20250528-东海证券-化工新材料行业简评_日本三井化学退出三氟化氮业务_我国电子特气竞争力有望加强_2页_271kb

日本三井化学宣布退出三氟化氮业务，计划于2026年3月停止生产，同年内结束销售。其退出原因包括海外价格竞争加剧、原材料及公用工程成本上升、维修费用增加，导致该业务盈利困难。这一事件或显示中国相关产品已具备国际竞争力，可能承接市场份额并扩大国际影响力。

三氟化氮（NF3）是半导体制造的重要等离子蚀刻气体，具有高纯度要求。其物理特性包括无色无味气体、低温下为不透明固体、高温下稳定（耐627℃）。主要制备方法有熔盐电解法、氟化氨化钠法及辉光放电法。在芯片制造中，NF3用于蚀刻硅和钨化合物，具有高选择性和清洁性，广泛应用于集成电路、显示面板、光伏等领域。

全球电子特气市场受新兴行业驱动快速发展，2025年预计达6023亿美元。中国电子气体市场虽起步较晚，但近年国产化水平提升明显。2023年全球NF3产能47万吨/年，产量44万吨，中国产能25万吨/年，产量约24万吨，出口量远超进口量（出口254542吨，进口34423吨）。主要生产企业包括中船特气、昊华气体（中国中化）、南大光电等，已具备净出口能力。

当前电子气体领域由海外四大巨头（空气产品、林德、液化空气、大阳日酸）主导，占全球70%市场份额。其通过整合形成垄断格局，提供整套气体解决方案。中国企业在光刻、刻蚀等工艺环节的应用逐步扩大，但需克服技术认证和市场拓展挑战。

投资建议关注具备技术优势的电子级气体企业，如南大光电、中船特气、昊华科技、雅克科技等。风险提示包括下游需求不及预期、企业市场拓展受阻及海外贸易保护政策可能带来的影响。报告强调需持续关注行业动态及企业技术突破情况。