20170908-兴业证券-半导体产能转移,设备领域迎国产化良机_45页-3mb
报告摘要
半导体产能转移,设备领域迎国产化良机总结
核心内容
半导体产业是资本密集型行业,设备投资占其资本支出的60%以上,其中晶圆制造设备占比最高,达50%以上。随着全球半导体产业向中国大陆转移,设备国产化迎来重要机遇。
主要观点
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半导体产业转移趋势
- 产业转移历史显示,新兴终端市场带动半导体产业转移,从美日到韩台,再到中国大陆。
- 智能手机市场崛起带动集成电路需求,进一步推动产业向大陆转移。
- 中国大陆拥有全球最大的半导体消费市场,但产能相对薄弱,导致供需失衡。
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中国大陆半导体设备市场增长
- 2016年大陆半导体设备销售额为64.5亿美元,同比增长31.63%,预计2018年将达110亿美元。
- 产业转移和政策支持是推动设备市场增长的主要动力。
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政策支持与大基金作用
- 《国家集成电路产业发展推进纲要》推动产业政策支持,国家集成电路产业投资基金(大基金)成立,投入近千亿资金,推动国产化进程。
- 各省市也纷纷设立集成电路产业基金,形成政策合力。
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设备国产化现状与挑战
- 海外半导体设备行业市场集中度高,CR10达71%,国内设备厂商市场份额尚不足2%。
- 国内厂商在部分设备领域已实现国产化,如长晶、刻蚀、沉积等设备,但整体仍面临技术代差和市场验证的挑战。
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主要设备类型与工艺
- 集成电路制造涉及多种工艺,包括晶圆制造、加热、光刻、离子注入、等离子体、刻蚀等。
- 光刻、刻蚀、沉积等设备在芯片制造中价值量高,对设备可靠性要求极高。
关键信息
产业转移背景
- 全球半导体市场持续增长,2016年销售额达3396.84亿美元,CR25为75.9%。
- 中国大陆晶圆制造产能占全球10.8%,但消费市场占全球33%,供需失衡明显。
- 随着大陆智能手机品牌市场份额提升,吸引了海外厂商在大陆设厂,如台积电、三星、SK海力士等。
设备投资与国产化前景
- 2016年全球半导体设备销售额为412.4亿美元,大陆设备销售额为64.5亿美元,占全球15.64%。
- 2018年预计大陆设备市场规模将达110亿美元,成为全球第三大市场。
- 晶圆制造设备占设备总销售额的79%,是设备投资的核心。
主要设备类型与市场格局
- 全球半导体设备市场主要由美国、日本、荷兰厂商主导,CR10为71.34%。
- 国内设备厂商在关键设备领域如光刻机、刻蚀机、沉积设备等仍有较大差距,但部分企业在技术上取得突破。
关键公司与评级
| 公司名称 | 17EPS | 18EPS | 评级 |
|---|---|---|---|
| 晶盛机电 | 0.40 | 0.57 | 增持 |
| 北方华创 | 0.32 | 0.65 | 增持 |
| 长川科技 | 0.75 | 1.00 | 增持 |
| 至纯科技 | 0.29 | 0.46 | 增持 |
| 大族激光 | 1.52 | 1.86 | 买入 |
风险提示
- 半导体行业投资低于预期;
- 国产化进度低于预期;
- 市场竞争加剧。
未来展望
- 未来3年,中国大陆将新增近半数的新建晶圆厂,推动半导体设备市场持续增长;
- 国内设备厂商有望在政策支持和产业转移的双重驱动下实现突破;
- 设备国产化是长期趋势,但需时间验证和持续的技术投入。
图表与数据
- 图1:2016年全球半导体销售额占比;
- 图2:2016年全球集成电路终端应用占比;
- 图3:中国集成电路销量;
- 图4:中国集成电路行业销售额;
- 图5:全球半导体产业销售额及增速;
- 图6:亚太地区占比逐渐提升;
- 图7:全球半导体产业资本支出及增速;
- 图8:集成电路生产工艺流程简图;
- 图9:台湾集成电路各环节产值情况;
- 图10:大陆集成电路各环节销售额;
- 图11:全球半导体产业资本支出分类;
- 图12:ASML光刻机;
- 图13:应用材料的刻蚀系统;
- 图14:2016年不同晶圆尺寸下厂商的晶圆产能排行;
- 图15:硅片生产工艺流程;
- 图16:全球晶圆产能各地区市占率;
- 图17:三大半导体厂资本支出规模;
- 图18:全球半导体资本支出稳定增长;
- 图19:半导体设备各地区市场规模;
- 图20:1980-2010年全球存储行业市场份额变化;
- 图21:日美电视机产量比较;
- 图22:日本1975年半导体产值份额;
- 图23:PC崛起对半导体产业的影响;
- 图24:大陆智能手机品牌全球市场份额持续提升;
- 图25:2016年全球晶圆产能分布;
- 图26:2016年全球半导体消费市场分布;
- 图27:中国集成电路供需缺口扩大;
- 图28:中国集成电路市场十分依赖进口;
- 图29:大陆集成电路产业政策目标与政策支持;
- 图30:国家集成电路产业投资基金的资金投向;
- 图31:IC制造核心工艺图;
- 图32:晶体CZ提拉方法示意图;
- 图33:水平式高温炉示意图;
- 图34:快速加热反应室示意图;
- 图35:光刻流程示意图;
- 图36:离子注入机示意图;
- 图37:PECVD反应室示意图;
- 图38:等离子刻蚀反应室示意图;
- 图39:遥控等离子体系统示意图;
- 图40:多晶硅栅刻蚀工艺流程;
- 图41:集成电路制造设备上下游;
- 图42:全球半导体设备销售额当季值;
- 图43:大陆半导体设备销售额当季值;
- 图44:晶圆处理设备销售额占比;
- 图45:2016年大陆半导体设备分类销售情况;
- 图46:我国自制半导体设备规模上升,但占比下降;
- 图47:2015年大陆主要半导体设备进口情况;
- 图48:梅耶博格业务几乎覆盖光伏制造的全部工艺;
- 图49:梅耶博格2016年实现营收4.61亿瑞郎;
- 图50:公司营收和扣非归母净利润;
- 图51:应用材料研发费用与占比;
- 图52:晶盛机电业务布局;
- 图53:长川科技主营产品;
- 图54:至纯科技发展历程。
表格与数据
- 表1:全球前十大半导体厂营收排名;
- 表2:全球前十大晶圆代工厂营收排名;
- 表3:大陆现有12寸晶圆厂产能统计;
- 表4:国内处于规划与假设中的半导体晶圆厂不完全统计;
- 表5:各省市集成电路产业基金先后成立,规模达千亿;
- 表6:不同晶圆尺寸的晶圆厚度;
- 表7:2015年全球前十大半导体设备供应商排名;
- 表8:2016年中国半导体设备十强单位;
- 表9:国内半导体设备主要厂家。
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