深度报告-20220506-华安证券-国防军工深度报告_第三代半导体_能源转换链_绿芯_材料_57页_6mb
报告摘要
第三代半导体:能源转换链中的“绿芯”材料总结
核心内容
第三代半导体,主要包括氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)等宽禁带半导体材料,因其具备高击穿电场、高热导率、高迁移率、高饱和电子速度等优异性能,被广泛应用于电力电子、光电子和微波射频等领域。这些材料不仅有助于降低能耗,还能提升电力转换效率、缩小设备体积,并适应高温、高频、大功率等极端工作环境,被认为是实现能源转换效率提升的关键材料。
主要观点
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节能降耗:第三代半导体材料在电力电子领域,碳化硅(SiC)功率器件相比硅(Si)器件可降低50%以上的能源损耗,减少75%以上的设备装置,提升能源转换率;在光电子领域,氮化镓器件具有高光电转换效率和良好散热性能,适合制造低能耗、大功率照明器件;在射频领域,氮化镓器件具备高效率、高功率密度和宽带宽优势,支持高效、节能、小型化设备。
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市场规模:新能源及通讯市场将成为第三代半导体材料的主要驱动力,预计到2025年,碳化硅器件在新能源汽车、光伏逆变器、轨道交通和智能电网等领域的市场规模将超过100亿元;氮化镓射频器件在5G通讯领域应用广泛,预计2025年全球市场规模将达20亿美元。
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成本与可靠性:碳化硅器件成本高是其大规模应用的主要障碍,主要受限于长晶速度、加工难度和缺陷密度。但随着晶圆尺寸扩大、工艺改进,成本有望逐步下降。同时,可靠性问题也是应用中的难点,需进一步优化器件性能。
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产业链优势:碳化硅衬底及外延环节占器件总成本的70%,是产业链最具投资价值的部分。相比硅材料,碳化硅的衬底及外延环节价值更高,且国内企业在技术、专利和市场拓展方面与海外差距不大,具备弯道超车的潜力。
关键信息
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技术特性:碳化硅击穿场强是硅的10倍,可降低器件设计厚度;氮化镓具有高电子迁移率,适合高频高功率应用。
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市场前景:
- 新能源领域:碳化硅器件在电动汽车、光伏逆变器、轨道交通等场景中具有显著优势,预计到2025年,新能源汽车市场对碳化硅晶圆的需求将增长至近30万片。
- 通讯领域:氮化镓射频器件在5G基站、雷达等应用中表现突出,预计到2025年,全球市场规模将达20亿美元。
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投资建议:建议关注中瓷电子、凤凰光学、亚光科技、海特高新、赛微电子、天岳先进、斯达半导、露笑科技、扬杰科技、三安光电等企业。
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风险提示:
- 碳化硅成本降低不达预期;
- 碳化硅器件稳定性与可靠性不及预期;
- 国内碳化硅产业链与国外差距进一步拉大;
- 宏观经济波动导致行业景气度下降。
产业链结构与技术难点
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产业链:第三代半导体产业链包括衬底材料制备、外延层生长、器件制造和下游应用。其中,衬底和外延环节是核心,占器件总成本的70%。
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技术难点:
- 长晶过程:碳化硅的生长温度超过2300°C,长晶速度慢,且对温度和压力控制要求高。
- 外延生长:目前主流外延方法为CVD法,生长速率高但存在缺陷问题。MBE法虽质量好,但生长速率慢,不适合工业化生产。
- 加工环节:碳化硅单晶的加工包括切片、薄化和抛光,传统锯切工具不适用,需采用金刚石固结磨料多线切割等先进工艺。
图表目录摘要
- 图表1:新材料推动社会进步
- 图表2:工艺及设备是新材料的“源”和“流”
- 图表3:新材料与生物技术、软件的商业化时间及成本对比
- 图表4:技术成熟度及切中行业痛点是新材料应用关键
- 图表5:晶体管密度趋势
- 图表6:新材料翻“新”或下沉市场速度决定企业未来
- 图表7:海外及中国碳化硅产业链全景
- 图表8:半导体产业链结构
- 图表9:功率半导体产品范围示意图
- 图表10:各代半导体材料的主要用途
- 图表11:功率半导体材料重要物理性能比较
- 图表12:碳化硅与其他半导体材料本征性质比较
- 图表13:不同电压下选用的硅器件及碳化硅器件情况
- 图表14:SiC器件、GaN器件及Si器件适用的频段
- 图表15:碳化硅器件发热少
