深度报告-20210302-并购优塾-半导体设备产业链深度梳理_中微VS北方华创VS泛林半导体VS应用材料_27页_1mb
报告摘要
半导体设备产业链深度分析总结
核心内容概述
本文主要围绕半导体设备产业链,重点分析刻蚀设备市场及代表性企业——中微公司、北方华创、泛林半导体、应用材料、盛美股份和芯源微。通过对收入结构、增长情况、回报率及市场趋势的对比,揭示了半导体设备行业的发展逻辑与竞争格局。
主要观点
1. 半导体设备行业增长驱动力与扰动因子
- 长期增长驱动力:全球晶圆厂的产能扩张,尤其是先进制程(如3nm、5nm)和存储芯片(如3D NAND)的扩产需求。
- 短期扰动因子:半导体行业周期波动、国际政治经济环境、技术瓶颈突破(如EUV光刻机)以及产业转移趋势。
2. 刻蚀设备的重要性
- 刻蚀设备是半导体制造中不可或缺的关键设备,占晶圆厂设备投入的20%左右。
- 随着3D NAND技术的发展,刻蚀设备在存储芯片制造中的占比显著提升,预计未来五年全球刻蚀设备市场规模将从119亿美元增长至211亿美元,复合增长率约为12%。
3. 企业竞争力分析
- 中微公司:专注于IC刻蚀设备,2019年收入19.47亿元,81%来自半导体设备。其毛利率较高,2020年三季度达34.48%,但受MOCVD设备拖累,整体净利率较低。
- 北方华创:产品线较广,覆盖半导体IC、LED、光伏等领域,2019年收入40.58亿元,60%以上来自泛半导体设备。其毛利率较低,主要受光伏设备拖累,但增速较快,2020年前三季度收入同比增长40.31%。
- 泛林半导体:全球刻蚀设备龙头,2019年收入96.54亿美元,主要业务为刻蚀设备。其收入增速相对较低,但随着中国晶圆厂订单增加,2021年一季度收入同比增长46.7%。
- 应用材料:全球领先的半导体设备供应商,2019年收入146.08亿美元,业务覆盖广泛,其ROIC和总资产周转率远高于国内企业。
- 盛美股份与芯源微:主要专注于后道封装设备,盛美股份以清洗设备为主,芯源微则以涂胶显影设备为主。
关键信息
1. 收入结构对比
| 公司 | 2019年收入(亿元) | 主要产品 | 备注 |
|---|---|---|---|
| 泛林半导体 | 471.45 | 刻蚀设备为主 | 全球刻蚀设备龙头 |
| 应用材料 | 663.65 | 全面覆盖除光刻机外的所有设备 | 全球半导体设备龙头 |
| 北方华创 | 40.58 | 刻蚀机、PVD、CVD等 | 产品线广泛,覆盖IC、LED、光伏 |
| 中微公司 | 19.47 | 刻蚀设备为主 | 专注IC刻蚀设备 |
| 盛美股份 | 7.56 | 清洗设备为主 | 刻蚀设备用于后道封装 |
| 芯源微 | 2.12 | 涂胶显影设备为主 | 刻蚀设备用于后道封装 |
2. 增长情况对比(2020年三季度)
| 公司 | 营收(亿元) | 同比增长 | 归母净利润(亿元) | 同比增长 | 毛利率 | 净利率 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 泛林半导体 | 471.45 | -0.54% | 101.08 | -5.73% | 45.89% | 21.44% |
| 应用材料 | 813.41 | 15.29% | 161.72 | 23.90% | 44.45% | 19.88% |
| 中微公司 | 14.76 | 20.83% | 2.77 | 105.26% | 34.48% | 18.85% |
| 北方华创 | 38.36 | 40.31% | 3.27 | 48.86% | 34.82% | 10.17% |
3. 报酬率对比(2017-2019)
| 指标 | 应用材料 | 泛林半导体 | 中微公司 | 北方华创 | 芯源微 | 盛美股份 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| ROA | 23.11% | 15.82% | 4.31% | 3.16% | 8.31% | 4.79% |
| ROIC | 27.24% | 16.88% | 36.83% | 4.55% | 14.89% | 13.30% |
| ROE | 41.46% | 26.71% | 7.63% | 3.87% | 15.47% | 22.46% |
4. 市场趋势预测
- 全球半导体设备投资额:预计从2019年的597.6亿美元增长至2024年的1029亿美元,复合增速约12%。
- 刻蚀设备市场规模:预计从2019年的119.52亿美元增长至2024年的211.33亿美元,复合增速约12%。
- 存储刻蚀设备:增速更快,预计从2019年的9.5亿美元增长至2024年的29.1亿美元,复合增速约25%。
- 逻辑芯片刻蚀设备:增速相对较低,预计从2019年的38.25亿美元增长至2024年的42.27亿美元,复合增速约2%。
总结
刻蚀设备作为半导体制造的关键环节,其市场需求与晶圆厂的产能扩张高度相关。随着3D NAND技术的发展和存储芯片的持续扩产,刻蚀设备市场将保持较快增长。海外龙头企业如应用材料和泛林半导体在技术、市场份额和回报率方面均优于国内企业,但国内企业如中微公司和北方华创在成长性、产品聚焦等方面表现突出。未来两年,全球及中国半导体设备投资将主要集中在先进制程和存储芯片领域,刻蚀设备作为其中重要一环,将受益于行业周期的复苏。
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