2024-04-28-上交所-江苏微导纳米科技股份有限公司2023年年报报告_241页_4mb
报告摘要
微导纳米(688147)2023年年度报告总结
核心内容概览
微导纳米是一家专注于半导体、泛半导体高端微纳装备研发、生产与销售的科技企业,主要产品包括原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)等真空薄膜沉积设备。公司致力于为客户提供尖端设备及配套服务,覆盖逻辑芯片、存储芯片、化合物半导体、新型显示、光伏电池等多个领域。
主要观点
- 业务发展迅速:2023年公司营业收入达16.79亿元,同比增长145.39%;净利润为2.70亿元,同比增长399.33%。
- 产品体系完善:公司产品涵盖ALD、CVD等多种真空薄膜沉积技术,已形成以ALD为核心、CVD为补充的产品矩阵。
- 市场占有率领先:ALD产品连续多年在国内同类企业中营收、订单总量和市场占有率居首,光伏领域设备也获得广泛认可。
- 技术实力雄厚:公司拥有自主研发能力,多项设备关键指标达到国际先进水平,多项设备被认定为国家重大装备。
- 研发投入持续:2023年研发投入达3.08亿元,占收入比例18.34%,其中约50%用于半导体领域。
- 供应链与制造能力提升:公司优化供应链体系,实施精益生产管理,新建研发生产基地,提升产品交付能力。
- 人才激励机制健全:公司实施股权激励计划,吸引并留住核心人才,提升研发团队实力。
关键信息
财务表现
- 营业收入:16.79亿元,同比增长145.39%。
- 净利润:2.70亿元,同比增长399.33%。
- 扣除非经常性损益的净利润:1.88亿元,同比增长849.89%。
- 经营活动现金流净额:9,333.01万元,同比减少44.61%。
- 研发投入占比:18.34%,较上年减少1.88个百分点。
- 总资产与净资产:分别增长至75.82亿元和23.44亿元,同比增长98.47%和19.45%。
利润分配预案
公司拟向全体股东每10股派发现金红利0.85元(含税),预计派发总额为3,856.04万元,以扣减回购股份后的总股本为基数。
产品与市场
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半导体领域:
- iTomic系列ALD设备已实现产业化应用,应用于高k栅氧层、MIM电容器绝缘层、TSV介质层等。
- iTomic MW系列批量式ALD设备可处理25片12英寸晶圆,适用于存储芯片、Micro-OLED显示器、MEMS等。
- iTomic Lite系列适用于多种晶圆尺寸,满足研发与量产需求。
- iTomic PE系列等离子体增强沉积设备已进入试样验证阶段。
- iTronix系列CVD设备已实现产业化应用,满足逻辑、存储、先进封装等需求。
- Trancendor系列晶圆真空传输系统实现产业化应用,提升晶圆传输效率。
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光伏领域:
- KF系列批量式ALD系统应用于高效晶硅太阳能电池钝化,已实现产业化应用。
- ZR系列管式PEALD/PECVD系统支持多种高效电池工艺,如TOPCon、XBC、HJT等,市场占有率快速提升。
- XH系列高温低压系统实现PERC+和TOPCon电池的扩散、退火等工艺。
- HY系列板式ALD系统应用于钙钛矿电池,已进入产业化验证阶段。
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新兴应用领域:
- iSparol系列卷对卷ALD系统实现柔性基材的高阻隔膜制备,已迭代至二代产品。
- 公司已拓展至光学、柔性电子、车规级芯片等新兴领域,为客户提供定制化解决方案。
研发与创新
- 报告期内新增重点研发项目3项,新增专利申请146项,新增专利授权35项。
- 公司研发团队规模达429人,同比增长78.01%。
- 研发成果包括iTomic HiK系列ALD设备被认定为江苏省首台(套)重大装备,iTomic MW系列获“集成电路产业技术创新奖”。
行业地位
- 在半导体领域,公司是国内首家将量产型High-k ALD设备应用于集成电路制造前道生产线的国产厂商。
- 在光伏领域,公司是率先将ALD技术规模化应用于国内光伏电池生产的企业,市场占有率领先。
- 公司在新型存储、硅基OLED、钙钛矿电池等领域取得显著进展,产品获得知名客户的认可。
行业趋势与前景
- 半导体薄膜沉积设备作为晶圆制造三大主设备之一,市场空间广阔,2023-2025年复合增长率达6.6%。
- ALD技术在先进制程(如45nm以下节点、3D结构)中具有显著优势,市场需求快速增长。
- 光伏行业在碳中和政策推动下持续发展,TOPCon、XBC等高效电池技术成为主流,带动薄膜沉积设备需求增长。
风险提示
- 公司已披露可能存在的风险因素,包括市场波动、技术更新、客户认证壁垒等。
- 无被控股股东非经营性占用资金、违反决策程序对外担保等事项。
公司治理
- 公司全体董事出席董事会会议。
- 天职国际会计师事务所出具了标准无保留意见的审计报告。
- 保荐机构为浙商证券,持续督导期间为2022年12月23日至2025年12月31日。
未来展望
公司将继续推进ALD与CVD等镀膜平台化战略,探索新兴应用领域,提升技术壁垒与市场竞争力,推动国产替代进程,把握半导体与光伏行业技术迭代带来的发展机遇。
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