深度报告-20220506-西部证券-中微公司-688012.SH-首次覆盖报告_内生外延促成长_中国版泛林初具雏形_34页_2mb
报告摘要
中微公司深度研究报告总结
核心内容
中微公司(688012.SH)是一家专注于半导体介质刻蚀设备研发及产业化的国内龙头企业,成立于2004年,主要产品包括半导体刻蚀设备、MOCVD设备、薄膜沉积设备(CVD)及环保设备,产品型号接近20余款,客户覆盖台积电、三星、华虹等国内外一线逻辑、存储和功率晶圆厂商。
主要观点
- 行业地位与增长潜力:公司深耕刻蚀设备近20年,覆盖80%以上的前道晶圆制程工艺,是全球逻辑、存储晶圆厂商先进制程工艺刻蚀设备的核心供应商。随着集成电路尺寸缩小、结构立体化及工艺复杂化,公司刻蚀产品逐步丰富,高端产品市占率持续提升。
- 多元化产品布局:公司已从刻蚀设备拓展至MOCVD设备、CVD设备、EPI设备及环保设备等,产品线丰富,未来增长空间广阔。
- 研发投入与技术优势:公司高度重视研发投入,2021年研发投入达7.28亿元,占营收比例较高。核心技术人员来自国际知名企业,具备丰富的行业经验,确保公司技术领先。
- 市场高景气度:全球半导体设备行业持续高景气,中国设备市场规模稳居全球首位。晶圆厂持续扩产,带动设备需求快速增长。
- 定增募资与产能扩张:公司通过定增募资82亿元,用于建设产业化基地和研发中心,以提升产能和产品竞争力,夯实未来发展基础。
关键信息
营收与利润增长
- 2021年营业收入为31.08亿元,同比增长36.7%,2017~2021年年均复合增速达34.0%。
- 2022~2024年预计营业收入分别为45.45亿元、62.72亿元、84.26亿元,年增长率分别为46.2%、38.0%、34.3%。
- 2022~2024年归母净利润分别为10.72亿元、13.06亿元、17.09亿元,同比增长分别为6.0%、21.8%、30.9%。
投资建议
- 给予公司2022年18倍PS估值,对应目标价132.8元/股,首次覆盖,给予“买入”评级。
风险提示
- 下游客户验证不及预期;
- 竞争加剧;
- 部分关键零部件存在“卡脖子”风险。
股权结构
- 公司无控股股东和实际控制人,前五大股东合计持股43.76%,其中上海创投和巽鑫投资分别为第一和第二大股东,持股比例分别为21.42%和20.74%。
主要产品
- 刻蚀设备:包括CCP刻蚀设备、ICP刻蚀设备、TSV深硅刻蚀设备等,已成功进入国内外一线客户的逻辑和存储芯片制造生产线。
- MOCVD设备:在MiniLED、MicroLED及第三代半导体领域布局,2021年获得超100腔订单。
- CVD设备:自主研发的钨填充CVD设备客户验证进展顺利,EPI设备也取得积极进展。
- 环保设备:VOC设备已实现批量交付,与德国DAS环境专家有限公司战略合作。
平台化布局成效
- 公司通过内生研发与外延并购,拓展至薄膜沉积、检测设备、环保设备等领域,形成平台化布局。
- 与睿励仪器合作,布局检测设备领域,实现产业链协同。
- 通过参股上游企业如志橙半导体、靖江先锋等,降低关键零部件成本,确保供应稳定。
行业背景与趋势
- 全球半导体设备市场:2021年全球半导体设备销售额达1026亿美元,同比增长44.0%。预计2022年将继续增长11.0%,达1143亿美元。
- 中国设备市场:中国设备市场规模占比从2018年的15.5%提升至2021年的27.1%,成为全球最大半导体设备市场。
- 晶圆厂扩产:中芯国际、华虹、长江存储、长鑫存储等公司持续扩产,带动国产设备需求增长。
营收与订单增长
- 公司2021年新签订单金额同比增长90.5%,达41.3亿元,创历史新高。
- 存货和合同负债大幅增长,分别达17.6亿元和13.7亿元,表明在手订单充足。
- 2021年刻蚀设备付运腔体数达491腔,同比增长66.4%;MOCVD设备付运腔体数达100腔以上,市场表现亮眼。
毛利率与盈利能力
- 刻蚀设备毛利率长期稳定在44%左右,MOCVD设备毛利率波动较大,但随着高端设备放量,整体毛利率逐步提升至43.36%。
- 期间费用率逐步下降,净利率持续走高,盈利能力逐年增强。
技术与研发进展
- 公司拥有大量核心自主知识产权技术,如双反应台高产出率技术、接触式上电极喷淋板技术等。
- 研发人员占比达39.6%,其中本科及以上学历占比91.8%,具备较强的技术实力。
- 2021年研发投入达7.28亿元,同比增长13.8%,研发投入占比保持在20%以上。
募投项目与产能扩张
- 2021年公司完成再融资,募集资金82亿元,用于产业化基地建设、总部和研发中心建设及科技储备基金。
- 上海临港和南昌高新区基地建设持续推进,预计2024年全面达产,产能将实现十几倍增长。
- 未来三年,公司预计实现高端设备产能提升,推动业绩持续增长。
未来展望
- 公司将持续受益于半导体行业高景气度及国产替代趋势,平台化发展成效显著。
- 随着MiniLED、MicroLED及第三代半导体市场的发展,MOCVD设备和CVD设备将成为新的增长点。
- 高研发投入与技术积累,为公司未来在高端设备领域保持领先地位提供坚实基础。
总结
中微公司凭借在刻蚀设备领域的深厚积累和多元化产品布局,已成为国内半导体设备行业的领军企业。公司持续加大研发投入,积极拓展市场,受益于全球半导体设备高景气度及国内晶圆厂扩产趋势,未来增长潜力巨大。随着定增项目落地和产能扩张,公司有望进一步提升市场占有率和盈利能力,是值得重点关注的半导体设备企业。
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