深度报告-2025-12-28-深企投产业研究院-2025湿电子化学品产业发展报告_86页_3mb

> **来源：[研报客](https://pc.yanbaoke.cn)** # 2025 # 行业研究系列 # 湿电子化学品产业发展报告 半导体先进制程需求日益迫切，国产自主可控水平逐步提升 # 关于深企投产业研究院 深企投产业研究院是深企投集团旗下的高端智库，聚焦产业发展，服务区域经济，致力于为各地提供产业发展落地方案。研究院总部位于深圳，服务区域覆盖全国主要省市。研究院集聚一批经济研究和产业研究专家，以985院校研究生为主体，链接高校专家学者，为全国各地政府及机构提供智力支持。 基于自身的研究和咨询能力，同时借助集团的服务网络，深企投产业研究院为政府机构、国有平台、产业园区、金融机构等客户类型提供有针对性的服务。 ——政府机构客户。研究院重点提供五类服务：一是五年规划，包含发改系统的国民经济和社会发展总体规划，工信、商务、投促、文旅等政府部门的专项五年规划；二是产业规划，包含地区、片区的产业定位和产业发展专项规划；三是招商专题研究，包括产业链招商策略、招商规划、招商专案、招商图谱等；四是项目策划，发掘和策划包装契合区域禀赋、产业趋势和投资方向的项目，助力宣传推介和精准招商对接，或策划申报超长期国债等地方重点投资项目；五是项目评估，涵盖地方重点投资项目的风险评估、招商引资项目背景调查、产业基金拟投资项目尽职调查等。 ——国有平台客户。针对新时期全国各地国有城投、产投公司向国有资本投资运营转型发展的需要，聚焦国有平台投资布局的新质生产力和重点产业赛道，研究院提供产业情报、产业发展规划、企业投资标的尽职调查等服务。 ——产业园区客户。为国有园区、工业地产客户提供园区产业规划定位、产品定价策略、产品设计方案、招商运营服务方案、渠道和品牌推广策略、产业培训等服务。 ——金融机构客户。为机构投资者提供产业细分领域深度研究、投资分析、标的尽职调查等服务，减少投资过程中的信息不对称，提高投资决策准确率。 自2020年至今，深企投产业研究院团队已完咨询服务项目近百个，完成研究报告数百份，服务的地区包括广东、江苏、浙江、福建、广西、云南、贵州、湖北、四川、陕西、宁夏等多个省市。 在产业研究领域，深企投产业研究院在新质生产力、战略性新兴产业、未来产业研究上具有深厚积累，每年发布原创深度报告近百份。有关低空经济、商业航天、卫星互联网、新型储能、人形机器人、生物制造、脑机接口、全球供应链等报告已获得广泛传播。 # 目录 # 湿电子化学品产业概述篇 一、湿电子化学品产品概述 2 二、湿电子化学品市场规模 7 （一）全球市场规模 7 （二）中国市场规模 9 三、竞争格局及主要企业 12 （一）全球市场格局 12 （二）中国市场格局 13 （三）国内外主要企业 15 1、欧美主要企业 15 2、日本主要企业 17 3、韩国主要企业 19 4、中国台湾主要企业 19 5、中国大陆主要企业 21 # 通用湿电子化学品产业篇 一、电子级硫酸 30 二、电子级双氧水（过氧化氢） 32 三、电子级氢氟酸 35 四、电子级磷酸 39 五、电子级盐酸 40 六、电子级硝酸 42 七、电子级氨水 44 八、电子级氢氧化钾 45 # 九、电子级异丙醇 48 # 功能湿电子化学品产业篇 # 一、总体格局 52 # 二、CMP抛光液 55 （一）产品概况 55 （二）市场规模. 56 （三）竞争格局 57 # 三、蚀刻液 59 （一）产品概况 59 （二）市场规模 61 （三）竞争格局 62 # 四、TMAH显影液 65 （一）产品概况 65 （二）市场规模 65 （三）竞争格局 66 # 五、湿制程镀层材料（电镀/化镀液） 67 （一）产品概况 67 （二）市场规模 68 ——半导体镀层材料 69 —PCB及IC载板镀层材料. 70 （三）竞争格局 71 ——半导体镀层材料 71 —PCB及IC载板镀层材料. 73 # 六、NMP溶剂 75 （一）产品概况 75 （二）市场规模 76 （三）竞争格局 76 # 七、PGMEA溶剂 77 （一）产品概况 77 （二）竞争格局 77 # 图、表目录 图1 2019年我国各类湿电子化学品占总需求比例 图2 2024年全球湿电子化学品分应用领域市场规模（亿美元）……8 图3 全球2023年湿电子化学品市场份额 9 图4 2016-2028年中国湿电子化学品需求量（万吨） 图5 2016-2025年中国湿电子化学品市场规模（亿元）……11 图6 2021-2025年中国集成电路用湿电子化学品市场规模（亿元） 图7 2023年全球湿电子化学品市场份额 ..... 12 图8 2020-2023年我国半导体用湿电子化学品国产化率……14 图9 2020-2025年我国半导体及光伏行业电子级硫酸需求量（万吨） 图10 2020-2025年我国半导体及光伏行业电子级双氧水需求量（万吨） 33 图11 2020-2025年我国半导体及光伏行业电子级氢氟酸需求量（万吨） 35 图12 2020-2025年我国光伏行业电子级氢氧化钾需求量（万吨） 图13 CMP抛光液产业链 56 图14 2020-2025年我国半导体蚀刻液/BOE蚀刻液需求量（万吨） 图15 2020-2025年我国显示面板蚀刻液分类别需求量（万吨）..62 图16 我国半导体显影液及显示面板TMAH显影液市场需求量（万吨） 66 图17 2020-2029年全球及中国湿制程镀层材料市场规模（亿元） 图18 2020-2029年中国湿制程镀层材料分应用市场规模（亿元） 图19 2023-2026年中国先进封测镀层材料市场规模（亿元）……70 图20 2023-2026年中国PCB镀层材料市场规模（亿元）……71 图21 2023-2026年中国PCB镀层材料分产品市场规模（亿元）.71 表 1 湿电子化学品等级标准. 2 表 2 湿电子化学品按应用领域分类. 3 表 3 通用湿电子化学品产品分类. 4 表 4 功能湿电子化学品产品分类. 5 表 5 欧美湿电子化学品代表企业. 15 表 6 日本湿电子化学品主要企业. 17 表 7 韩国湿电子化学品主要企业. 19 表 8 中国台湾湿电子化学品主要企业. 20 表 9 国内湿电子化学品主要企业 ..... 21 表 10 内资电子级硫酸重点企业 31 表 11 国内电子级双氧水重点企业 33 表 12 国内电子级氢氟酸企业 36 表 13 国内电子级盐酸主要企业 ..... 41 表 14 国内电子级硝酸重点企业 43 表 15 国内电子级氨水主要企业 ..... 45 表 16 国内电子级氢氧化钾主要企业 47 表 17 国内电子级异丙醇主要企业 ..... 48 表 18 全球功能湿电子化学品主要企业产品线. 52 表 19 全球集成电路功能湿电子化学品代表企业............53 表 20 我国湿电子化学品各领域主要布局企业. 54 表 21 我国 CMP 抛光液布局企业 ..... 57 表 22 蚀刻液产品分类. 59 表 23 国内蚀刻液主要企业 62 表 24 国内半导体电镀液布局企业 ..... 72 表 25 国内电子级 PMA/PGMEA 布局企业. 78 # 01 # 湿电子化学品产业概述 湿电子化学品是半导体与集成电路制造中不可或缺的关键基础材料，广泛应用于清洗、蚀刻、光刻、去胶等核心工艺环节，其纯度和稳定性直接决定芯片的良率与性能。在先进制程不断微缩的背景下，对G4/G5级高纯化学品的需求日益迫切。 长期以来，高端湿电子化学品市场被美日德等外资企业垄断，供应链安全存在“卡脖子”风险。近年来国产替代加速推进，国内企业通过技术突破、产能扩张和客户验证，逐步在部分细分品类实现从0到1的突破，并向全品类、高纯度、大规模供应能力迈进，为构建安全、韧性、自主可控的半导体产业链提供关键支撑。 # 一、湿电子化学品产品概述 湿电子化学品（Wet Chemicals），又称超净高纯试剂或工艺化学品（Process Chemicals），是指主体成分纯度大于 $99.99\%$ ，且金属杂质含量、颗粒控制等指标符合SEMI G1-G5级标准的专用化学试剂。其中G1级要求金属杂质 $\leq 10\mathrm{ppm}$ （ppm为百万分之一）、控制 $\geq 1.0\mu \mathrm{m}$ 颗粒；G5级要求金属杂质 $\leq 10\mathrm{ppt}$ （ppt为万亿分之一）、 $>0.5\mu \mathrm{m}$ 颗粒 $ SMEI 标准 G1 G2 G3 G4 G5 金属杂质/(μg/L) ≤1000 ≤10 ≤1 ≤0.1 ≤0.01 控制粒径/μm ≤1.0 ≤0.5 ≤0.5 ≤0.2 供需双方协定 颗粒个数/(个/mL) ≤25 ≤25 ≤5 供需双方协定 供需双方协定 适应IC线宽*范围/μm >1.2 0.8-1.2 0.2-0.6 0.09-0.2 应用 分立器件、太阳能电池 显示面板 大规模集成电路IC、超高清LCD、OLED显示面板 超大规模集成电路IC、超高清LCD、OLED显示面板 超大规模集成电路IC 资料来源：国际半导体设备与材料组织（SEMI），江化微，深企投产业研究院整理。 湿电子化学品是电子化学品领域的重要分支，属于精细化工与电子信息行业交叉的技术密集型产业。作为集成电路（半导体）、显示面板、太阳能光伏、印制电路板等电子制造过程中不可或缺的关键基础材料，其主要应用于微电子和光电子产业的湿法工艺制程，包括清洗、湿法刻蚀、显影、剥离等关键环节。