20260430-东吴证券-拓荆科技-688072.SH-2025年报点评_Q4业绩高速增长_薄膜沉积_先进封装设备持续放量_3页_439kb

拓荆科技（688072）2025年报点评总结

核心内容概述

拓荆科技在2025年实现了显著的业绩增长，特别是在薄膜沉积和先进封装设备领域表现突出。公司持续扩大产品线，提升技术实力，并在多个关键设备领域获得客户验证，推动收入和利润的双增长。尽管部分季度净利润出现波动，但整体趋势积极，未来盈利预测乐观，维持“买入”投资评级。

主要观点

• 业绩增长显著：2025年公司实现营业总收入65.19亿元，同比增长58.87%；归母净利润9.27亿元，同比增长34.67%。Q4营收和净利润虽同比下滑，但Q1实现大幅增长，显示公司具备较强的盈利能力恢复能力。
• 产品线持续扩张：公司多个设备系列实现产业化应用，包括PECVD、ALD、CVD和先进封装设备。其中ALD设备同比增长达191.8%，显示其在国产化率方面的领先地位。
• 盈利能力提升：2026Q1毛利率显著提升至41.69%，销售净利率达50.54%，主要受益于收入增长和毛利率改善，以及投资收益的增加。
• 在手订单充足：截至2025年末，公司在手订单约110亿元，合同负债同比增长62.7%，为未来收入增长提供有力支撑。
• 财务预测上调：公司2026年归母净利润预测上调至17亿元，2027年上调至25亿元，2028年预计达30亿元，未来三年动态PE分别为69X、47X和40X，估值持续走低，具备投资价值。

关键信息

财务数据概览

财务指标分析

营运情况

• 存货：截至2025年末，存货为78.26亿元，同比增长8.5%。
• 合同负债：截至2025年末，合同负债为48.52亿元，同比增长62.7%。
• 现金流：2025年经营活动净现金流为36.33亿元，同比大幅转正；2026Q1净现金流为-5.20亿元，主要因销售回款阶段性降低及业务规模扩大。

产品线进展

• PECVD：全系列介质薄膜材料实现产业化应用，新平台及反应腔产品已放量，先进工艺设备通过客户验证。
• ALD：国产ALD工艺覆盖度领先，SiO2、SiN、SiCO等工艺设备客户端放量，Thermal-ALD拓展新工艺并获订单，累计出货超140个反应腔。
• CVD：SACVD和HDPCVD等沟槽填充产品扩大量产规模，首台SACVD等离子体增强SAF薄膜工艺设备通过验证。
• 先进封装设备：W2W混合键合设备获得重复订单并实现量产，新一代产品发货至客户端，键合精度和产能显著提升。

投资建议

• 评级：维持“买入”评级。
• 理由：公司受益于下游存储行业高景气，产品线持续放量，盈利能力逐步改善，未来增长潜力大。

风险提示

• 市场风险：晶圆厂资本开支可能下滑，影响设备需求。
• 技术风险：国产化率提升不及预期，可能影响公司市场份额。

公司数据

• 收盘价（元）：423.67
• 一年最低/最高价：138.63 / 438.55
• 市净率（倍）：16.51
• 流通A股市值（百万元）：119,768.55
• 总市值（百万元）：119,768.55
• 每股净资产（元）：25.67
• 资产负债率（%）：60.99
• 总股本（百万股）：282.69
• 流通A股（百万股）：282.69

分析师信息

• 周尔双
  执业证书：S0600515110002
  联系方式：021-60199784
  邮箱：zhouersh@dwzq.com.cn

• 李文意
  执业证书：S0600524080005
  邮箱：liwenyi@dwzq.com.cn

投资评级标准

• 买入：预期未来6个月个股涨跌幅相对基准在15%以上；
• 增持：预期未来6个月个股涨跌幅相对基准介于5%与15%之间；
• 中性：预期未来6个月个股涨跌幅相对基准介于-5%与5%之间；
• 减持：预期未来6个月个股涨跌幅相对基准介于-15%与-5%之间；
• 卖出：预期未来6个月个股涨跌幅相对基准在-15%以下。

总结

拓荆科技在2025年实现了营收和净利润的双增长，特别是在薄膜沉积和先进封装设备领域表现突出。公司产品线不断扩展，技术实力增强，未来盈利预期乐观。尽管部分季度净利润出现波动，但整体趋势向好，估值持续下降，投资价值凸显。建议投资者关注其在高端设备市场的表现及未来增长潜力。