20211205-光大证券-国内半导体设备招投标月度数据跟踪第6期(2021年12月)_北方华创设备中标量环比上升_至纯科技中标清洗设备_13页_634kb
报告摘要
行业研究总结:2021年12月国内半导体设备招投标数据跟踪
核心内容
本报告分析了2021年12月国内半导体设备的招投标数据,涵盖晶圆厂商与设备厂商的中标情况,并提供了相关投资建议与风险分析。
主要观点
- 设备需求持续增长:2021年12月,国内半导体设备招投标量环比上升,显示出行业需求的稳步增长。
- 国产设备表现亮眼:多家国内设备厂商在12月中标,表明国产替代进程加快。
- 重点设备领域包括:薄膜沉积、刻蚀、清洗、检测、封装等,其中湿法清洗、干法刻蚀和后道测试机是主要需求方向。
- 部分设备领域仍依赖进口:光刻机和部分高端设备尚未实现完全国产化,仍需关注国际厂商动态。
关键信息
晶圆厂商招标数据
- 中芯国际 (绍兴):后道测试机+7台,分选机+4台,后道封装+8台。
- 华虹半导体:CVD+2台,干法刻蚀+1台,湿法清洗+2台,离子注入+3台,氧化扩散+2台,后道封装+6台。
- 华力微电子:PVD+1台,CVD+3台。
- 长江存储:PVD+4台,ALD+1台,干法刻蚀+2台,退火+3台,氧化扩散+3台。
- 上海积塔半导体:前道检测+1台,前道计量+1台。
- 华润微:PVD+2台,干法刻蚀+1台,去胶+2台。
- 上海新微:EPI+1台,前道检测+2台,后道测试机+3台,后道封装+1台。
- 比亚迪半导体:后道封装+2台。
- 燕东微电子:湿法清洗+1台。
设备厂商中标数据
- 北方华创:PVD+4台,干法刻蚀+3台,退火+3台,氧化扩散+3台。
- 华峰测控:后道检测+2台。
- 芯源微:涂胶显影+1台。
- 沈阳拓荆:CVD+1台。
- 华海清科:CMP+1台。
- 中科飞测:前道检测+1台。
- 至纯科技:湿法清洗+1台。
投资建议
- 上市公司:建议关注北方华创、中微公司、至纯科技、万业企业(凯世通)、芯源微、盛美上海、长川科技、华峰测控、华兴源创、精测电子、晶盛机电、光力科技、盛剑环境、正帆科技、ASM Pacific(H)。
- 非上市公司:屹唐半导体、华海清科、沈阳拓荆、上海微电子、睿励科学仪器、东方晶源。
半导体材料行业投资建议
- 上市公司:雅克科技、彤程新材、晶瑞电材、鼎龙股份、安集科技、上海新阳、江化微、南大光电、神工股份、立昂微、沪硅产业-U、华特气体、金宏气体。
风险分析
- 国产化进度不及预期:若国产设备研发和生产未能达到预期,可能影响市场份额。
- 晶圆厂扩张不及预期:若晶圆厂建设进度缓慢,可能导致设备需求下降。
- 技术研发不及预期:若技术突破不如预期,可能影响设备性能和竞争力。
公司盈利预测与估值简表
| 代码 | 简称 | 市值 (亿元) | 归母净利润(亿元)2021E | 归母净利润(亿元)2022E | PE 2021E | PE 2022E | PS 2021E | PS 2022E |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 002371.SZ | 北方华创 | 2034 | 8.89 | 12.54 | 229 | 162 | 22 | 16 |
| 688012.SH | 中微公司 | 967 | 6.45 | 8.01 | 150 | 121 | 31 | 22 |
| 600641.SH | 万业企业 | 342 | 4.15 | 5.21 | 82 | 66 | 28 | 22 |
| 603690.SH | 至纯科技 | 178 | 3.30 | 4.30 | 54 | 41 | 9 | 7 |
| 300604.SZ | 长川科技 | 347 | 2.18 | 3.44 | 159 | 101 | 24 | 18 |
| 002409.SZ | 雅克科技 | 371 | 5.98 | 8.41 | 62 | 44 | 10 | 8 |
| 603650.SH | 彤程新材 | 305 | 4.68 | 6.73 | 65 | 45 | 12 | 9 |
| 300655.SZ | 晶瑞电材 | 169 | 2.15 | 3.17 | 78 | 53 | 10 | 7 |
数据分析
2021年国内半导体设备招投标数据总览
| 设备类型 | 1月 | 2月 | 3月 | 4月 | 5月 | 6月 | 7月 | 8月 | 9月 | 10月 | 11月 | 汇总 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 薄膜沉积设备 | ||||||||||||
| PVD | 8 | 5 | 7 | 9 | 14 | 2 | 1 | 1 | 6 | 4 | 7 | 64 |
| CVD | 14 | 12 | 18 | 58 | 53 | 13 | 1 | 5 | 24 | 37 | 5 | 240 |
| ALD | 1 | 1 | 11 | 1 | 6 | 0 | 0 | 12 | 1 | 0 | 1 | 34 |
| EPI | 2 | 0 | 0 | 2 | 4 | 0 | 1 | 1 | 1 | 0 | 1 | 12 |
| ECP | 1 | 1 | 0 | 0 | 2 | 0 | 0 | 0 | 2 | 0 | 0 | 6 |
| MOCVD | 0 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 |
| 光刻机 | 6 | 0 | 0 | 3 | 3 | 0 | 0 | 9 | 0 | 0 | 1 | 22 |
