半导体行业专题研究：国内光刻机发展道长且阻，国产突破行则将至-240925-源达信息-20页_1mb

半导体行业与光刻机国产化分析总结

半导体行业正经历复苏，预计2024年全球半导体设备市场规模将增长3%，至983亿美元，2025年有望增至1128亿美元。美日荷制裁加速设备国产化，中国晶圆厂扩产需求旺盛，但光刻机国产化进程缓慢，国产化率几乎为零。

光刻机是半导体制造中最核心的设备，直接影响制程节点和产能。ASML在全球市场一家独大，占据92%高端光刻机份额。中国对光刻机需求激增，但技术突破有限。上海微电子已推出90nm DUV光刻机，并在研发28nm浸没式光刻机。

国内企业在光刻机零部件和上游组件方面有进展，如富创精密、茂莱光学和福晶科技。投资建议关注这些公司，以及光刻机整机研发的上海微电子。风险包括国际政治因素、国产化进程不及预期。

总体而言，半导体国产化加速进行，光刻机作为关键环节，值得重点关注。