3D DRAM、CIS 等技术的兴起推动了混合键合设备的广泛应用，形成多领域需求共振。
• 财务表现优异：2025 年公司实现营业收入 65.19 亿元，同比增长 58.87%；归母净利润 9.27 亿元，同比增长 34.67%。2026 年一季度营收同比增长 56.97%，净利润同比增长 488.29%。
• 盈利预测乐观：预计公司 2026-2028 年收入分别为 85.10、108.98、150.10 亿元，EPS 分别为 5.55、8.56、10.20 元，当前股价对应的 PE 分别为 113、73、62 倍，未来盈利能力有望持续提升。
• 投资评级：分析师维持“买入”投资评级，认为公司具备长期增长潜力。

关键信息

技术产品线

拓荆科技已形成包括 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD 等薄膜沉积设备，以及晶圆对晶圆混合键合、熔融键合、芯片对晶圆混合键合等三维集成设备产品线。

财务预测

财务指标趋势

• 毛利率：预计从 2025 年的 35.0% 逐步提升至 2028 年的 37.8%。
• 净利率：从 2025 年的 14.0% 提升至 2028 年的 19.0%。
• ROE：预计从 2025 年的 13.0% 提升至 2028 年的 21.8%。
• 资产负债率：预计从 2025 年的 64.1% 逐步下降至 2028 年的 52.4%。

增长驱动因素

• 先进制程需求：如 GAA、高 K 金属栅、背面供电等技术推动了对高端薄膜沉积设备的需求。
• 三维集成技术：混合键合技术在 3D NAND、HBM、3D DRAM 和 CIS 等应用中展现出显著优势。
• 研发投入：公司持续加大研发投入，推动产品创新与技术迭代，强化核心竞争力。

风险提示

• 宏观经济波动：可能影响半导体行业整体需求。
• 研发不及预期：技术突破可能滞后于行业预期。
• 行业竞争加剧：市场集中度提升可能带来竞争压力。
• 下游需求变化：如芯片制造技术路线调整，可能影响设备需求。

投资建议

华鑫证券分析师团队对拓荆科技的未来发展持积极态度，认为其在薄膜沉积和三维集成设备领域具备技术优势与市场潜力，维持“买入”投资评级。

分析师团队

• 何鹏程：悉尼大学金融硕士，中南大学软件工程学士，专注半导体、PCB 行业。
• 张璐：早稻田大学国际政治经济学学士，香港大学经济学硕士，专注光通信、存储等领域。
• 石俊烨：香港大学金融硕士，新南威尔士大学精算学与统计学双学位，研究方向为 PCB 方向。

投资评级说明

• 股票投资评级：买入（预期个股涨幅 >20%）。
• 行业投资评级：推荐（预期行业涨幅 >10%）。

免责条款

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