20221213-光大证券-半导体设备行业跟踪_盛美上海进军PECVD_助力薄膜沉积设备国产化并打开成长空间_2页_303kb

行业研究总结：盛美上海进军PECVD，助力薄膜沉积设备国产化

核心内容

盛美上海近期宣布推出拥有自主知识产权的Ultra Pmax™ PECVD设备，标志着其正式进军薄膜沉积设备市场，拓展了新的产品分类。这一举措不仅有助于提升国产半导体设备的竞争力，也为公司打开了长期成长空间。

主要观点

• PECVD的重要性：PECVD是薄膜沉积工艺中最广泛使用的设备之一，相比传统CVD设备，其优势在于可在较低反应温度下形成高致密度、高性能薄膜，不破坏已有薄膜和底层电路，沉积速度快。
• 市场占比：PECVD设备占全球薄膜沉积设备市场约34%，占WFE（半导体设备市场）约7.5%。2021年全球薄膜沉积设备市场规模为207亿美元，对应PECVD市场规模约为70亿美元。中国大陆PECVD市场规模约20亿美元，占全球约29%。
• 市场竞争格局：目前PECVD设备市场主要由Applied Materials、Lam Research和拓荆科技等企业主导，其中Lam Research占据较大市场份额，拓荆科技实现12英寸PECVD设备的国产化。
• 国产替代进展：拓荆科技、陛通半导体和盛美上海在PECVD国产化方面取得显著进展，其中拓荆科技在2022年前三季度实现9.92亿元收入，同比增长165%。陛通半导体和盛美上海也相继推出12英寸PECVD设备，推动国产替代进程。
• 技术差异化：盛美上海的Ultra Pmax PECVD设备在腔体、气体分配装置和卡盘设计上具有自主知识产权，能够提供更好的薄膜均匀性、更小的薄膜应力和更少的颗粒特性。
• 产品平台扩展：盛美上海已构建PECVD、涂胶显影、炉管（ALD、LPCVD等）、铜电镀和清洗五大类产品平台，覆盖更广泛的市场，预计目标市场规模从80亿美元提升至160亿美元。

关键信息

• 市场前景：随着半导体行业对高性能薄膜沉积设备的需求增长，PECVD市场具有较大的发展空间。
• 技术突破：盛美上海通过自主研发，提升了国产设备的技术水平，增强了市场竞争力。
• 客户拓展：盛美上海已计划向中国集成电路客户交付首台PECVD设备，显示其市场拓展能力。
• 风险提示：包括外部环境不确定性、技术迭代风险以及美国可能进一步限制关键设备和零部件出口的风险。

估值与分析方法说明

本报告所采用的分析方法及估值模型基于合理假设，存在一定的局限性，不能保证分析结果的准确性。投资者应结合自身情况独立判断。

分析师声明

本报告由光大证券股份有限公司分析师杨绍辉撰写，基于合法合规的信息，独立、客观地分析市场情况，不与任何具体推荐意见存在直接或间接联系。

法律主体声明

本报告由光大证券股份有限公司制作，具有合法的证券投资咨询业务资格，仅在中华人民共和国境内（不包括港澳台）分发，仅供特定客户使用。

版权声明

本报告的版权归光大证券股份有限公司所有，未经书面许可，任何机构和个人不得以任何形式、任何目的进行翻版、复制、转载、刊登、发表、篡改或引用。

联系信息

• 光大证券研究所
  上海：静安区南京西路1266号恒隆广场1期办公楼48层
  北京：西城区武定侯街2号泰康国际大厦7层
  深圳：福田区深南大道6011号NEO绿景纪元大厦A座17楼
• 光大证券股份有限公司关联机构
  香港：中国光大证券国际有限公司，地址：香港铜锣湾希慎道33号利园一期28楼
  英国：Everbright Securities(UK) Company Limited，地址：64 Cannon Street, London, United Kingdom EC4N 6AE