半导体行业国产湿法清洗龙头盛美回归：国产半导体设备进口替代突破口之清洗设备-200616_21页__1mb

国产半导体设备进口替代突破口之清洗设备总结

核心内容

清洗设备是半导体制造流程中的关键环节，贯穿从硅片制造到芯片封装的全过程。随着制程工艺的不断升级，清洗步骤和频率显著增加，对清洗设备的需求也随之提升。清洗方式主要分为湿法清洗和干法清洗，其中湿法清洗因其效率高、成本低而占据主流地位，占整个清洗制程的90%以上。

清洗设备主要包括槽式清洗设备和单片清洗设备，前者适用于批量清洗，后者则在高深宽比结构清洗、小颗粒去除等方面表现更优。当前全球清洗设备市场由日系企业主导，迪恩士（DNS）占据约60%的市场份额，东京电子（TEL）约30%。其他主要参与者包括美国Lam Research、韩国SEMES和KCTECH等。

主要观点

1. 清洗设备的重要性
   清洗贯穿半导体制造的多个关键环节，包括硅片制造、光刻、刻蚀、沉积、封装等，对器件性能有直接影响。清洗不及时或不彻底会导致电性失效，影响产品良率。

2. 清洗设备市场格局
   全球清洗设备市场由日系企业主导，国内企业在湿法清洗设备领域虽起步较晚，但正在快速追赶。目前，国内企业合计市场份额不超过10%，未来增长潜力巨大。

3. 清洗设备行业增长驱动力

   • 工艺升级导致清洗频率增加
   • 芯片结构复杂化，清洗难度提升
   • 新型材料的出现，对清洗工艺提出新要求

4. 清洗设备技术发展趋势
   除了传统的湿法清洗，干法清洗因其环保、低磨损等优势受到关注，但目前仍无法完全替代湿法清洗。未来趋势是湿法与干法清洗相结合，以满足更高精度清洗需求。

5. 国产替代加速
   随着大基金二期启动，清洗设备作为“卡脖子”环节，有望获得重点投资。国内企业如盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源微等，均在清洗设备领域取得一定进展，具备进口替代潜力。

关键信息

市场规模与设备配置

• 2019-2021年全球半导体清洗设备市场规模分别为28.68亿美元、29.18亿美元、32.06亿美元。
• 4万片产能产线中，8英寸线配备约50台清洗设备，12英寸线配备约70台，国外厂商可达120台。
• 单片清洗设备价格在300-400万美元/台，槽式设备价格约100-200万美元/台。

清洗方式与设备类型

主要清洗设备类型

• 单片清洗设备：用于全生产流程，包括扩散前、刻蚀后、离子注入后等环节。
• 槽式清洗设备：适用于批量清洗，但随着先进制程需求，逐渐被单片清洗设备替代。
• 洗刷设备：用于研磨、抛光等环节。
• 超声波/兆声波清洗设备：适用于复杂图形表面清洗，特别是TSV结构清洗。

洗涤药液与适用污染物

国内重点企业

• 盛美半导体：国内清洗设备领先企业，兆声波单片清洗设备获得全球认可，子公司拟科创板上市。
• 北方华创：综合实力强劲，提供多种清洗设备，包括单片清洗机、槽式清洗机等，广泛应用于前道与后道工艺。
• 至纯科技：高纯工艺龙头，提供湿法清洗设备，与国内主流存储器厂商建立合作。
• 沈阳芯源微：涂胶显影领域领先，逐步拓展至清洗设备，具备定制化能力。

风险提示

1. 海外疫情超预期可能影响全球半导体设备市场。
2. 国产化进度不及预期，可能影响国内企业市场份额。
3. 市场订单获取低于预期，可能影响企业业绩。

投资建议

行业评级：推荐
建议关注国内清洗设备企业，尤其是盛美半导体等具备技术优势和市场拓展能力的龙头企业，未来有望在进口替代中受益。

分析师信息

• 刘菁：八年实业经验，五年券商经验，擅长半导体设备、自动化、汽车电子等领域。
• 俞能飞：厦门大学经济学硕士，专注于半导体设备、自动化、汽车电子、机器人等细分行业。
• 田仁秀：上海交通大学工学硕士，研究方向为高端制造、光伏设备、锂电设备等。
• 李思扬：美国东北大学金融学硕士，CFA三级，2019年加入华西证券。

总结

清洗设备是半导体制造中的重要环节，随着制程工艺的不断进步，其需求将持续增长。目前全球市场由日系企业主导，但国产设备正在快速追赶。大基金二期的启动为国产替代提供了重要机遇，未来国内企业有望在湿法清洗设备领域取得突破。盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源微等企业在清洗设备领域已具备一定竞争力，未来发展前景广阔。