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高分辨率光场打印技术突破：纳米级3D打印实现伪随机排列像素

约翰·尤恩·陈等人提出了一种通过纳米级3D打印技术直接制造高分辨率光场打印品的方法，利用双光子聚合光刻技术在透明树脂上一步完成结构制作，实现在可视角条件下显示三维信息的独特功能。

该方法能够自动对准微透镜阵列与结构色像素，在纳米尺度实现高空间分辨率（29–45微米）与高角分辨率（约1.6°），同时具备平滑的运动视差效应。其像素由单个纳米柱组成，直径仅300纳米，远超现有技术。

制造优势在于避免了复杂的对准工序，通过台式显微镜观察，成品呈现出类似昆虫复眼的阵列外观。实验结果显示，成像在任意视场角下均无像素化，即使从近距离观察也保持流畅的视觉体验。光场打印品可在打印媒体和高价值商品的安全标签等领域应用。

尽管图像颜色覆盖范围有限，在反射模式下存在耗散，但该技术在提升分辨率、简化工艺方面具有显著优势。未来通过结合超材料透镜与角度不敏感结构色像素，有望进一步拓展其在高端显示与防伪领域的应用。