公司概述
至纯科技成立于2000年,2017年在科创板上市,是国内领先的半导体清洗设备与高纯工艺系统提供商,同时涉足电子材料、部件清洗及晶圆再生等细分领域。公司技术实力雄厚,产品广泛应用于集成电路、平板显示、光伏、生物制药等领域。
核心内容与主要观点
1. 公司为国内半导体清洗设备与高纯工艺系统龙头,业绩优秀
- 股权结构集中:蒋渊、陆龙英及尚纯投资为一致行动人,合计持股29.33%,公司实际控制人蒋渊女士直接持股22.12%。
- 业务布局:公司设立五个事业部,分别负责高纯工艺系统、半导体湿法清洗设备、光电子、晶圆再生及设备零部件等业务。
- 业绩表现:2017-2021年公司营业收入由3.69亿元增长至20.84亿元,CAGR达54.16%。2022年前三季度营收19.25亿元,扣非净利润1.86亿元,分别同比增长50.13%和130.54%。
- 毛利率稳定:公司毛利率稳定在36%左右,2022年前三季度毛利率为35.48%。
2. 高纯工艺系统应用广泛,公司实力强大,成长动力充足
- 应用场景广泛:高纯工艺系统广泛应用于泛半导体(集成电路、光伏、LED等)及生物制药、食品饮料等领域。
- 行业特点:客户依赖性强、技术要求高,导致行业壁垒高,国际供应商仍占据主要市场份额,但本土企业正逐步实现进口替代。
- 公司优势:公司拥有丰富客户资源,已为多家行业领军企业提供服务,如长江存储、中芯国际、华虹等。2021年高纯工艺系统收入达10.78亿元,占总营收的52%。
- 技术优势:公司已实现ppb(十亿分之一)级的不纯物控制,核心技术强于国内竞争者。
3. 半导体清洗设备国产替代空间大,公司积极扩产,布局细分赛道,前景可期
- 市场空间大:清洗设备占半导体设备投资份额的5%,全球市场规模大,中国市场份额持续提升。
- 湿法清洗为主:湿法清洗占清洗设备的90%,公司湿法清洗设备可满足28nm及以下制程需求。
- 国产替代进展:公司已成功完成多项湿法清洗设备研发,实现产品国产化,2022H1新增订单8.06亿元,同比增长87.44%。
- 晶圆再生布局:公司在合肥布局晶圆再生及部件清洗项目,是国内首条投产的12寸晶圆再生产线,具有显著的经济与技术价值。
关键信息
- 市场前景:随着国内晶圆厂扩产及国产替代趋势,公司订单饱满,成长动力充足。
- 盈利预测:预计2022-2024年公司可分别实现归母净利润3.47/4.98/6.52亿元,EPS分别为1.08/1.56/2.04元,当前股价对应PE为38.5/26.8/20.5倍。
- 技术发展:公司持续投入研发,推动湿法清洗设备及零部件国产化进程,2022年新增订单目标为20亿元。
- 风险提示:原材料价格上涨、客户验证不及预期、下游需求不及预期。
财务摘要
营业收入(单位:百万元)
| 年份 |
2020A |
2021A |
2022E |
2023E |
2024E |
| 营业收入 |
1397 |
2084 |
3013 |
4025 |
5042 |
| YOY |
41.6% |
49.2% |
44.6% |
33.6% |
25.3% |
归母净利润(单位:百万元)
| 年份 |
2020A |
2021A |
2022E |
2023E |
2024E |
| 归母净利润 |
261 |
282 |
347 |
498 |
652 |
| YOY |
136.4% |
8.1% |
23.1% |
43.6% |
30.9% |
毛利率(%)
| 年份 |
2020A |
2021A |
2022E |
2023E |
2024E |
| 毛利率 |
36.8 |
36.2 |
37.8 |
39.0 |
39.7 |
EPS(元)
| 年份 |
2020A |
2021A |
2022E |
2023E |
2024E |
| EPS |
0.81 |
0.88 |
1.08 |
1.56 |
2.04 |
PE(倍)
| 年份 |
2020A |
2021A |
2022E |
2023E |
2024E |
| PE |
51.2 |
47.4 |
38.5 |
26.8 |
20.5 |
投资建议
公司作为国内半导体清洗设备与高纯工艺系统龙头,技术实力强大,产品受到市场认可,在国产品晶圆厂积极扩产及国产替代趋势下,公司在手订单饱满,成长动力充足。首次覆盖给予“买入”评级。
风险提示
- 技术研发不达预期
- 市场竞争加剧
- 下游行业扩产进展不及预期