由于电子制造对工艺环境和材料纯度要求极为严苛，即使微量杂质或污染也可能显著影响产品的成品率、电性能及长期可靠性，因此湿电子化学品的质量直接决定了下游微电子制造技术的产业化水平和先进程度。 表 2 湿电子化学品按应用领域分类 应用行业 主要工艺环节 制造过程中应用的主要湿电子化学品 集成电路 晶圆制造/前道工艺(光刻、蚀刻、离子注入、CMP、金属化等) 电子级硫酸、电子级双氧水、电子级氨水、电子级氢氟酸、电子级硝酸、异丙醇、电子级磷酸、电子级盐酸等通用湿电子化学品及各类蚀刻液、电镀液、清洗剂、稀释剂、去边剂、显影液、剥膜液等功能湿电子化学品 传统封装/后道工艺(去毛刺、电镀等) 电镀液及电镀液添加剂 显示面板 TFT-LCD 面板Array 段制程、CF段制程等 蚀刻液、清洗剂、稀释液、显影液、剥膜液、氢氟酸溶液等 OLED 面板 Array 段制程 BOE 蚀刻液、显影液、Ag 蚀刻液、剥膜液、稀释液、清洗剂、NMP 等 太阳能光伏 太阳能电池硅片制绒、清洗及蚀刻等环节 氢氧化钠、异丙醇等碱处理剂；硝酸、氢氟酸等酸处理剂；配合碱/酸处理剂使用的清洗剂 资料来源：兴福电子招股说明书申报稿，深企投产业研究院整理。 湿电子化学品行业具有技术门槛高、产品更新迭代快、品种规格繁多、专业跨度大、资金投入密集、客户认证周期长以及客户粘性强等显著特点。随着集成电路制程不断向更小线宽演进，湿电子化学品也必须同步升级，一代微细加工技术往往需要配套一代超净高纯试剂，推动产品持续迭代。正因如此，高端湿电子化学品（如G5级）不仅技术壁垒高，附加值也远高于普通化学品，毛利率可达 $40\%$ 以上，已成为化工行业向高技术、高附加值方向转型升级的重要突破口。 按照组成成分和应用工艺不同，湿电子化学品可分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品。通用湿电子化学品通常指成分相对简单、标准化程度高、在制造过程中被大量使用的基础性高纯化学品种类，主要包括高纯酸类、碱类、有机溶剂以及氧化剂等，主要用于常规清洗、蚀刻等基础湿法工艺。 表 3 通用湿电子化学品产品分类 产品类别 细分产品 酸类 电子级硫酸、电子级氢氟酸、电子级硝酸、电子级 磷酸、电子级盐酸、电子级乙酸（醋酸）等 碱类 电子级氨水、电子级氢氧化钠、电子级氢氧化钾、四甲基氢氧化铵（TMAH）等 有机溶剂类 醇类，如电子级甲醇、乙醇、异丙醇（IPA）；酮类，如丙酮、丁酮、环己酮；酯类，如乙酸乙酯、乙酸正丁酯；烃类，如甲苯、二甲苯、正己烷、环己烷；卤代烃类，如三氯乙烯、四氯乙烯 氧化剂类 电子级双氧水（过氧化氢） 其他类 电子级氟化铵、胆碱、冰乙酸等 资料来源：公开资料，深企投产业研究院整理。 功能湿电子化学品则是为满足集成电路、显示面板等先进制造中特定工艺需求，通过科学复配高纯化学原料（如酸、碱、有机溶剂、螯合剂、表面活性剂、缓蚀剂等）而开发的定制化高纯复配体系，重点应用于精密蚀刻、颗粒去除、显影、光刻胶剥离等关键环节。与通用类产品相比，功能湿电子化学品在确保超高纯度的同时，更强调实现特定的化学或物理功能，其技术核心在于配方设计与工艺适配，通常需要针对不同客户的设备、材料和制程条件进行长期的研发、调配、验证及上线测试，产品配方、实现工艺为核心商业机密。 表 4 功能湿电子化学品产品分类 功能分类 功能说明 细分产品 清洗液/清洗剂 去除晶圆/基板表面的颗粒、有机物、金属离子、自然氧化层等污染物 去胶清洗液、金属残留清洗液、晶圆边缘清洗液、CMP后清洗液、颗粒去除液等 蚀刻液/刻蚀剂 选择性刻蚀特定材料（如硅、多晶硅、金属、氧化物等），形成电路图形、 硅蚀刻液、多晶硅蚀刻液、金属蚀刻液（铜/铝）、氧化物蚀刻液、氮化物蚀刻液、钴蚀刻 通孔、沟槽等微结构 液、钉蚀刻液、BOE缓冲蚀刻液等 显影液/显影剂 选择性溶解曝光区域(正胶)或未曝光区域(负胶),形成图形 正性/负性光刻胶显影液、深紫外(DUV)/极紫外(EUV)专用显影液等 剥离液/剥离剂 去除图形化完成后残留的光刻胶及刻蚀/离子注入产生的副产物 正胶/负胶剥离液、干膜剥离液、等离子灰化后残留物去除液等 化学机械抛光液 在CMP工艺中实现平坦化,兼具化学反应与机械研磨作用 氧化硅、铜、钨、钴、钌、STICMP抛光液(浆料) 镀层材料/电镀液 通过电化学或化学沉积方式在基材表面形成金属层,实现导电、互连、保护等特定功能 按金属材质:铜/镍/锡/金/银/合金电镀液等;按工艺场景:TSV/RDL/Bumping/UBM/传统封装/晶圆制造电镀液 表面处理剂 光刻前增粘处理、金属防氧化处理,改变材料表面性质(如亲/疏水性、钝化、活化) HMDS(六甲基二硅氮烷)、硅烷偶联剂、铜保护液(BTA、DPE)、表面活化剂(用于后续沉积)、预浸液等 其他功能化学品 稀释、返工、辅助等特定工艺环节使用的功能化学品 稀释液、再生剂(返工液)、光刻胶边缘去除剂、抗反射涂层、晶圆减薄液、缓冲液等 资料来源：公开资料，深企投产业研究院整理。化学机械抛光液通常作为独立品类存在。 通用湿电子化学品需求量远大于功能性湿电子化学品。据中国电子材料行业协会数据，2019年我国湿电子化学品需求量中，通用性湿电子化学品用量占比高达 $88\%$ ，其中又以过氧化氢（双氧水）、氢 氟酸、硫酸、硝酸等用量较多，而显影液、蚀刻液、剥离液等功能湿电子化学品则通常仅用于特定工序，因此用量相对较少，如下图所示。 图12019年我国各类湿电子化学品占总需求比例 资料来源：中国电子材料行业协会，太平洋证券。 在湿电子化学品的应用领域中，光伏电池、显示面板和集成电路制造对产品纯度、性能及技术门槛的要求依次提高，呈现出明显的梯度差异。具体而言，光伏电池制造主要使用G2-G3等级的通用湿电子化学品（如电子级氢氟酸、硝酸、双氧水等），功能性化学品占比较低，整体毛利率相对较低；显示面板领域（尤其是高世代线）则普遍采用G3-G4等级产品，通用型仍占主导，但对特定蚀刻液、清洗剂等功能性化学品的需求明显增加，毛利率有所提升；而集成电路制造，特别是先进制程（28nm及以下），对湿电子化学品的纯度要求达到G4-G5级，且功能性化学品在配方复杂度和定制化程度上显著提高，其占比和附加值远高于通用型产品，因此毛利率也最高。 # 二、湿电子化学品市场规模 # （一）全球市场规模 根据中国电子材料行业协会统计和测算，2024年，全球在集成电路、新型显示、光伏太阳能电池三大应用市场使用湿化学品总规模达到101.02亿美元，同比增长 $3.6\%$ 。其中集成电路领域用湿化学品市场规模达到70.9亿美元，市场占比达到 $70\%$ ；新型显示领域用湿化学品市场规模达到19.48亿美元，市场占比为 $19\%$ ；晶硅太阳能电池领域用湿化学品市场规模达到10.64亿美元，市场占比为 $11\%$ 。 图2 2024年全球湿电子化学品分应用领域市场规模（亿美元） 资料来源：中国电子材料行业协会《2025版湿电子化学品产业研究报告》，深企投产业研究院整理。 分产品看，根据TECHCET预测数据，2023年全球湿电子化学品市场份额中，电子级硫酸、双氧水、铜蚀刻液、CMP抛光液、氨水、磷酸、铝蚀刻液占比较高，分别为 $23\%$ 、 $20\%$ 、 $14\%$ 、 $14\%$ 、 $8\%$ 、 $7\%$ 、 $5\%$ ，如下图所示。 图3 全球2023年湿电子化学品市场份额 资料来源：TECHCET、国海证券，深企投产业研究院整理。 # （二）中国市场规模 随着集成电路国产化战略深入推进以及我国显示面板制造产能持续扩张，湿电子化学品作为关键基础材料，其国内市场需求量呈现强劲增长态势。据中国电子材料行业协会（CEMIA）数据显示，2024年我国湿电子化学品总需求量达450.97万吨，同比增长 $22.3\%$ 。其中，集成电路和显示面板领域分别消耗125.35万吨和102.80万吨，同比增幅分别为 $30.23\%$ 和 $18.71\%$ ，成为拉动市场增长的核心驱动力。 展望未来，受益于半导体先进制程扩产、新型显示技术迭代及光伏产业市场回暖，湿电子化学品需求量将持续攀升。预计到2025年，全国湿电子化学品总需求量将增至468.52万吨；其中，集成电路与显示面板领域需求量将分别提升至154.31万吨和113.20万吨，同比增长 $23.10\%$ 和 $10.12\%$ 。至2028年，国内湿电子化学品总需求量有望达到594.64万吨，其中集成电路、显示面板及太阳能电池领域的需求量预计将分别达184.01万吨、151.70万吨和258.93万吨。 图42016-2028年中国湿电子化学品需求量（万吨） 资料来源：中国电子材料行业协会，深企投产业研究院整理。 受光伏市场量增价减、价格竞争拖累，2023年以来我国湿电子化学品总体市场规模增长停滞。根据中国电子材料行业协会数据，2024年度中国湿电子化学品市场规模为223.60亿元，同比基本持平，其中集成电路/显示面板的市场规模分别为79.3亿元、75.2亿元，同比分别增长 $9.99\%$ 、 $8.67\%$ ，预计2025年我国湿电子化学品总体市场规模同比微幅下降至222.40亿元，但集成电路与显示面板领域市场规模都将保持增长，预计将分别增长至86.0亿元、80.1亿元。 图5 2016-2025年中国湿电子化学品市场规模（亿元） 资料来源：中国电子材料行业协会，深企投产业研究院整理。 根据中国电子材料行业协会（CEMIA）统计，2024年中国集成电路前道晶圆制造（即前道工艺）用湿化学品市场规模64.5亿元，同比增长 $9.7\%$ 。预计2025年中国集成电路前道晶圆制造用湿化学品市场规模将增长至69.7亿元。