机械设备行业半导体设备系列研究五：半导体清洗设备，笃行致远，厚积薄发-20180503-广发证券-31页-2mb

半导体清洗设备：核心技术与市场前景分析

核心内容

半导体清洗工艺是半导体制造过程中的关键环节，贯穿整个产业链。清洗步骤占总生产流程的30%以上，对成品良率和产品性能具有决定性影响。清洗技术包括湿法清洗和干法清洗，两者相互补充，构成了当前半导体制造的核心工艺基础。

清洗设备市场全球市场规模在2017年达到32.3亿美元，预计2020年将达37亿美元，未来五年有望增长至60-70亿美元。其中，单晶圆清洗设备因其高精度和高可靠性，将成为未来清洗设备的主流。

主要观点

1. 清洗工艺的重要性
   清洗设备在半导体制造中扮演着至关重要的角色，其对提高良率和降低生产成本具有关键作用。清洗不佳将导致器件失效超过总损失的50%。

2. 湿法与干法清洗的互补性
   湿法清洗仍是主流，但干法清洗因更清洁、无损，正逐步发展。等离子体清洗技术因其高效、环保等优势，被广泛应用于去胶等环节。

3. 清洗设备的多样化
   主要清洗设备包括单晶圆清洗设备、自动清洗台、洗刷机等，其中单晶圆清洗设备因精度高、无交叉污染，成为高精度制程的关键设备。

4. 迪恩士（SCREEN）的市场地位
   迪恩士是全球清洗设备领域的龙头，其在单晶圆清洗设备、自动清洗台、洗刷机等主要领域均占据首位市场份额。公司技术领先，产品性能优异，是行业增长的首要受益者。

5. 中国市场的崛起
   中国已成为全球半导体产业的重要市场，清洗设备需求旺盛。预计未来五年国内清洗设备市场空间将达400亿元，其中单晶圆清洗设备市场空间为278亿元。

6. 国产设备的发展潜力
   国内企业如盛美半导体、北方华创、至纯科技等正在积极布局清洗设备市场，具备较强的研发能力和市场竞争力，有望在国产替代中异军突起。

关键信息

• 清洗设备市场规模：2017年为32.3亿美元，预计2020年达37亿美元，未来五年可能翻倍至60-70亿美元。
• 清洗工艺的重要性：清洗步骤占总制程30%以上，对成品率影响显著。
• 清洗设备类型：包括单晶圆清洗设备、自动清洗台、洗刷机等，其中单晶圆清洗设备在先进制程中更具优势。
• 迪恩士市场地位：在全球清洗设备市场中占据主导地位，2017年清洗设备占其半导体业务收入的90%。
• 国产设备前景：盛美半导体、北方华创、至纯科技等企业已布局清洗设备领域，具备较强的竞争力和成长潜力。

国内清洗设备市场

• 市场空间：预计未来五年国内清洗设备市场空间为400亿元，其中单晶圆清洗设备为278亿元。
• 产线投资情况：2016年国内12寸晶圆产线数量为29条，在建和计划共43条，预计总投资额达1.1万亿元。
• 主要企业：
  • 盛美半导体：自主研发超声和兆声清洗技术，产品覆盖单晶圆清洗设备、自动清洗台、洗刷机等。
  • 北方华创：通过收购美国Akrion Systems LLC，获得先进的清洗技术，产品已应用于国内主流生产线。
  • 至纯科技：提供高纯工艺系统，业务涵盖半导体、生物医药等多个领域。

投资建议

• 关注企业：建议重点关注注重研发创新、技术领先、未来核心竞争力持续强化的国内清洗设备企业，包括北方华创、至纯科技、盛美半导体。
• 风险提示：行业投资波动、竞争加剧、技术研发不及预期、国家政策变化等风险需引起重视。

总结

半导体清洗设备是半导体制造不可或缺的环节，其技术发展与工艺节点的缩小密切相关。随着全球半导体产业向中国大陆转移，国内清洗设备市场前景广阔，具备巨大的增长潜力。迪恩士作为全球清洗设备龙头，持续受益于行业增长。而国内企业正通过技术创新和市场拓展，逐步打破国际垄断，迎来国产替代的机遇。