科创板受理公司巡礼系列之（一）：中微公司拟科创板上市，半导体设备后起之秀或突破国际垄断？_43页_3mb

中微公司科创板上市分析总结

核心内容概述

中微公司是一家专注于高端半导体设备研发、生产和销售的国内领先企业，其主要产品包括等离子体刻蚀设备和MOCVD设备。公司成立于2004年，2019年拟科创板上市，计划发行不超过5348.62万股，融资约10.02亿元，用于高端半导体设备扩产升级、技术研发中心建设及补充流动资金。

主要观点与关键信息

1. 公司业务与市场地位

• 主营业务：开发大型真空的微观器件工艺设备，包括等离子体刻蚀设备和薄膜沉积设备（MOCVD设备）。
• 产品应用：等离子体刻蚀设备已广泛应用于国际一线客户从65nm到5nm的集成电路制造及先进封装；MOCVD设备在氮化镓基LED设备市场占据主导地位，已进入国内泛半导体龙头企业。
• 2018年业绩：
  • 营收达16.39亿元，同比增长68.66%
  • 归母净利润0.91亿元，同比增长203.72%
  • MOCVD设备销售收入为8.32亿元，占比超过50%
  • 刻蚀设备销售收入为5.66亿元，占比34.51%

2. 技术研发与创新

• 研发投入：2018年研发投入达4.0亿元，占营收比重24.6%，研发人员占比36.75%，专利数量达1201项，已获授权951项。
• 技术优势：
  • 自主研发的甚高频去耦合等离子体刻蚀技术。
  • 创新设计的电感性等离子体源架构，减少电容性耦合影响。
  • MOCVD设备采用模块化生产模式，提高生产效率。
  • 已获授权多项专利，核心技术已进入量产阶段。

3. 客户与市场

• 客户集中度：2018年公司前五名客户销售额占比达60.55%，客户包括台积电、中芯国际、SK海力士、三安光电等。
• 销售模式：以直销为主，2018年直销占比达99.97%。
• 市场认可：在2018年VLSI Research“客户满意度”调查中，公司位列全球半导体设备公司第三名，刻蚀设备供应商第二，MOCVD设备供应商第一。

4. 财务表现与运营能力

• 收入与利润：2018年公司营收和净利润均实现大幅增长，且经营性现金流由负转正。
• 费用管理：期间费用率逐年下降，销售费用率、管理费用率、财务费用率和研发费用率分别下降至13.21%、15.17%、0.63%和7.21%。
• 资产与周转：总资产周转率保持稳定，存货周转率略有下降，应收账款周转率保持良好。

5. 募投项目与未来发展

• 募投项目：
  • 高端半导体设备扩产升级项目（投资约4亿元）
  • 技术研发中心建设升级项目（投资约4亿元）
  • 补充流动资金（投资约2亿元）
• 未来方向：公司将重点发展5-3纳米刻蚀设备、超高深宽比存储器芯片刻蚀技术、Mini/MicroLED相关MOCVD设备、氮化镓功率半导体MOCVD技术等。

行业市场分析

1. 全球与大陆市场情况

• 全球市场规模：2018年全球半导体设备销售额达621亿美元，年均复合增长率14.33%。
• 大陆市场：2018年大陆半导体设备销售额预计为128亿美元，占全球市场约21%，增速显著高于全球平均水平，已成为全球第二大半导体设备需求市场。

2. 刻蚀设备与MOCVD设备市场趋势

• 刻蚀设备：是集成电路前道制造中的关键设备，价值占比逐年提升，2017年占晶圆制造设备价值量的24%。
• MOCVD设备：在LED制造中占据核心地位，2018年中国MOCVD设备保有量已超全球40%，市场前景广阔。

3. 国内企业竞争力

• 国内领先企业：中微公司与北方华创在研发、技术、客户资源等方面各有优势。
• 与北方华创对比：
  • 研发投入比例基本持平，但研发人员比例更高。
  • 毛利率与北方华创相当，净利率差距缩小。
  • 营运能力总体优于北方华创，但与海外公司相比仍有差距。

风险提示

• 行业竞争加剧：全球半导体设备市场由应用材料、阿斯麦等海外巨头主导。
• 宏观政策影响：国家对半导体设备的支持政策可能影响行业发展及公司市场拓展。

结论

中微公司凭借技术积累、研发投入和市场拓展，已成为国内半导体设备行业的领先企业。其刻蚀设备已进入5nm领域，MOCVD设备在LED制造中占据主导地位，公司拟科创板上市将有助于进一步扩大产能、提升技术研发能力，推动国产替代进程。尽管与海外巨头相比仍有差距，但随着国内半导体需求的快速增长，中微公司有望在刻蚀和MOCVD设备领域实现突破，成为国际竞争中的重要一员。