半导体行业：掩模版，光刻蓝本蓄力国产替代，国内成长空间广阔-20231021-华安证券-21页_1mb

报告摘要

掩模版是微电子制造过程中用于图形转移的关键材料，其精度和质量直接影响下游产品的优品率。它在半导体、平板显示、PCB、触控屏等领域广泛应用，是光刻工艺的核心环节，占集成电路制造材料总成本的13%。随着半导体和面板技术的持续升级，掩模版市场将呈现增长趋势。

掩模版的重要性
掩模版是芯片电路图的转移模板，是连接设计与制造的桥梁。其精度要求极高，尤其在半导体领域，最小线宽≤0.5μm，CD精度≤0.02μm，是光刻工艺中不可或缺的关键材料。
掩模版具备抗周期属性
由于掩模版是定制化产品，终端电子产品在下行周期时仍需研发新品，从而带动掩模版需求。此外，晶圆厂为提高产能利用率，也会为中小芯片设计企业提供代工服务，进一步支撑市场需求。
全球市场格局
全球掩模版市场主要由海外企业主导，美国Photronics、日本Toppan和DNP三家巨头占据80%以上市场份额。在平板显示领域，美日韩企业占据垄断地位，而国内企业则在半导体掩模版领域逐步推进国产替代。
国内成长空间广阔
当前国内半导体掩模版国产化率约10%，高端产品国产化率仅3%，存在较大替代空间。2023年下半年，国内掩模版厂商纷纷公告先进制程（130nm-28nm）的研发与产能规划，加速国产替代进程。