20220606-德邦证券-机械设备半导体设备中标专题(2022年5月)_10家晶圆厂开标79台工艺设备_刻蚀国产率维持高位_12页_1mb
报告摘要
机械设备行业分析总结
核心内容
本报告分析了2022年5月中国大陆主要晶圆厂的半导体设备招标情况,重点展示了设备国产化的趋势及主要中标企业。
主要观点
- 设备招标数量:2022年5月,国内主流晶圆厂共开标79台工艺设备,1-5月累计开标480台。
- 主要扩产厂家:上海积塔为2022年5月扩产主力,共开标54台设备;华虹无锡为1-5月主要扩产厂家,开标280台设备。
- 主要设备类型:沉积设备、前道检测设备、刻蚀设备为5月主要扩产设备;炉管设备、沉积设备、刻蚀设备为1-5月主要扩产设备。
- 设备国产率:2022年5月,中国大陆设备中标47台,国产率达59.49%;1-5月累计中标144台,国产率30.0%。
- 国产率较高的设备:干法去胶设备(76%)、刻蚀设备(49%)、抛光设备(45%)、清洗设备(40%)、离子注入机(37%)、涂胶显影设备(35%)等。
- 主要中标企业:北方华创、拓荆科技、华海清科、上海微电子等企业在5月中标较多,表现突出。
关键信息
招标情况
- 2022年5月:国内10家主流晶圆厂共开标79台设备,主要来自上海积塔(54台)、华虹无锡(12台)、福建晋华(8台)等。
- 2022年1-5月:累计开标480台设备,主要来自华虹无锡(280台)、上海积塔(158台)等。
设备分类与作用
| 设备分类 | 设备名称 | 设备作用 |
|---|---|---|
| 制程核心设备 | 光刻机 | 将掩膜版上电路结构在硅片上曝光 |
| 制程核心设备 | 刻蚀设备 | 去除硅片上未被光刻胶覆盖的材料 |
| 良率提升设备 | 沉积设备 | 在硅片表面沉积薄膜 |
| 良率提升设备 | 清洗设备 | 提高晶圆制造良率 |
| 良率提升设备 | 离子注入设备 | 引入杂质,提高芯片性能 |
| 良率提升设备 | 前道检测设备 | 检查每道工艺后的晶圆 |
| 良率提升设备 | 后道测试设备 | 测试芯片功能和电性能 |
| 重要辅助设备 | 炉管设备 | 热处理工艺 |
| 重要辅助设备 | 抛光设备 | 平坦化处理 |
| 重要辅助设备 | 干法去胶设备 | 去除光刻胶 |
国产率分析
- 2022年5月:中国大陆设备中标47台,国产率59.49%。
- 2022年1-5月:中国大陆设备中标144台,国产率30.0%。
- 分晶圆厂国产率:
- 上海积塔:55.1%
- 华虹无锡:14.6%
- 福建晋华:40.0%
- 合肥晶合:未统计
- 武汉新芯:未统计
- 分设备国产率:
- 干法去胶设备:76.47%
- 刻蚀设备:48.65%
- 抛光设备:45.00%
- 清洗设备:40.00%
- 离子注入机:36.84%
- 涂胶显影设备:35.29%
- 炉管设备:21.37%
主要中标企业
- 北方华创:中标10台,主要涉及沉积设备、刻蚀设备、清洗设备等。
- 拓荆科技:中标11台,主要涉及沉积设备。
- 华海清科:中标5台,主要涉及抛光设备。
- 上海微电子:中标4台,主要涉及前道检测设备。
- 江苏旭宇腾:中标多台设备,包括沉积设备、炉管设备等。
投资建议
- 重点关注企业:
- 北方华创(002371):国内半导体设备龙头。
- 中微公司(688012):高端刻蚀设备龙头。
- 长川科技(300604):持续突破高端后道测试机。
- 华峰测控(688200):高端后道测试机。
- 芯源微(688037):涂胶显影与单片清洗设备。
- 拓荆科技(688072):半导体薄膜沉积设备。
- 盛美上海(688082)、至纯科技(603690):国产清洗设备领军企业。
- 万业企业(600641):离子注入机领先企业。
- 盛剑环境(603324):半导体环保设备领先企业。
风险提示
- 晶圆厂扩产不及预期:可能影响设备需求。
- 设备公司研发不及预期:可能影响技术突破和市场竞争力。
- 中美贸易摩擦风险:可能对设备进口和国产替代造成影响。
展开完整摘要
试读结束,高清完整版pdf/doc/ppt,请点下载