2024年中国集成电路后道封装（即后道工艺，含传统封装与先进封装）用湿化学品市场规模14.8亿元，同比增长 $11.3\%$ ，随着晶圆制造工艺的不断提升，对与之配套的封测技术同步要求提高，传统封装技术的发展将趋于平稳，先进封装技术的应用将进一步加强，对湿化学品的需求也将随之增加，预计2025年中国集成电路后道工艺用湿化学品市场规模将达到16.3亿元。 图62021-2025年中国集成电路用湿电子化学品市场规模（亿元） 资料来源：中国电子材料行业协会，深企投产业研究院整理。 2024年中国新型显示用湿化学品市场规模达75.2亿元，预计2025年增至80.1亿元；同期市场需求量从102.8万吨增长至113.2万吨。其中，TFT-LCD领域2024年市场规模为44.8亿元，受行业周期影响同比下降 $1.3\%$ ，2025年有望回升至45.6亿元；OLED领域则保 持增长，2024年市场规模30.4亿元，2025年预计达到34.5亿元。 相比之下，光伏太阳能电池用湿化学品市场在2025年面临调整压力。2024年该领域市场规模为69.1亿元，但受产业观望情绪影响，预计2025年将降至56.3亿元，2026年或延续下行态势。 # 三、竞争格局及主要企业 # （一）全球市场格局 目前全球范围内从事湿电子化学品研究开发及大规模生产的厂商主要集中在美国、德国、日本、韩国、中国台湾、中国大陆等地区。根据中国电子材料行业协会数据，按湿电子化学品销售额统计，2023年欧美传统企业全球市场份额约为 $30\%$ ，日本企业全球市场份额约为 $27\%$ ，中国台湾地区、韩国、中国大陆本土企业的全球市场份额合计约为 $42\%$ ，余下 $1\%$ 市场份额由其他国家、地区所有。 图7 2023年全球湿电子化学品市场份额 资料来源：中国电子材料行业协会，深企投产业研究院整理。 全球湿电子化学品市场呈现明显的层级竞争格局，高端领域长期由海外厂商垄断。欧美、日韩企业凭借先发优势，在产品品类丰富度与技术水平上占据领先地位，尤其在集成电路用湿电子化学品领域， 国外公司占据绝对主导权，国内企业的全球市场占有率仅约 $9\%$ 。从主要领域看，通用湿电子化学品市场中，德国巴斯夫以齐全的集成电路用产品品类占据最高全球市场份额，韩国东友、比利时索尔维、中国台湾联仕及多家日本企业也拥有较高市场份额；功能湿电子化学品因技术门槛高，美国杜邦、英特格、德国巴斯夫、日本东京应化等企业在特定品种上形成垄断优势，把控全球半导体用高端产品市场。 # （二）中国市场格局 我国湿电子化学品产业集中在低端市场，高端产品主要依赖进口。国内产业起步较晚，初期因品类丰富度不足和提纯技术限制，企业多集中于低端市场。国内企业优势产品相对单一，尽管部分厂商品类较多，但拳头产品有限，缺乏在多个品种均具备高市场占有率的龙头企业，与国际巨头存在结构性差距。目前国外湿电子化学品生产企业已实现SEMI G5标准产品的量产，国内主流产能仍停留在SEMI G2-G3标准，高端领域湿电子化学品的规模化生产还未形成，大部分高端产品严重依赖国外先进产品。 近年来国产替代快速推进。太阳能光伏用湿电子化学品整体国产化率已接近 $100\%$ 。在新型显示领域，2023年我国湿电子化学品整体国产化率已超过 $45\%$ 。随着OLED产业的快速发展，下游需求持续增长，带动国内企业稳步提升技术能力与供应水平。同时受国内厂商竞争力提升的影响，部分外资企业开始出售其我国的工厂，国内企业借此契机成功完成多项并购，直接推动了国内新型显示用湿电子化学品的技术水平，2024年国内产品在国内市场上的占有率进一步提升至 $54\%$ ，新型显示领域湿电子化学品基本实现了国内产品的主流供应。 根据中国电子材料行业协会数据，2020年我国半导体工艺用湿电子化学品整体国产化率 $23\%$ ，2021年攀升至 $35\%$ ，2022年达到至 38%，2023年进一步提升至44%，如下图所示。 图8 2020-2023年我国半导体用湿电子化学品国产化率 资料来源：中国电子材料行业协会，深企投产业研究院整理。 通用湿电子化学品国产化进展迅猛。近年来，国内企业在电子级（半导体G5级）氢氟酸、硫酸、双氧水、磷酸、硝酸、氨水等品种上取得显著突破，在12英寸晶圆 $28\mathrm{nm}$ 以上工艺制造方面已基本实现大批量供货，在 $28\mathrm{nm}$ 以下技术节点晶圆制造应用方面稳步推进。2024年，行业整体国产化进程提速，电子级双氧水、硫酸、氢氟酸及磷酸等核心品种表现尤为突出。据CEMIA统计测算，上述产品在国内市场的综合占有率已达 $55\%$ ，集成电路用通用湿电子化学品，用量较大的无机类品种，基本可以满足国内主要应用厂商的需求。但当前供应仍主要集中于本土市场，全球市场份额有待提升。 功能湿电子化学品方面，国内电子化学品企业与国际先进企业相比差距较大，目前量产供应的主要有电镀液、硅蚀刻液、28nm以上技术节点用各类清洗剂及少部分蚀刻液、剥膜液。 随着集成电路、显示面板等下游产业产能持续扩张，以及国家政策大力扶持，具备高端产品稳定生产能力的本土企业将迎来广阔替代 空间。未来依托运输、价格和售后服务等本土化优势，在品类丰富度与技术深度上持续突破的国内厂商有望获得更多市场机会。 # （三）国内外主要企业 # 1、欧美主要企业 欧美湿电子化学品主要厂商包括德国巴斯夫、默克、汉高，美国陶氏化学、霍尼韦尔、英特格、亚什兰、艾万拓、空气化工，比利时索尔维、优美科，法国阿科玛等，主要企业如下表所示。 表 5 欧美湿电子化学品代表企业 序号 企业名称 湿电子化学品业务情况 1 德国巴斯夫 BASF 行业领先供应商,拥有集成电路用湿电子化学品的主要品种,全球市场份额最高,涵盖无机高纯试剂、有机溶剂、功能性配方液(如光刻胶配套试剂)等 2 美国杜邦 DuPont 2019年美国陶氏杜邦拆分后,新杜邦承续原陶氏和原杜邦的湿电子化学品及光刻胶业务,在有机硅基电子化学品、封装材料、CMP浆料添加剂、高纯溶剂等领域具优势,2025年杜邦计划分拆其电子材料业务并独立上市 3 美国霍尼韦尔 Honeywell 高纯无机化学品主力,超高纯酸如氢氟酸、盐酸、硫酸,氨水、双氧水等领域具备G5级量产能力;高纯有机溶剂(IPA、NMP、丙酮、乙醇)、功能性配方化学品等 4 美国英特格 Entegris 2014年收购ATMI(半导体用聚合物剥离液厂商),2022年收购全球CMP抛光液龙头卡博特微电子Cabot Microelectronics并整合为CMC,产品线涵盖高纯酸、碱、溶剂、配方液,2023年其半导体高纯工艺化学品(高纯硫酸、双氧水、氢氟酸、氨水、异丙醇等)业务被日本富士胶片收购 5 美国亚什兰 Ashland 中间体和溶剂业务部门是1,4-丁二醇、四氢呋喃、n-甲基吡咯烷酮、γ-丁内酯以及其他下游产品的全球领先制造商及供应商,湿电子化学品涵盖溶剂、蚀刻剂和清洗剂等,在电子级HMDS原料供应中占据主导地位 6 美国艾万拓Avantor 全球湿电子化学品主要供应商之一，核心产品包括超净高纯试剂（高纯硫酸、盐酸、硝酸、氢氟酸、氨水、双氧水等）、电子级溶剂与清洗剂（异丙醇IPA、丙酮、NMP）等 7 德国默克MerkKGaA 2019年以58亿欧元收购美国慧瞻科技Versum Materials,主要产品线为CMP抛光液(源于慧瞻)、光刻胶配套试剂等 8 比利时索尔维Solvay 主要产品为电子级超纯过氧化氢（H2O2）、含氟冷却液、特种聚合物等，是全球电子级过氧化氢市场的技术和市场领导者，中国大陆电子化学品工厂位于上海和镇江 9 美国空气化工AirProducts andChemicals 产品包括高纯度硫酸、异丙醇（IPA）、氢氧化铵等半导体高纯工艺化学品，CMP后清洗液、碱性、酸性的剥离液在半导体领域有较大的市场，2016年其CMP抛光液等业务分拆为Versum Materials 10 德国汉高Henkel LCD玻璃清洗液、剥膜的剥离液及显影液在全球液晶面板生产企业得到广泛应用 11 法国阿科玛Arkema 用于CVD/ALD工艺的高纯度特种化学品前驱体(如高K前驱体)、电子级过氧化氢、特殊溶剂等 12 美国麦德美乐思MacDermidEnthane 特种化学品与电子材料供应商，隶属于ElementSolutions Inc,2015年由麦德美（MacDermid）和乐思化学（Enthane）2家公司合并而来，湿电子化学品产品线主要有PCB前处理化学品、电镀化学品、半导体封装材料 13 德国安美特Atotech 特种化学品技术公司，被美国万机仪器MKS收购，产品涵盖化学沉铜专用化学品、电镀专用化学品、铜面处理专用化学品和其他湿制程化学品，定位高端，主要服务于全球头部PCB制造商、封装基板厂和半导体客户 14 比利时优美科Umicore 以循环材料科技为核心的特种材料企业，湿电子化学品并非主营业务，主要涉及功能性金属溶液与电化学沉积材料，如贵金属电镀液与添加剂、化学镀前驱体溶液等 资料来源：公开资料，深企投产业研究院整理。 # 2、日本主要企业 日本主要厂商包括住友化学、关东化学、三菱化学、信越化学、Stella Chemifa、三菱瓦斯化学、宇部兴产等，主要企业如下表所示。 