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报告摘要

摘要

技术简介

纳米压印技术（NIL）是一种微纳制造技术，其原理类似活字印刷，通过模板将微纳结构转印至压印胶中。主要优势包括成本仅为传统光学光刻（传统及EUV）的十分之一，功耗仅为EUV的百分之一，分辨率可达7×11nm半间距，并支持2D/3D复杂图形一次成型。NIL技术被认为是5nm及以下先进制程节点的潜在光刻替代方案，日本佳能已开发对应5nm技术。

公司概况

雕拓科技（Diaotuo Tech）

成立于2020年，总部在深*圳，于嘉兴设子公司。拥有超过800平米洁净车间及设备车间。
主营：全自动/半自动/手动纳米压印设备，精度 <10nm，支持多种晶圆尺寸，可定制。全栈式微纳加工解决方案，包括匀胶、清洗、沉积、刻蚀等设备的开发与集成。功能树脂（如纳米压印胶，用于材料进口替代）。微纳器件（如光栅，透镜阵列，衍射元件）。
深圳南科大为母公司/控股方，在技术转化、专利提供等方面提供支持。
国际标准应用案例：高密度基因测序芯片已实现小批量生产。
国际竞争力：2.0Tb/in²硬盘布局，对标国际巨头如西部数据。

核心团队与科研基础（关键成功要素）

程鑫教授：首席科学家，美国密西根大学博士，拥有超过25年纳米压印及相关微纳加工研究经验（自1999年开始），在微纳加工及光学工程领域有深厚积淀，在知名期刊发表100+论文，拥有多项美国发明专利。
科研背景：南科大教授团队承担了大量国家级、省部级科研项目，总金额超1亿元，强调产学研结合。
产业经验丰富：核心团队成员（总经理、CTO等）背景多为高校副高以上专家，兼具科研、产业化、管理、工程经验。