| 其他光刻设备 | 0 | 0 | 0 | 1 | 4 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 5 |
| 干法刻蚀 | 25 | 10 | 12 | 31 | 58 | 14 | 4 | 2 | 30 | 10 | 5 | 201 |
| 湿法刻蚀 | 1 | 1 | 2 | 3 | 5 | 4 | 0 | 0 | 2 | 1 | 0 | 19 |
| 前道检测与计量 | ||||||||||||
| 检测 | 32 | 6 | 9 | 5 | 11 | 14 | 4 | 6 | 6 | 23 | 18 | 134 |
| 计量 | 14 | 1 | 0 | 2 | 4 | 9 | 1 | 1 | 15 | 1 | 1 | 49 |
| 成分分析 | 1 | 1 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 |
| FIB | 0 | 0 | 1 | 0 | 1 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 |
| 清洗设备 | ||||||||||||
| 干法清洗 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 |
| 湿法清洗 | 9 | 4 | 4 | 24 | 21 | 25 | 2 | 3 | 11 | 6 | 3 | 112 |
| 去胶 | 8 | 6 | 2 | 0 | 8 | 19 | 1 | 3 | 9 | 1 | 2 | 59 |
| 刷片机 | 5 | 0 | 0 | 0 | 3 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 9 |
| 晶圆盒清洗 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 | 2 | 0 | 1 | 0 | 2 | 0 | 6 |
| 涂胶显影设备 | ||||||||||||
| 涂胶显影 | 6 | 0 | 7 | 7 | 1 | 1 | 1 | 2 | 5 | 0 | 0 | 30 |
| 涂胶 | 2 | 0 | 1 | 2 | 5 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 | 1 | 12 |
| 显影 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 3 | 1 | 1 | 0 | 0 | 0 | 5 |
| 固化 | 0 | 0 | 0 | 1 | 0 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 2 |
| 化学机械研磨&抛光机 | ||||||||||||
| 化学机械研磨 | 6 | 2 | 1 | 19 | 5 | 2 | 0 | 3 | 6 | 3 | 1 | 48 |
| 抛光机 | 0 | 0 | 0 | 1 | 4 | 0 | 3 | 1 | 0 | 0 | 0 | 9 |
| 退火及热处理设备 | ||||||||||||
| 退火 | 12 | 5 | 2 | 20 | 4 | 10 | 1 | 4 | 5 | 4 | 3 | 70 |
| 热处理 | 5 | 0 | 0 | 0 | 2 | 0 | 0 | 0 | 2 | 0 | 0 | 9 |
| 离子注入及氧化扩散设备 | ||||||||||||
| 离子注入 | 17 | 2 | 0 | 7 | 6 | 2 | 1 | 1 | 2 | 6 | 3 | 47 |
| 氧化扩散 | 23 | 3 | 4 | 5 | 54 | 15 | 6 | 3 | 0 | 2 | 5 | 120 |
| 后道检测设备 | ||||||||||||
| 测试机 | 4 | 5 | 16 | 141 | 50 | 26 | 55 | 12 | 21 | 15 | 12 | 357 |
| 分选机 | 0 | 1 | 0 | 2 | 17 | 1 | 0 | 2 | 17 | 1 | 4 | 45 |
| 探针台 | 100 | 0 | 0 | 15 | 11 | 18 | 0 | 9 | 0 | 20 | 0 | 173 |
| 后道封装设备 | ||||||||||||
| 背金 | 0 | 0 | 1 | 0 | 2 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 4 |
| 焊接 | 2 | 1 | 3 | 1 | 5 | 0 | 1 | 0 | 25 | 0 | 3 | 41 |
| 键合 | 32 | 5 | 6 | 0 | 5 | 10 | 2 | 1 | 14 | 0 | 7 | 82 |
| 切割 | 15 | 9 | 5 | 3 | 15 | 7 | 5 | 0 | 32 | 1 | 7 | 99 |
| 塑封 | 5 | 1 | 3 | 0 | 1 | 1 | 1 | 0 | 0 | 0 | 0 | 12 |
结论
2021年12月,国内半导体设备招投标数据呈现出增长趋势,尤其在湿法清洗、干法刻蚀和后道测试机等领域。北方华创和至纯科技等公司表现突出,获得较多订单。同时,光刻机等高端设备仍主要依赖进口,国产替代仍需时间。整体来看,半导体设备行业具有较高的投资价值,但需关注国产化进程、晶圆厂扩张和技术研发等风险因素。
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