表 6 日本湿电子化学品主要企业 序号 企业名称 湿电子化学品业务情况 1 住友化学 Sumitomo Chemical 半导体、显示面板等领域用超净高纯化学试剂,在大尺寸晶圆制造应用的湿电子化学品方面具有优势,2024年中国大陆的合肥、重庆工厂(供应面板蚀刻液、显影液、剥离液等)出售给镇江润晶股份 2 关东化学 Kanto Chemical 全球半导体用超高纯度化学品的核心供应商,主要是半导体用酸碱类超净高纯试剂(硫酸、氢氟酸、氨水等)和功能性化学品(缓冲蚀刻液、清洗液、显影液等),占有重要份额 3 三菱化学 Mitsubishi Chemical 主要生产高纯硫酸、硝酸、盐酸、草酸、双氧水、氨水及微电子加工所用清洗剂、刻蚀液 4 信越化学 Shin-Etsu Chemical 主要生产、提供半导体用光刻胶及其配套的湿电子化学品 5 东京应化 TOK 以光刻胶为主,同时生产部分其它微电子化学品(如配套试剂) 6 Stella Chemifa 主要生产半导体及平板显示用高纯氢氟酸产品,全球电子级氢氟酸龙头,广泛应用于3nm及以下先进制程晶圆清洗环节 7 三菱瓦斯化学 Mitsubishi Gas Chemical 超纯过氧化氢、高纯氢氟酸,是全球半导体用超纯过氧化氢龙头企业(份额近50%) 8 宇部兴产 UBE Industries 主要生产半导体、显示面板等湿电子化学品,品种较多,同时包括锂电池电解液溶剂碳酸二甲酯/碳酸甲乙酯等 9 力诺森科 Resonac 2023年由昭和电工与日立化成合并而成,承续了原日立化学的湿电子化学品业务,涵盖半导体CMP抛光液、液体封装材料、PCB阻焊油墨等 10 艾杰旭 AGC 株式会社（原旭哨子） 隶属于三菱集团，全球最大的玻璃公司之一，其湿电子化学品产品线涵盖蚀刻液、清洗剂、抛光液以及用于 EUV 光刻等前沿技术的含氟材料等 11 大金工业 DaiKin 以氟化物为基础的湿电子化学品，如氢氟酸、缓冲氢氟酸等，用作半导体干法/湿法蚀刻剂，中国大陆基地为苏州的大金氟化工（中国）有限公司 12 日本磷化工Rin Kagaku Kogyo 专营磷化工相关业务，在电子级磷酸等特定产品领域有重要地位 13 日本 RASA 其半导体级磷酸在亚洲市场占有较大份额，是电子级磷酸的重要供应商 14 日本德山 Tokuyama Corporation 综合性化工企业，湿电子化学品主要涵盖电子级异丙醇（IPA）、电子级硫酸、TMAH显影液等，中国台湾子公司台湾德亚玛为台积电供应商之一 15 日本森田化学Morita Chemical 日本氟化学的先驱者之一，半导体电子级氢氟酸主要企业，在中国大陆与三美股份设立合资公司浙江森田新材料有限公司 16 富士美 Fujimi 专注于特种化学品技术，主要产品包括半导体CMP抛光液、精密磨料材料等，2023财年销售收入达584亿日元（约合人民币27亿元） 17 日本田中贵金属Tanaka Kikinzoku 覆盖半导体、电子零部件到饰品领域的贵金属综合制造商，湿电子化学品聚焦贵金属电镀液领域，在金凸块和RDL线路的无氰电镀液领域基本形成技术垄断 18 日本石原药品Ishihara Yakuhin 隶属于石原产业，湿电子化学品领域主要涉及电镀材料业务，电镀锡银产品在相关细分市场近乎垄断地位 19 日本上村工业C.Uyemura 湿电子化学品业务主要涵盖电镀化学品及相关表面处理材料 20 日本长濑产业株式会社 Nagase 日本十大综合商社之一，业务涵盖化学品、电子材料、汽车零部件、健康食品等领域，湿电子化学品主要涉及TMAH显影液，中国大陆生产基地分布在无锡和厦门，显影液生产基地为无锡三开高纯化工有限公司 资料来源：公开资料，深企投产业研究院整理。 # 3、韩国主要企业 韩国主要厂商包括东友精细化工、东进世美肯、秀博瑞殷、ENF Technology等，主要企业如下表所示。 表7韩国湿电子化学品主要企业 类型 企业名称 湿电子化学品业务情况 1 东友精细化工Dongwoo Fine-Chem 日本住友化学在韩国成立的子公司，韩国国内最先开发半导体、TFT-LCD制造过程中必需的高纯度化学品、蚀刻液 2 东进世美肯 Dongjin Semichem 涵盖新型显示（TFT-LCD，OLED等）领域用所有功能性化学品，如显影液、剥离液、蚀刻液、清洗液等，在平板显示用湿电子化学品领域实力强劲，在铜制程相关化学品上具有垄断优势，中国大陆基地包括东进电子材料（启东）有限公司、合肥东进世美肯科技有限公司 3 秀博瑞殷 Soul-brain 湿电子化学品产品线涵盖氢氟酸、BOE蚀刻液、高选择比磷酸等，是全球领先的高纯氢氟酸供应商之一，在韩国市场占有率高 4 ENF Technology 韩国半导体与显示面板用湿电子化学品的重要供应商，产品涵盖刻蚀液、显影液、稀释剂、剥离液等，2023年在中国的合资公司被雅克科技收购主要股权 5 YMT 专注于PCB、封装、光电、半导体用高纯度湿电子化学品，PCB化学药水主要企业，产品线涵盖表面处理化学品、电镀化学品等 资料来源：公开资料，深企投产业研究院整理。 # 4、中国台湾主要企业 中国台湾地区主要厂商包括东应化、联仕电子、关东鑫林、达兴材料、理盛精密、永光化学、新应材、广明实业、胜一化工等，主要企业如下表所示。 表 8 中国台湾湿电子化学品主要企业 类型 企业名称 湿电子化学品业务情况 1 东应化股份有限公司 日本东京应化TOK与台湾长春化学合资,主要生产半导体、TFT-LCD用剥膜液、显影液等湿电子化学品 2 联仕电子材料股份有限公司 拥有3-4万吨电子湿化学品年产能,为半导体、FPD、PV和LED行业的清洗和蚀刻应用提供高品质、高纯度的化学品,当前住友化学计划收购 3 关东鑫林科技股份有限公司 前身为鑫林科技,2012年期成为日本关东化学子公司,G5双氧水技术品质达到全球第一梯队,其他产品包括电子级硫酸、碱类、有机溶剂类以及功能湿电子化学品等 4 广明实业股份有限公司 台硝集团大股东,是中国台湾地区最主要的电子级硫酸、工业级硝酸生产厂家,电子级硫酸主要供应台积电及其他中国台湾地区半导体厂家 5 达兴材料股份有限公司 以生产LCD化学材料为主要业务,产品涵盖光刻胶及其配套试剂如显影液、剥离液、清洗剂、稀释剂等 6 理盛精密科技股份有限公司 台日合资企业,由日本RASA工业公司控股,主要生产高纯度磷酸,主要用途是液晶面板蚀刻液,台积电供应商之一 7 永光化学工业股份有限公司 半导体光刻胶及配套试剂剥离液、CMP后清洗液等 8 新应材股份有限公司 半导体光刻及胶配套试剂,包括去边剂(EBR)、底部抗反射层(BRAC)、表面改质剂等 9 胜一化工股份有限公司 台湾主要的化学溶剂生产商,台积电制程用化学原料主要供应商之一,以有机化学溶剂为主,涵盖PMA、异丙醇、正丁基乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙酮、异丁基乙酸酯、正丙基乙酸酯等 10 三福化工股份有限公司 半导体、LCD、太阳能光伏等领域的湿电子化学品,涵盖通用湿电子化学品和功能湿电子化学品,其中半导体用湿电子化学品主要以G2、G3级别的超净高纯试剂为主 11 超特国际股份有限公司 专注于PCB专用的湿电子化学品,涵盖微蚀液、棕化液、黑化液、除胶渣剂、沉铜药水、电镀添加剂等,中国大陆生产基地位于无锡和湖北黄石 资料来源：公开资料，深企投产业研究院整理。 # 5、中国大陆主要企业 目前中国大陆从事湿电子化学品研究生产的企业达50多家，重点企业包括湖北兴福电子（A股）、苏州晶瑞电材（A股）、中巨芯（A股）、江阴江化微（A股）、杭州格林达（A股）、上海新阳（A股）、江阴润玛、联仕新材、滨州裕能、江苏达诺尔、苏州博洋股份、上海飞凯材料（A股）、广东光华科技（A股）、上海天承科技（A股）、西陇科学（A股）、多氟多（A股）、新宙邦（A股）、安集科技（A股）、湖北鼎龙股份（A股）等，具体如下表所示。 表 9 国内湿电子化学品主要企业 序号 企业 湿电子化学品产品 经营规模 基地 1 安集微电子科技(上海)股份有限公司(A股) CMP抛光液;功能性湿电子化学品主要包括刻蚀后清洗液、光刻胶剥离液、抛光后清洗液、刻蚀液和电镀液系列产品。刻蚀后清洗液、光刻胶剥离液、抛光后清洗液已经广泛应用于8英寸、12英寸晶圆的集成电路制造领域。 2024年CMP抛光液营收15.45亿元、产量3.31万吨,功能性湿电子化学品营收2.77亿元、产量0.44万吨。 上海、宁波北仑 2 湖北兴福电子材料股份有限公司(A股) 电子级磷酸、电子级硫酸(G5)、电子级双氧水(G5)等通用湿电子化学品,以及蚀刻液、清洗剂、显影液、剥膜液、再生剂等功能湿电子化学品。电子级磷酸产品在国内半导体领域市场占有率第一。 兴发集团控股。湿电子化学品业务2024年营收10.20亿元,产量13.93万吨(通用13万吨,功能0.93万吨);2025H1营收6.72亿元,其中集成电路用产品销量7.55万吨。现有产能37.4万吨/年,包括电子级磷酸6万吨、电子级硫酸10万吨、电子级双氧水3万吨、功能湿电子化学品5.4万吨以及电子级氨水2万吨。 湖北宜昌、上海、重庆 3 晶瑞电子材料股份有限公司(A股) 超净高纯试剂：G5级高纯双氧水、高纯硫酸、高纯氨水、高纯异丙醇、高纯盐酸、高纯硝酸，其他超净高纯试剂包括BOE、硝酸、盐酸、TMAH、NMP、异丙醇；功能性材料：显影液、剥膜液、蚀刻液、清洗剂 湿电子化学品（高纯化学品）业务2024年营收7.78亿元，2025年H1营收4.51亿元；高纯硫酸、高纯双氧水产能近30万吨/年。高纯双氧水国内市场占有率超40%。 苏州、四川眉山、湖北潜江 4 中巨芯科技股份有限公司(A股) 电子级氢氟酸（G5）、电子级硝酸（G5）、电子级硫酸（G5）、电子级盐酸（G4）、电子级氨水（G4）、电子级氯化铵（G4）、缓冲氧化物蚀刻液（G4）、硅蚀刻液（G3）；国内少数能稳定批量供应12英寸集成电路制造用电子级氢氟酸，为12英寸先进制程稳定批量供应电子级硫酸，为逻辑芯片、存储芯片制造稳定批量供应电子级硝酸的企业 湿电子化学品业务2024年营收7.49亿元，产量11.75万吨；2025年H1营收4.34亿元，销量7.56万吨。