【源达信息】半导体行业专题研究：国内光刻机发展道长且阻，国产突破行则将至_21页_1mb

半导体行业进入上行周期，2024/2025年全球设备市场规模预测为983/1128亿美元，大陆晶圆厂扩产空间大，设备国产替代加速推进。光刻机作为半导体制造核心设备，近年来阿斯麦（ASML）以92%的市占率主导高端市场，但被列入出口管制后，国内对光刻机的需求激增，倒逼国产化进程。

光刻机市场高度依赖关键零部件与光源技术，国内企业如上海微电子正研发28nm浸没式光刻机，部分国产产品已亮相，如65nm节点氟化氩光刻机突破，国产化率极低的局面正在变化。相关公司中，福晶科技（光源）、富创精密与新莱应材（零部件）、茂莱光学与波长光电（光学镜头）、华卓精科（未上市）值得关注。

投资建议：关注光刻机国产化进展，谨慎评估晶圆厂产能扩张与政策风险；主要风险点包括国际政治摩擦、设备与材料供应不及预期、设备导入进度延迟等。