- 图表16:碳化硅器件传导损耗小
- 图表17:碳化硅器件开关损耗小
- 图表18:采用碳化硅器件可将电力驱动系统体积减小3~5倍
- 图表19:碳化硅击穿场强高可降低器件设计厚度
- 图表20:Si与SiC的额定电压范围(二极管)
- 图表21:碳化硅基SBD不易发生热失控
- 图表22:碳化硅基SBD与硅基SBD反向恢复特性对比
- 图表23:SiC-MOSFET高温下的导通电阻低
- 图表24:Si和SiC的额定电压范围(MOSFET,IGBT)
- 图表25:碳化硅MOSFET导通电阻低,可实现器件小型化
- 图表26:SiC-MOSFET与IGBT的导通电阻对比
- 图表27:碳化硅衬底、外延及器件产业链示意图
- 图表28:2020年我国SiC电力电子器件应用市场结构
- 图表29:基于碳化硅的驱动系统可搭载更轻、更小的电池
- 图表30:罗姆公司第四代碳化硅MOSFET产品可改善续航
- 图表31:全碳化硅模块具备更高电流输出能力
- 图表32:罗姆碳化硅MOSFET器件与硅基IGBT耗电量对比
- 图表33:英飞凌碳化硅产品在汽车中的应用
- 图表34:罗姆碳化硅产品在汽车中的应用
- 图表35:新能源汽车市场SiC晶圆需求预测
- 图表36:西门子推出首款采用碳化硅晶体管的155/165KW组串型光伏逆变器
- 图表37:英飞凌碳化硅产品在光伏微型逆变器中的应用
- 图表38:中车株洲所自主研发的搭载全碳化硅牵引逆变器的列车
- 图表39:英飞凌碳化硅产品在工程机械领域中的应用
- 图表40:光伏逆变器中碳化硅功率器件占比预测
- 图表41:光伏逆变器中碳化硅功率器件占比预测
- 图表42:GaN射频功率晶体管可作为新的固态能量微波源
- 图表43:通信整流器中氮化镓器件效率最高
- 图表44:不同类型射频器件在高频高功率下的应用对比
- 图表45:不同类型射频器件市场份额预测
- 图表46:全球碳化硅衬底氮化镓射频器件2025年市场规模预测
- 图表47:我国5G宏基站4英寸GaN晶圆需求量预测
- 图表48:碳化硅晶片制造流程
- 图表49:碳化硅晶体生长主流工艺比较
- 图表50:碳化硅外延生长机理示意图
- 图表51:GaN/SiC及GaN/AlN/SiC外延生长模式
- 图表52:SiC器件不同电压对SiC外延层厚度和掺杂浓度的要求
- 图表53:SiC外延生长基本工艺曲线
- 图表54:外延层三种方式优缺点对比
- 图表55:不同切割工艺的性能对比
- 图表56:超声振动辅助磨削
- 图表57:在线电解修整辅助磨削
- 图表58:碳化硅单晶抛光片加工标准
- 图表59:SiC精抛工艺对比
- 图表60:SiC单晶中微管闭合及短微管形成的图片和示意图
- 图表61:4H-SiC单晶外延过程中常见的几种缺陷
- 图表62:2英寸、3英寸、4英寸和6英寸微管密度逐年降低
- 图表63:碳化硅晶锭重复A面工艺示意图
- 图表64:碳化硅晶锭总位错密度与A面生长阶段数间的关系
- 图表65:2017-2020年650V的SiC SBD价格
- 图表66:2017-2020年1200V的SiC SBD价格
- 图表67:SiC MOSFET 2020年平均价格
- 图表68:WOLFSPEED晶圆尺寸增加芯片数量从而降低成本
- 图表69:住友MPZ溶液生长技术
- 图表70:住友6英寸EPIERA所构成的器件
- 图表71:CoolSPLIT技术切割晶圆的步骤
- 图表72:CoolSPLIT技术切割出的晶圆
- 图表73:2020年碳化硅功率半导体器件价值拆分
- 图表74:2020年12寸硅功率器件价值拆分
- 图表75:海外企业碳化硅领域布局时间线
- 图表76:国内企业碳化硅领域布局时间线
- 图表77:排名前十的第三代半导体器件相关专利来源地申请数量、授权数量与授权比
- 图表78:排名前十的第三代半导体器件相关专利受理地申请数量、授权数量与授权比
- 图表79:中国第三代半导体器件专利申请排名前十机构
- 图表80:山东天岳、天科合达与海外可比公司经营情况对比
- 图表81:近两年科锐公司、贰陆公司与山东天岳在半绝缘型碳化硅衬底领域按金额统计的市场份额情况
- 图表82:全球半绝缘型碳化硅衬底领域市场份额情况
- 图表83:国内外碳化硅公司2020年研发投入情况
- 图表84:4英寸半绝缘型碳化硅衬底技术参数对比
- 图表85:6英寸半绝缘型碳化硅衬底技术参数对比
- 图表86:4英寸半导电型碳化硅衬底技术参数对比
- 图表87:行业内各公司不同尺寸SiC晶片的推出对比
- 图表88:国内外部分企业8英寸衬底研发及量产时间表
- 图表89:国内碳化硅衬底尺寸演进
- 图表90:海内外碳化硅衬底及外延企业产品布局时间线
- 图表91:国内部分厂商产能情况
- 图表92:近五年我国颁发的行业主要法律法规政策
总结
第三代半导体材料以其优异的性能和应用前景,正逐步成为新能源和通讯领域的重要支撑。尽管目前成本仍是其大规模应用的瓶颈,但随着技术进步和工艺优化,成本有望逐步下降,可靠性也逐步提升。国内企业在该领域具备良好的发展基础,有望实现技术突破和市场领先,成为未来国际竞争的重要力量。
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