现有产能超30万吨/年，在建及新规划产能约20万吨/年。 浙江衢州（含浙江凯圣氟化学）、湖北潜江 5 江阴江化微电子材料股份有限公司(A股) 1、酸碱类：硫酸、氨水、过氧化氢、盐酸、硝酸、磷酸、氢氟酸、冰乙酸、氟化铵、胆碱、氢氧化钾、氢氧化钠；2、溶剂：甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、醋酸丁酯、乙二醇、N-甲基吡咯烷酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚醋酸酯；3、功能化学品：蚀刻液、显影液、漂洗液、剥膜液、清洗剂（稀释剂、边胶清洗剂） 超净高纯试剂2024年营收6.88亿元，产量8421万升；2025年H1营收3.64亿元。现有产能23.5万吨/年（含光刻胶配套试剂），镇江二期在建半导体湿电子化学品（氨水、盐酸、硝酸等）产能3.7万吨/年。 无锡江阴、镇江、四川眉山 6 杭州格林达电子材料股份有限公司(A股) 显示面板应用为主，涵盖TMAH显影液（G5）、CF显影液、铝蚀刻液、含氟类缓冲氧化蚀刻液（BOE蚀刻液）、稀释液、清洗剂等，核心产品为TMAH显影液、国内龙头 湿电子化学品业务2024年营收6.56亿元、产量7.72万吨；2025年H1营收3.15亿元。现有产能18.1万吨/年。 杭州、合肥、四川彭山、内蒙古鄂尔多斯 7 上海新阳半导体材料股份有限公司(A股) 晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂、晶圆制造用清洗剂、CMP研磨液、半导体封装用电子化学材料 2024年集成电路材料营收9.98亿元(含光刻胶)、产量2.02万吨;2025年H1集成电路材料营收7.09亿元,同比增长53.12%。现有产能1.9万吨/年,在建产能9.35万吨/年。 上海、合肥 8 江阴润玛电子材料股份有限公司 高性能蚀刻液、光刻胶剥离及清洗等配套试剂(剥膜液、清洗剂、氨水、双氧水、丙酮、显影液等)、其他湿电子化学品,其中BOE蚀刻液、氨水达到G5级,硅蚀刻液、清洗剂、稀释剂、显影液、双氧水、硝酸、氢氟酸达到G4等级 2021年营收5.24亿元,2022年H1营收2.73亿元;2021年产能7.27万吨/年,产量4.61万吨。 无锡江阴 9 联仕新材料(苏州)股份有限公司 电子级硫酸、氨水、双氧水、氢氟酸、磷酸、硝酸、冰醋酸、盐酸、氢氧化钾、TMAH、蚀刻液、CMP后清洗液、有机溶剂类。由台湾联仕电子化学材料股份有限公司大陆基地本土化。 主导产品达SEMI G5级,电子级硫酸产能15万吨/年,目前已实现8-12时集成电路大厂的供应,2024年营收超5亿元,国家级专精特新小巨人。荆州项目规划总产能49.2万吨/年。 苏州昆山、江西德兴及湖北荆州 10 江苏达诺尔科技股份有限公司(新三板) 主要产品包括超纯氨水、超纯异丙酮、超纯双氧水等产品,其中超纯氨水品质可达到10ppt级别,即SEMIG5级 2024年营收2.48亿元,2025年H1营收1.62亿元。现有产能11万吨/年,在建及规划22万吨/年。 苏州常熟、湖北潜江 11 上海飞凯材料科技股份有限公司(A股) 应用于半导体制造及先进封装领域的湿制程电子化学品如显影液、蚀刻液、剥离液、电镀液、CMP抛光液等 2024年底半导体材料的营收6.83亿元(含光刻胶),产能为1.92吨/年,产能利用率为88%。在建产能为40000吨/年。2025年h1半导体材料业务总收入为3.31亿元。 安徽安庆、苏州 12 西陇科学股份有限公司 超净高纯试剂主要包括各类高纯级别的无水乙醇、异丙醇、丙 2024年电子化学品(含湿电子化学品)实现营收9.23 汕头、佛山、成都 (A股) 酮、冰醋酸、丁酮、双氧水、乙酸丁酯、乙腈、甲苯、甲醇、二甲苯等;功能湿电子化学品包括蚀刻液、剥离液、去毛刺液等 亿元,产能7.5万吨/年,产能利用率83.39%;2025年H1电子化学品营收3.25亿元。 13 深圳新宙邦科技股份有限公司(A股) 半导体化学品:高纯化学品(超高纯氨水、超高纯双氧水等)、蚀刻液、剥离液、PI类材料、清洗液、冷却液等,应用于集成电路、显示面板等行业 半导体化学品2024年营收3.68亿元,产能9.57万吨/年、产量4.53万吨、在建产能5.1万吨/年。 惠州、天津、南通 14 多氟多新材料股份有限公司(A股) 电子信息材料:电子级氢氟酸(光伏级、半导体级)、电子级硅烷、其他电子级化学品(电子级硝酸、电子级氨水、电子级氟化铵、PI剥离液等)以及硼的同位素等,主要为电子级氢氟酸,具备G5技术、已进入半导体企业供应量 2024年电子信息材料(含非湿电子化学品)营收9.35亿元,电子级氢氟酸年产能6万吨(半导体级2万吨、光伏级4万吨),产能利用率90%,在建产能2万吨/年。预计电子级氢氟酸营收4-5亿元。 河南焦作、石嘴山、浙江衢州、湖北宜昌 15 湖北鼎龙控股股份有限公司(A股) 湿电子化学品业务主要涵盖CMP抛光液和CMP后清洗液 2024年CMP抛光液、清洗液营收2.15亿元。 湖北仙桃 16 广东光华科技股份有限公司(A股) PCB化学品包括孔金属化镀铜系列、镀镍金系列、镀锡系列、完成表面处理系列、褪膜系列、化学沉铜系列等 2024年PCB化学品营收16.43亿元,2025年H1营收8.71亿元。 汕头、珠海 17 广州三孚新材料科技股份有限公司(A股) PCB湿电子化学品(电镀材料等) 2024年电子化学品(基本为PCB专用化学品)业务营收3.24亿元、销量2.56万吨。 18 深圳市贝加电子材料股份有限公司 PCB湿电子化学品(化学镀、电镀材料) 国家级专精特新小巨人,2024年营收4.96亿元。 深圳、珠海、赣州、盐城、江门 19 深圳创智芯联科技股份有限公司 晶圆级封装化学镀镍金/镍钯金、TSV电镀铜、RDL电镀铜、电镀金、电镀镍 产品实现量产销售,2024年营收4.1亿元,70%来自PCB镀层材料,,国家级 深圳、珠海金湾、南通 专精特新小巨人,港股IPO申请中。 20 上海天承科技股份有限公司(A股) PCB化学品,包括沉铜电镀专用化学品、铜面处理专用化学品 2024年PCB化学品营收3.65亿元,销量1.95万吨;2025年H1总营收2.13亿元。 上海、珠海 21 广东硕成科技股份有限公司 PCB/IC载板孔金属电子化学品、PCB/IC载板干膜型光刻胶及半导体晶圆切割、晶圆减薄、先进封装领域的功能膜材料 2024年营收4.49亿元,国家级专精特新重点小巨人企业、广东省制造业单项冠军产品企业。 广州、韶关、河源、珠海、常州 22 信丰正天伟电子科技有限公司 PCB/FPC/IC载板专用化学品,包含孔金属化、电镀、线路组焊化学品等 2024年营收4.3亿元,国家级专精特新小巨人企业 深圳、赣州信丰、安徽宣城 24 深圳市松柏科工股份有限公司(新三板) PCB专用化学品,产品系列覆盖线路图形、孔金属化、电镀、铜面处理、最终表面处理等制程 2024年营收3.34亿元,国家级专精特新小巨人 25 苏州博洋化学股份有限公司 通用湿电子化学品包括电子级高纯异丙醇、丙酮、甲醇、氢氟酸、硝酸、盐酸、硫酸、磷酸、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铵等;功能湿电子化学品包括ITO蚀刻液、ITO/Ag/ITO蚀刻液、BOE蚀刻液、Mo/Al/M蚀刻液、Cu-Mo/Cu-Ti蚀刻液、显影液、剥离液、稀释液、清洗液等 国家级专精特新小巨人,2022年营收2.38亿元,苏州基地现有产能5万吨/年,安徽铜陵在建年产10万吨超高纯湿电子化学品项目(含电子级异丙醇IPA)2025年4月试生产。 苏州、安徽铜陵 26 福建德尔科技股份有限公司 电子级氢氟酸、电子级氨水、电子级双氧水、电子级BOE/SIO蚀刻液、铝蚀刻液、草酸蚀刻液等产品,应用于集成电路、显示面板、光伏等领域生产制造中的蚀刻、清洗等环节,已具备G5级电子级氢氟酸、电子级氨水、电子级双氧水和G4级电子级BOE/SIO蚀刻液生产能力 2024年半导体湿电子化学品营收1.57亿元,电子级氢氟酸产能1.8万吨/年。 福建龙岩 27 镇江润晶高纯化工科技股份有限公司 以电子级TMAH显影液为主(用于显示面板,2025年底供应28纳米晶圆厂),另有四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、高纯双氧水、氨水、异丙醇、平板显示蚀刻液、显影液、剥离液等,G5级产品包含TMAH显影液、双氧水、氨水、异丙醇 国内第二大电子级TMAH显影液生产企业,2024年收购住友化学合肥、重庆工厂延伸至平板显示蚀刻液、显影液及剥离液,湿电子化学品现有产能超过10万吨/年,2025年B轮融资8.7亿元,预计估值超百亿元,国家级专精特新小巨人。 镇江、合肥、重庆 28 江苏怡达化学股份有限公司(A股) 电子级双氧水、有机溶剂(电子级醇醚)等 泰兴怡达在建年产3万吨电子级双氧水项目,珠海怡达在建2.5万吨PM、PMA、Thinner液项目。 泰兴、珠海 29 滨州裕能电子材料股份有限公司 半导体级异丙醇IPA、电子级丙二醇甲醚PGME及丙二醇甲醚醋酸酯PGMEA、电子级EBR-7030,G3、G4级别,部分产品内达到G5,与韩国载元产业株式会社合作建设湿电子化学品项目 已建成12万吨/年电子级NMP,电子级NMP全球市场占率21.06%、产能及出货量全球第一,在建16.9万吨湿电子化学品及配套项目,国家级专精特新小巨人、制造业单项冠军企业。 