光伏加工设备:N型电池产业化进程加快_设备行业有哪些投资机会?_38页_2mb
报告摘要
光伏电池技术迭代与设备投资机会分析
核心内容
本报告分析了2022年光伏行业技术迭代趋势,重点围绕N型电池的产业化进程展开,分析了TOPCon、HJT和IBC三种主流N型电池技术的设备投资机会与成本结构。报告指出,降本增效是光伏行业的第一性原理,N型电池因更高的理论光电转化效率和更优的物理特性,正逐步成为行业发展的必然方向。
主要观点
- N型电池的优势:N型硅片具有更高的少子寿命、更高的金属污染容忍度、以及无光致衰减(BO-LID)现象,使得其在理论效率和实际应用中更具优势。
- 产业化进程加快:N型电池技术(TOPCon、HJT、IBC)已逐渐成熟,进入产业化阶段。预计到2030年,N型硅片市场占比将接近50%,N型电池技术市场占比将接近70%。
- 设备投资机会:不同技术路线的设备投资需求不同,TOPCon和HJT因工艺复杂,设备投资较高;IBC技术对掩膜、激光、刻蚀设备需求增加,而激光设备在TOPCon和HJT的SE制备中具有重要作用。
关键信息
N型电池技术优势
- 少子寿命:N型硅片的少子寿命比P型硅片高1-2个数量级,达到毫秒级。
- 金属污染容忍度:N型硅片对金属污染的容忍度更高,尤其对Fe、Cr、Co、W、Cu、Ni等金属。
- 无光致衰减:N型电池避免了P型电池的BO-LID现象,提高稳定性。
TOPCon技术
- 产业化进程领先:截至2022年6月15日,国内已建成TOPCon产能30.55GW,规划产能162.7GW,预计62.30GW将在年内投产。
- 设备投资成本:TOPCon设备投资成本为4500-5000万元/GW,仅在建产能带来的增量设备市场空间为80.46亿元-89.40亿元。
- 核心工艺:背钝化层、硼扩散、SE制备是TOPCon的关键工艺环节。
- 硼扩散:由于N型硅片硼扩散难度高于P型硅片,扩散炉需求翻倍,设备投资成本显著提高。
- SE制备:激光掺杂法和氧化物掩膜扩散法为目前主流,激光设备在其中具有重要作用。
HJT技术
- 设备投资成本高:2021年HJT产线单位投资成本为4.82亿元/GW,目前降至4-4.5亿元/GW。
- 成本优势不明显:HJT电池单瓦银浆耗量为25-30mg/W,是PERC的两倍,浆料成本高。
- 降本路径:包括薄片化、降低浆料成本、设备降本。
- 薄膜沉积:非晶硅沉积设备占异质结设备总成本的50%左右,是降本关键。
- TCO沉积:RPD设备在转换效率上优于PVD设备,且目前被捷佳伟创获得技术授权。
IBC技术
- 平台型技术:IBC电池可与TOPCon、HJT结合,形成TBC和HBC,提升转换效率。
- 增量设备:掩膜、激光、刻蚀设备为主要增量环节,设备需求取决于电池企业的工艺路径选择。
投资建议
- TOPCon:重点关注转换效率优势,推荐具备相关技术的设备企业。
- HJT:重点关注成本优势,推荐具备降低设备投资能力的设备企业。
- IBC:推荐在掩膜、刻蚀和激光设备上有技术储备的设备企业。
- 重点推荐企业:迈为股份、捷佳伟创、帝尔激光。
风险提示
- 下游厂商扩产不及预期
- 技术迭代速度不及预期
技术路线与设备对比
| 工艺环节 | 设备类型 | 投资成本(万元/GW) | 优点 | 缺点 |
|---|---|---|---|---|
| 硼扩散 | 扩散设备 | 3,012.5(中来)<br>1,528.8(晶澳) | 工艺成熟 | 绕镀、高温腐蚀、设备成本高 |
| SE制备 | 激光设备 | 3,000-4,000 | 生产效率高 | 技术难度高 |
| 非晶硅沉积 | PECVD | 25,200(东方日升)<br>25,200(捷佳伟创) | 沉积速度快、膜均匀性好 | 等离子体轰击 |
| TCO沉积 | RPD | 1,593.75 | 转换效率高 | 技术门槛高 |
| 金属化 | 钢板印刷、激光转印、铜电镀 | 5,600(丝网印刷)<br>3,630.38(激光转印) | 降低银浆使用量 | 设备成本高 |
结论
N型电池技术的产业化进程加快,TOPCon、HJT和IBC技术逐步成熟,设备投资需求显著增加。在TOPCon技术中,背钝化层和SE制备是关键增量环节,激光设备具有重要市场潜力。HJT技术虽然目前成本较高,但其降本路径清晰,未来具备较大发展空间。IBC技术作为平台型技术,可与TOPCon、HJT结合,提升整体性能。因此,投资应聚焦于具备技术储备和定制化能力的设备企业,以适应不同电池技术的发展需求。
展开完整摘要
试读结束,高清完整版pdf/doc/ppt,请点下载