复盘ASML发展历程，探寻本土光刻产业链投资机会-20200617-西南证券-54页_1mb

复盘ASML发展历程,探寻本土光刻产业链投资机会总结

核心内容

光刻工艺是芯片制造中最为关键的环节，占晶圆制造耗时的40%-50%，占芯片成本的30%左右。光刻机作为光刻工艺的核心设备，占晶圆制造设备投资的23%，其产业链复杂，涉及光刻组件及配套材料和设备，如物镜、光源、浸没式系统、光刻胶、光刻气、光罩、涂胶显影设备、检测设备等。ASML凭借对光刻产业链的整合与技术突破，成为全球高端光刻市场的主导者，其浸没式DUV市占率高达93%，EUV市占率达100%。

主要观点

1. 光刻产业链协同发展是光刻机突破关键：光刻产业链的完善是ASML能够垄断高端光刻市场的核心因素。ASML通过并购与技术合作，整合了包括光源、物镜、浸没式系统等在内的全球高端光刻产业链，从而在技术上实现领先。

2. 本土光刻产业链发展受“02专项”推动：中国在“02专项”的支持下，已初步形成光刻产业链，包括物镜、光源、浸没式系统、光刻胶、光刻气、光罩、涂胶显影设备、检测设备等关键环节。部分企业在技术上已接近或达到国际先进水平，为国产光刻产业链的进一步突破奠定基础。

3. 光刻产业链未来增长空间广阔：随着半导体行业的持续发展，特别是先进制程（如14nm及以下）的市场扩张，光刻产业链相关企业将迎来更大发展机遇，国产替代进程加快。

关键信息

• ASML发展历程：ASML从1984年成立起，通过PAS5500系列光刻机立足全球市场，2001年推出Twinscan双工件台技术，2010年后通过EUV光刻产业链构建，成为全球唯一EUV光刻机供应商。
• 光刻产业链组成：包括光刻机组件（光源、物镜、浸没式系统、双工件台等）和配套材料与设备（光刻胶、光刻气、光罩、涂胶显影设备、检测设备）。
• 技术突破：ASML在浸没式光刻与EUV光刻技术上的突破是其市场地位提升的关键，其中浸没式技术通过将光刻胶与硅片间的介质从空气变为水，有效缩短等效波长，提升分辨率。
• 本土光刻产业链进展：国科精密、启尔机电、华卓精科、福晶科技、南大光电、华特气体、芯源微、精测电子等企业在各自领域实现突破，部分产品已供货ASML或进入量产阶段。

重点推荐个股

• 精测电子：布局半导体前、后道检测设备，是国内唯一一家同时布局半导体前、后道检测业务的公司，2019年营收和净利润均实现增长，毛利率维持在45%以上。
• 福晶科技：全球非线性光学晶体龙头，部分产品已供货ASML，具备向高端光刻机领域拓展的能力。

投资催化因素

• 半导体市场周期性恢复：随着全球半导体需求回暖，光刻设备市场有望迎来增长。
• 国内晶圆厂投资加速：国内晶圆厂加快投资，带动光刻设备需求。
• 本土光刻产业链研发超预期：随着国产替代进程加快，光刻产业链相关企业有望实现突破。

投资风险

• 半导体行业周期波动：半导体行业受宏观经济和市场需求影响较大。
• 光刻产业链研发不及预期：技术突破需要时间，存在研发进度不及预期的风险。
• 国外技术管制：《瓦森纳协议》等技术限制可能影响国内光刻产业链的自主化进程。

本土光刻产业链构建进展

• 光刻机组件：国科精密、启尔机电、华卓精科等企业已通过“02专项”验收，部分产品达到国际先进水平。
• 配套材料与设备：南大光电、华特气体、晶瑞股份、雅克科技、上海新阳、菲利华、清溢光电等企业在光刻胶、光刻气、光罩、检测设备等方面取得进展，逐步实现国产替代。

技术路径与市场前景

• 浸没式技术：国内企业已掌握该技术，为下一代光刻机提供技术支撑。
• EUV光刻：尽管技术难度高，但随着“02专项”的支持，国产EUV光刻机有望实现突破。
• 市场前景：预计2024年14nm及以下更先进制程全球市场规模将达386亿美元，光刻、刻蚀、沉积设备成为主要投资方向。

总结

ASML通过光刻产业链的构建和核心技术突破，成功垄断高端光刻市场。国内光刻产业链在“02专项”的支持下逐步完善，部分企业已实现技术突破并进入市场。未来，随着国产替代进程加快，本土光刻产业链相关企业有望迎来发展机遇，推荐关注精测电子和福晶科技等核心企业，同时关注其他光刻产业链相关标的。