山东滨州 30 华伦新材料(江苏)有限公司 丙二醇醚及醋酸酯、乙二醇醚及醋酸酯、高沸点芳烃溶剂、精细化学品、涂料树脂五大系列,全国最大的高沸点芳烃溶剂及醇醚溶剂生产基地 2024年开票收入66亿元,国家级专精特新小巨人,2025年12月申请在扬州新建20.7万吨/年电子级醇醚酯(PM、PMA等)高端专用精细化学品项目,2025年4月与连云港灌云签约。 扬州、南通、安庆、连云港(在建)等 31 浙江尚能实业股份有限公司 通用湿电子化学品:电子级氢氟酸、硝酸、盐酸、硫酸、氢氧化钾、氢氧化钠等;功能性湿电子化学品:各类蚀刻液、显影液、剥离液、清洗剂;有机溶剂:异丙醇、无水乙醇等 具备年产超净高纯试剂2.8万吨、通用化学试剂6万吨的能力,以光伏、显示面板行业应用为主。 绍兴上虞 32 信联电子材料科技股份 TMAH显影液已在Micro-LED、OLED、AMOLED、TFT-LCD产 2024年营收3.37亿元,IPO申请中,当前扩建年产6 河北沧州、湖北 有限公司 线中规模化应用,在集成电路3D NAND存储芯片制造及DRAM芯片制造中成熟应用,在国内晶圆代工厂实现量产供应;另有光刻胶配套试剂产品 万吨电子级TMAH(60%wt)项目,国家级专精特新小巨人、河北省制造业单项冠军企业。 荆州 33 昆山晶科微电子材料有限公司 专业生产各类高纯电子化学品、化学试剂、半导体专用蚀刻液、抛光液等产品,产品广泛应用于半导体IC、LCD、OLED、太阳能光伏、PCB等行业 湿电子化学品总产能为10万吨/年,2024年营收2.67亿元(以PCB化学品为主),国家级专精特新小巨人。 苏州昆山 34 昆山欣谷微电子材料有限公司 各类超净高纯电子化学品及光刻胶配套试剂,用于半导体(TR、IC)、平板显示(TFT-LCD、OLED、CF、TP等)、LED、晶体硅太阳能等工艺制造过程中的专用湿电子化学品 湿电子化学品产能5万吨/年,申请10.8万吨/年改扩建项目,2023年营收1.9亿元,浙江省专精特新企业。 苏州昆山 35 江苏联恒电子新材料科技有限公司 通用湿电子化学品涵盖电子级硝酸(2万吨G4)、氢氟酸(1万吨G5)、双氧水(1万吨G5)、盐酸(0.5万吨G4)、氨水(0.2万吨G5)、氟化铵(0.3万吨G3)、氢氧化钠溶液(0.2万吨)、硫酸、异丙醇、乙二醇、NMP等 年产12万吨的湿电子化学品项目中5.2万吨于2025年投产,2025年5月申请扩建年产25万吨电子化学品项目。 宿迁 36 广东哈福技术股份有限公司 PCB专用化学品,包括金属表面处理剂、PCB除胶沉铜电镀剂、PCB最终表面处理剂 2024年营收2.63亿元 中山 37 深圳市兴经纬科技开发有限公司 PCB专用化学品,包括棕化药水、黑化药水、化学沉镍金、镀铜光亮剂、防氧化剂、酸性蚀刻液、碱性蚀刻液、消泡剂、退膜水、显影剂、微蚀剂、除油剂和退锡水等 2024年营收1.79亿元 武汉、深圳、珠海 38 深圳市天熙科技开发有 PCB专用化学品,包括垂直与水平化学铜、VCP及填孔电镀铜、 2024年营收1.63亿元,国家级专精特新小巨人 深圳、珠海 限公司 脉冲镀铜、棕化、OSP、化学银、有机剥膜液、超粗化和半导体微电子功能材料等 39 东莞秀博电子材料有限公司 PCB专用化学品,涵盖酸性蚀刻、碱性蚀刻、微蚀液、棕化、中粗化、超粗化、减薄铜、退膜以及M-SAP等表面处理药液 2024年营收1.01亿元,广东省专精特新企业 东莞 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 02 # 通用湿电子化学品篇 通用湿电子化学品国产化进展迅猛。近年来，国内企业在电子级（半导体G5级）氢氟酸、硫酸、双氧水、磷酸、硝酸、氨水等品种上取得显著突破，在12英寸晶圆 $28\mathrm{nm}$ 以上工艺制造方面已基本实现大批量供货，在 $28\mathrm{nm}$ 以下技术节点晶圆制造应用方面稳步推进。2024年，行业整体国产化进程提速，电子级双氧水、硫酸、氢氟酸及磷酸等核心品种表现尤为突出。据CEMIA统计测算，上述产品在国内市场的综合占有率已达 $55\%$ ，集成电路用通用湿电子化学品，用量较大的无机类品种，基本可以满足国内主要应用厂商的需求。但当前供应仍主要集中于本土市场，全球市场份额有待提升。 # 一、电子级硫酸 电子级硫酸又称高纯硫酸、超纯硫酸，是半导体制造过程中用量最大的酸性湿电子化学品之一，广泛应用于清洗、蚀刻及光刻胶去除等关键工艺环节。在所有应用领域中，集成电路（IC）制造对电子级硫酸的需求量最大，尤其在8英寸和12英寸晶圆的前道清洗工艺中，要求使用符合SEMI G4至G5级标准的高纯产品。除半导体外，电子级硫酸也用于新型显示和太阳能光伏领域：在新型显示领域，主要用于TFT阵列制程中的基板清洗以及OLED器件制造中的有机残留去除；在太阳能光伏领域，则主要应用于N型高效电池（如TOPCon、HJT）的硅片清洗与制绒工艺。电子级硫酸价格是工业级硫酸价格的几十倍。 根据电子材料市场研究机构TECHCET在2022年发布的报告，预计到2025年全球集成电路用电子级硫酸总体需求量将增加至107.5万吨。根据兴福电子招股说明书及中国电子材料行业协会数据，在考虑西安三星、SK海力士中国、大连英特尔等在中国境内设厂的外资厂商的湿电子化学品需求量的情况下，2023年我国集成电路前道晶 圆制造用湿电子化学品市场总需求量为90.75万吨，其中电子级硫酸需求量为25.07万吨，用量占比达到 $27.6\%$ 。根据国海证券数据，2022年我国半导体行业电子级硫酸需求量为22.76万吨，显示面板行业需求量为0.69万吨，预计2025年将分别增长至43.36万吨和1.42万吨，如下图所示。 图92020-2025年我国半导体及光伏行业电子级硫酸需求量（万吨） 资料来源：国海证券，深企投产业研究院整理。 目前，全球电子级硫酸领先企业为德国巴斯夫，其他重点企业包括日本三菱化学、日本关东化学、美国艾万拓Avantor、美国霍尼韦尔、中国台湾联仕电子、中国台湾广明实业等，其中巴斯夫等企业已在中国大陆设立生产基地。国内主要供应厂商包括湖北兴福电子（A股）、苏州联仕新材、中巨芯（A股）、晶瑞电材（A股）、江阴江化微（A股），产品均可达G5级别；其他布局企业还有苏州博洋股份、江苏达诺尔、中石化南京化学工业等。 表 10 内资电子级硫酸重点企业 企业 现有产能 产销量及营收 湖北兴福电子（A股） 10万吨/年 2023年销量5.54万吨（国内5.38万吨），国内市场占比21.5%，营收2.07亿元；2024年销量8万 吨；上海兴福3万吨/年高纯电子级硫酸在建，预期进一步扩产到7万吨 苏州联仕新材 15万吨/年 台湾联仕电子的大陆基地本土化独立运作，2024年总体营收超5亿元、电子级硫酸为最大单品 中巨芯（A股） 4万吨/年 2022年销量2.39万吨、营收1.03亿元，华中基地产能正扩产至6万吨/年 晶瑞电材（A股） 9万吨/年 2023年高纯硫酸出货量0.5万吨，2024年度G5级高纯硫酸出货量同比增长近3倍，出货金额同比增长近2倍 浙江嘉福新材料科技有限公司 预计4.8万吨/年 A股嘉化能源子公司，与巴斯夫合作建立电子级硫酸生产基地，提供原料、场地和配套设施，产销由巴斯夫高纯电子化学品（嘉兴）有限公司负责，满足半导体等行业需求 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 二、电子级双氧水（过氧化氢） 电子级双氧水（高纯双氧水）是湿电子化学品中用量最大的品类之一，主要作为强氧化剂，广泛应用于半导体、显示面板和光伏等领域的清洗工艺。其核心作用是利用氧化性，分解基材表面的有机污染物、促进颗粒脱附，并将低价态金属杂质氧化为高价态以利于后续清除。在实际工艺中，电子级双氧水通常与其他化学品（如浓硫酸、硝酸、氢氟酸、氢氧化铵等）按特定比例复配使用。 根据国海证券数据，2022年我国半导体行业电子级双氧水需求量为19.66万吨，光伏行业需求量为18.53万吨，预计2025年将分别增长至40.2万吨和37.95万吨，如下图所示。 图10 2020-2025年我国半导体及光伏行业电子级双氧水需求量（万吨） 资料来源：国海证券，深企投产业研究院整理。 国际上电子级双氧水主要企业包括德国巴斯夫、日本三菱瓦斯化学（MGC）、比利时索尔维（国内基地在镇江）、德国赢创工业、日本关东化学（关东鑫林）、美国霍尼韦尔、韩国韩松化工等。国内主要企业包括晶瑞电材（A股）、长春化工、江化微（A股）、兴福电子（A股）、杭州精欣化工、湖南双阳高科、达诺尔、华尔泰（A股）等，其中晶瑞电材是国内高纯双氧水产能最大、综合实力最强的国产供应商，国内市场占有率超过 $40\%$ ，其金属杂质含量低于1ppt，迈向ppq时代。 表 11 国内电子级双氧水重点企业 企业 现有产能 产销量及营收 晶瑞电材（A股） 10万吨/年 2024年度高纯双氧水实现营业收入接近3.5亿元，同比增长超过20%，出货量同比增长近15%；湖北基地2024年产量4.86万吨，另有4万吨/年项目在建 长春化工(江苏)有限公司 8.64万吨/年(技改中) 台湾长春集团在大陆的基地 江阴江化微(A股) 未知 2025年镇江二期基地G5级双氧水试生产 湖北兴福电子(A股) 3万吨/年 2024年H1营收539.07万元,销量2716.68吨,当前扩建3万吨产能,建成后产能将达到6万吨/年 镇江润晶高纯化工科技股份有限公司 未知 G5级,2025年完成产品导入,在国内12英寸晶圆厂实现量产应用,合肥芯科基地处于量产初期 杭州精欣化工有限公司 3万吨/年 半导体级超高纯过氧化氢产品达到SEMI标准G5级要求,可用于7纳米半导体、12英寸晶圆硅片的清洗 湖南双阳高科化工有限公司 4万吨/年 现有产能涵盖食品级+电子级。当前在建年产30万吨27.5%浓度双氧水项目(综合工业级、食品级、电子级) 达诺尔(新三板) 1万吨/年 可达G5级,2025年H1营收428万元、同比增长347%,2025年产能将增加至1.5万吨/年 江苏联恒电子新材料科技有限公司 1万吨/年 G5级,2025年建成投产 安徽华尔泰(A股) 6万吨/年 2024年底投产,产品为G2-G3等级,可用于光伏、面板行业 江苏怡达股份(A股) - 泰兴怡达在建年产3万吨电子级双氧水项目 江苏贤德科技有限公司 - 规划新建3万吨/年电子级双氧水产能,未开工 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 三、电子级氢氟酸 电子级氢氟酸（HF）是通用湿电子化学品中的关键蚀刻与清洗试剂，主要利用其对二氧化硅（ $\mathrm{SiO_2}$ ）等介质材料的高选择性溶解能力，在半导体制造中用于晶圆表面自然氧化层去除、栅极氧化层刻蚀及接触孔清洗；在显示面板领域用于TFT阵列制程中的硅化物蚀刻；在光伏行业则用于硅片制绒和边缘隔离。高纯产品（如G5级）已广泛应用于7nm及以下先进逻辑芯片、3DNAND和DRAM制造，满足12英寸晶圆先进制程的蚀刻与清洗需求。 根据国海证券数据，2022年我国半导体行业电子级氢氟酸需求量为4.08万吨，光伏行业需求量为6.03万吨，预计2025年将分别增长至7.63万吨和12.35万吨，如下图所示。 图11 2020-2025年我国半导体及光伏行业电子级氢氟酸需求量（万吨） 资料来源：国海证券，深企投产业研究院整理。 全球电子级氢氟酸主导企业包括日本Stella Chemifa、日本森田化学、中国台湾侨力化工（台积电主要供应商）、日本大金工业等， 其他重点企业包括日本关东化学、韩国秀博瑞殷、美国霍尼韦尔、比利时索尔维等，集中在半导体用高端产品领域。其中，森田化学、侨力化工等企业通过合资在中国大陆设立生产基地，满足中国大陆的半导体市场需求，甚至可出口其他地区，规避出口管制及贸易壁垒风险。 国内电子级氢氟酸生产企业近30家，具备G5级产品的重点量产企业包括中巨芯（A股）、多氟多（A股）、福建永晶科技、森田新材/三美股份（A股）、索尔维蓝天、湖北兴力电子、联仕新材、福建德尔科技、滨化股份（A股）等，其他企业则主要为光伏级产品，合计已建成产能近60万吨/年，预计占全球产能比重超 $80\%$ ，但多数项目开工率不足，同时在建项目众多、规划产能庞大，多数企业产品进入半导体客户验证难度大，低端过剩、同质化竞争激烈，同时高端供给不足的情况明显。 表 12 国内电子级氢氟酸企业 企业 现有产能 产品等级、产销量及营收 中巨芯（A股，子公司浙江凯圣氟化学） 5.45万吨/年 具备G5级，2022年营收3.04亿元，2021年销量8506.94吨、占国内集成电路制造用电子级氢氟酸市场份额19.78%，浙江凯圣新增3.8万吨/年项目实施中（含1.8万吨EL级） 多氟多（A股） 6万吨/年 产能半导体级2万吨/年（具备G5级）、光伏级4万吨/年，产能利用率90%，在建产能2万吨/年（宜昌），预计电子级氢氟酸营收4-5亿元 福建永晶科技股份有限公司 5万吨/年 具备G5级，邵武基地5万吨/年已建成投产，四川自贡15万吨/年电子级氢氟酸项目在建，新宙邦参股 浙江森田新材料有限公司 2万吨/年 具备G5级，日本森田化学、三美股份（A股）合资，森田化学实际控制企业，2024 年营收4.7亿元,二期扩产中、达产后预计总产能5万吨/年 联仕新材 3万吨/年 具备G5级,湖北荆州基地现有年产3万吨氢氟酸纯化生产线技改中 索尔维蓝天(衢州)化学品有限公司 3万吨/年 具备G5级,2006年由比利时索尔维与浙江蓝天环保合资成立 湖北兴力电子材料有限公司 1.5万吨/年 具备G5级,由湖北兴发集团(A股)、台湾侨力化工、贵州磷化集团三方于2018年合资建设,一期1.5万吨/年于2021年投产,二期未建 福建德尔科技 1.8万吨/年 具备G5级,2022年底投产,2023年营收0.73亿元(以锂电材料制造和显示面板应用为主)、销量9164吨,2024年H1营收0.51亿元、销量6544吨,其中集成电路用营收58万元 滨化股份(A股) 0.6万吨/年 2024年电子级氢氟酸产量0.49万吨,具备G5级别,有部分出口订单 浙江三美股份(A股) - 年产6万吨电子级氢氟酸项目技改实施中,预计2027年10月投产 江阴润玛股份 未知 具备G4等级,用于显示面板、太阳能光伏,2021年营收1225.57万元,2022年H1营收669.34万元 宣城亨泰电子化学材料有限公司 1.2万吨/年 曾隶属于鹰鹏化工,UP、UPS等级(相当于SEMI G2-G3等级),当前迁建中,0.8万吨/年装置停产 江化微(A股) - 2024年报披露采购高纯氢氟酸4000吨左右,可能无生产 江苏安瑞森电子材料有限公司 0.6万吨/年 EL等级,应用于光伏行业为主,宁夏基地产能0.6万吨/年,宿迁基地2025年底建成湿电子化学品产能17.7万吨/年,涵 盖超纯氨、氢氟酸、硝酸等28类产品,B+轮融资2亿元 陕西延长石油集团氟硅化工有限公司 3万吨/年 EL等级,主要供应国内光伏头部企业和新材料企业,用于光伏电池板表面刻蚀、硅片表面处理及高纯石英砂清洗、电池级氟化锂原料 福建省建阳金石氟业有限公司 5万吨/年 光伏级、EL等级,主要供应光伏头部企业,子公司汉芯科技年产2万吨UP级、5000吨G5级项目2025年1月投产 福建雅鑫电子材料有限公司 6万吨/年 一期规划建设电子级氢氟酸6万吨、硫酸6万吨、双氧水3万吨、氨水1.8万吨、氟化铵1.8万吨、蚀刻液1.8万吨、硝酸1.2万吨、盐酸1.2万吨,2021年投产,实际产能未知,电子级氢氟酸可用于半导体领域 江苏联恒电子新材料科技有限公司 1万吨/年 G5级,2025年建成投产 贵州瓮福蓝天氟化工股份有限公司 6万吨/年 EL等级,瓮福集团旗下,依托无水氢氟酸延伸,实际运行产能可能为2万吨/年 云南瓮福祥丰氟硅新材料有限公司 2万吨/年 瓮福集团旗下,2024年11月投产 莹科新材料股份有限公司 2万吨/年 EL等级,企业以氟化盐产品线为主 务川中欧氟电子新材料有限公司 2万吨/年 2025年6月试生产,二期项目产能规划同为2万吨/年 福建福多邦元福科技有限公司 2万吨/年 UP等级,隶属于福建三钢集团,2024年10月联动试车成功,项目已竣工,可能处于量产爬坡阶段 福建中欣氟材高宝科技有限公司 3万吨/年 浙江中欣氟材(A股)的电子级氢氟酸生产基地,2024年试生产 锦洋高新材料股份有限公司 1万吨/年 2023年投产，规划扩建至10万吨/年 安徽氟瑞星化工有限公司 2万吨/年 2025年竣工投产，二期规划未建为2万吨/年 福建三明润祥新材料有限公司 0.8万吨/年 G3等级，2024年7月竣工验收 福建申芯电子材料有限责任公司 - 在建电子级氢氟酸产能1.2万吨/年（另有电子级硫酸3.6万吨、电子级氨水1.2万吨等），2022年开工，原定2024年4月投产，预计未投产 河南孚德科技有限公司 - 在建2万吨/年，未投产 中化学五环祥云磷氟新材料（湖北）有限公司 - 在建1万吨/年，2023年开工，未投产 江苏贤德科技有限公司 - 规划新建2.5万吨/年电子级氢氟酸产能，未开工 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 四、电子级磷酸 电子级磷酸主要应用于芯片的湿法蚀刻和湿法清洗，包括基片涂胶前的清洗，光刻过程中的蚀刻、去胶以及硅片本身制作过程中的清洗和绝缘膜蚀刻、半导体膜蚀刻、导体膜蚀刻、有机材料蚀刻等；在TFT-LCD和OLED面板生产中，用于ITO玻璃蚀刻和像素电极清洗。电子级磷酸是半导体晶圆制造刻蚀工艺的核心材料之一，尤其在先进存储芯片（如3DNAND、DRAM）的高选择性蚀刻环节需求突出，是高选择性磷酸蚀刻液、高选择性金属钨去除液、铝蚀刻液等功能湿电子化学品的主要配方原料之一。 根据电子材料市场研究机构TECHCET在2022年发布的报告，预计到2025年全球集成电路用电子级磷酸单酸需求量将达到19.6万吨、磷酸单酸及高选择比磷酸用磷酸的总体需求量将增加至65.6万吨。根据中国电子材料行业协会数据，在考虑西安三星、SK海力士中国、大连英特尔等在中国境内设厂的外资厂商的湿电子化学品需求量的情况下，2023年我国集成电路前道晶圆制造用磷酸需求量为2.21万吨。 全球电子级磷酸主要企业包括日本RASA、日本磷化工（主要供应日本本土半导体厂商）、德国巴斯夫、韩国OCI（供应三星）、韩国秀博瑞殷SOULBRAIN（氢氟酸为主，同时供应磷酸，主要客户为三星）、中国台湾联仕电子材料等。兴福电子是国内电子级磷酸绝对龙头，产品达到SEMIC36-1121电子级磷酸产品标准最高等级G3等级，2023年销量为0.88万吨，占国内集成电路前道晶圆制造用市场（含外资在华工厂需求）比重为 $39.8\%$ ，连续数年位列第一，营收4.28亿元。兴福电子现有产能5万吨/年，2025年12月拟投资4.8亿元新建4万吨/年项目，建成后总产能将达9万吨/年，进一步巩固龙头地位。近期传出实现试产信息的企业还有贵州磷化瓮福紫金、广西钦州志诚化工等，可能未开始规模化量产。 # 五、电子级盐酸 电子级盐酸作为清洗液、蚀刻液，广泛用于光伏、显示面板、集成电路制造等领域，同时在医药、电子材料、高纯试剂领域也有广泛应用。电子级盐酸在通用湿电子化学品中主要承担金属杂质清洗与钠离子去除功能，在晶圆表面清洗、光伏硅片预处理等关键洁净工艺中不可替代。在实际生产中常需联合复配使用以满足复杂工艺需求。 根据中国电子材料行业协会数据，12英寸、8英寸、6英寸晶圆 制造对电子级盐酸的消耗量分别为1.65吨/万片、0.13吨/万片、0.08吨/万片，据此推算2024年全球集成电路晶圆制造电子级盐酸需求量2万吨左右；G5级电子级盐酸当前市场单价10万元/吨左右，全球集成电路制造用电子级盐酸市场规模约20亿元。 根据国海证券数据，2022年我国半导体行业电子级盐酸需求量为0.38万吨，光伏行业需求量为4.47万吨，预计2025年将分别增长至0.81万吨和9.16万吨。2024年以来因光伏行业供给变化、需求增长放缓，全产业链价格持续下跌，叠加太阳能电池板制造过程中清洗环节工艺优化及清洗液配方调整，光伏产业对电子级盐酸的需求出现显著下降，对国内电子级盐酸生产企业造成不利影响。 目前集成电路用电子级盐酸国际主要厂商包括德国巴斯夫、美国霍尼韦尔、日本东亚合成TOAGO SEI等。国内企业产品达到G5级的主要有晶瑞电材、华融化学和江化微，其他生产企业还有中巨芯（A股）、内蒙古宜化化工等，如下表所示。 表 13 国内电子级盐酸主要企业 企业 现有产能 产品等级、产销量及营收 晶瑞电材（A股） 0.5万吨/年 2024年8月投产 江化微（A股） 0.3万吨/年 可用于12英寸晶圆制造，拟新增0.9万吨/年产能，达产后达到1.2万吨/年 华融化学（A股） 0.2万吨/年 达到G5级，2024年投产 中巨芯（A股，子公司浙江凯圣氟化学） 0.4万吨/年 达到G4等级，2021年销量612.79吨，占2021年国内集成电路制造工艺用电子级盐酸需求量的11.88%，新增1.6万吨/年项目实施中 内蒙古宜化化工有限公司 0.36万吨/年 浓度40%，2024年10月投产 江苏联恒电子新材料科技有限公司 0.5万吨/年 G4级，2025年建成投产 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 六、电子级硝酸 电子级硝酸具备强氧化性，能高效去除硅片表面的金属杂质（如铜、铁、铝等）和有机污染物，同时通过氧化作用在硅片表面形成一层均匀的氧化膜，为后续的光刻、蚀刻等工艺提供洁净、稳定的基底。在集成电路封装过程中，用于引线框架、焊盘等金属部件的清洗和蚀刻处理。硝酸与氢氟酸配合可作为硅蚀刻剂。 根据中国电子材料行业协会数据，12英寸晶圆制造对电子级硝酸的消耗量为12.59吨/万片，据此推算2024年全球12英寸晶圆制造电子级硝酸需求量14万吨左右；G5级电子级硝酸当前市场单价2万元/吨左右，全球集成电路制造用电子级硝酸市场规模约28亿元。 根据国海证券数据，2022年我国半导体行业电子级硝酸需求量为2.36万吨，显示面板行业需求量为0.78万吨，预计2025年将分别增长至5.48万吨和0.92万吨。光伏方面，单晶硅电池制造消耗高纯硝酸相比多晶硅电池大幅减少，主流TOPCon项目单耗为 $50\mathrm{kg / MW}$ 以内，预计2024年我国光伏电池制造高纯硝酸需求量约为3.5万吨，同时光伏用硝酸单价远低于半导体用电子级硝酸价格。 全球电子级硝酸主要企业包括德国巴斯夫、日本三菱化学等。国内电子级硝酸已基本实现自主供应，领先企业为中巨芯（A股），其他生产企业包括晶瑞电材（A股）、江阴江化微（A股）、杭州格林达（A股）、兴福电子（A股）、江苏润玛股份等。 表 14 国内电子级硝酸重点企业 企业 现有产能 产品等级、产销量及营收 中巨芯（A股，子公司浙江凯圣氟化学） 1.5万吨/年 产品等级达到G5，达到12英寸集成电路制造用标准，国内集成电路制造市场占有率预计超过60%，其中2021年销量9958.23吨、占国内集成电路制造用电子级硝酸市场份额66.39%，2022年营收1.04亿元，新增3万吨/年项目实施中 晶瑞电材（A股） 0.5万吨/年 G4等级，湖北基地2024年8月投产 江阴江化微（A股） - G4等级，镇江基地拟新建0.9万吨/年产能 杭州格林达（A股） - 产能及产销量未披露 兴福电子（A股） - 产能及产销量未披露，已通过长江存储、长鑫存储、华虹集团等客户的产品验证，可用于集成电路制造 江苏润玛股份 - G4等级，产能及产销量未披露 江苏联恒电子新材料科技有限公司 2万吨/年 G4等级，2025年建成 佛山市华希盛化工有限公司 0.8万吨/年 EL、UP、UPS等级，主要用于PCB/FPC行业，通用湿电子化学品涵盖硝酸、硫酸、盐酸、氨水、氢氟酸等，年产值3亿元以上 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 七、电子级氨水 电子级氨水是集成电路制造过程中常用的湿电子化学品之一，主要作为碱性清洗剂用于去除硅片表面的颗粒物及部分金属离子杂质（如铝、铁等），其典型应用是在RCA标准清洗工艺的SC1溶液（ $\mathrm{NH_4OH / H_2O_2 / H_2O}$ ）中发挥关键作用；此外，电子级氨水还可作为制备电子级氟化铵等复配化学品的重要原料，并在化学机械抛光（CMP）后清洗、部分光刻工艺辅助处理等环节中使用，广泛应用于集成电路、先进封装及显示面板等领域。 根据中国电子材料行业协会数据，2022年我国集成电路前道晶圆制造用电子级氨水市场需求量占我国集成电路用湿电子化学品市场总需求量的比例为 $9.96\%$ ，达到7.41万吨；假设到2025年，电子级氨水市场需求占比仍保持2022年水平不变，则2025年中国集成电路前道晶圆制造用电子级氨水市场需求量将达到9.53万吨。 目前我国电子级氨水在8英寸、12英寸晶圆 $28\mathrm{nm}$ 以上技术节点制造中已经实现大批量应用，但在12英寸晶圆 $28\mathrm{nm}$ 以下技术节点处于评估中，集成电路先进制程用电子级氨水仍有较大的发展空间。根据江苏达诺尔年报，目前国际大型芯片制造企业在中国的生产基地全部使用欧美或日本进口的超纯氨水产品，我国每年超纯氨水产品的进口量约为4万吨左右。 目前，国内集成电路用电子级氨水供应商包括德国巴斯夫、日本关东化学等境外企业以及达诺尔、中巨芯（A股）、新宙邦（A股）、江化微（A股）、联仕新材、建业股份、兴福电子（A股）等境内企业，随着下游客户对电子级氨水的需求量不断增加以及国产化率的继续提升，部分湿电子化学品企业计划扩充电子级氨水产能。 表 15 国内电子级氨水主要企业 企业 现有产能 产品等级及产销量 中巨芯（A股，子公司浙江凯圣氟化学） 2.49万吨/年 G4-G5级，浙江凯圣氟化学新增0.36万吨/年项目实施中 江苏达诺尔 0.65万吨/年 G5级，2024年超纯氨水营收0.74亿元 建业股份（A股） 1.2万吨/年 G5级 联仕新材 0.8万吨/年 G5级 晶瑞电材（A股） 1万吨/年 G5级，湖北基地2024年产量2399.46吨，销售额374万元 新宙邦（A股） 4.5万吨/年 G5级 江化微（A股） 0.5万吨/年 G5级 福建德尔科技 0.8万吨/年 G5级 江阴润玛股份 未披露 G5级，主要用于半导体领域 兴福电子（A股） 2万吨/年 G5级，正在客户验证 镇江润晶高纯化工科技股份有限公司 未知 G5级，2025年完成12寸晶圆厂产品导入并实现量产 江苏联恒电子新材料科技有限公司 0.2万吨/年 G5级，2025年建成投产 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 八、电子级氢氧化钾 电子级氢氧化钾（KOH）是半导体及泛半导体制造中的碱性湿电子化学品，主要作为各向异性腐蚀剂与清洗剂应用于特定工艺环节。其核心功能包括：在MEMS器件制造中通过湿法刻蚀在晶圆表面形 成精确的V型沟槽与三维结构;在光伏行业用于高效电池(如TOPCon、HJT)的硅片制绒与清洗，通过各向异性腐蚀形成金字塔绒面以提高光电转换效率；在显示面板制造中参与TFT阵列制程的基板清洗及部分金属布线蚀刻。值得注意的是，在90nm以下的集成电路制造中，电子级氢氧化钾因金属污染风险被四甲基氢氧化铵（TMAH）在显影工艺中全面替代，目前仅用于180nm以上成熟制程或MEMS等器件，产品纯度要求基本不需要达到G5等级，技术门槛低于高纯酸类化学品。 当前氢氧化钾在光伏行业用量最大。单晶硅电池采用碱性制绒工艺，尤其是使用电子级氢氧化钾（KOH）溶液进行各向异性腐蚀，而多晶硅电池通常采用酸性制绒，基本不消耗氢氧化钾。随着光伏电池产量快速增长，叠加单晶硅电池占据主导地位，对高纯度电子级氢氧化钾的需求迅速增长。根据国海证券数据，2022年我国光伏行业氢氧化钾需求量为55.81万吨，预计2025年将增长至114.26万吨，如下图所示。另据华融化学招股说明书，2020年我国显示面板行业消耗电子级氢氧化钾4.8万吨。 图12 2020-2025年我国光伏行业电子级氢氧化钾需求量（万吨） 资料来源：国海证券，深企投产业研究院整理。 国际市场上电子级氢氧化钾主要企业包括美国KMG Electronic Chemicals、韩国UNID、日本关东化学等。国内供应企业主要有两类，一类是工业氢氧化钾大型企业采用离子膜电解技术生产高纯氢氧化钾后进一步提纯，如韩国UNID在华基地、华融化学（A股）等，可供应半导体级别产品，其他工业氢氧化钾龙头企业唐山三孚股份（A股）、青海盐湖（A股）、山东亚荣化学也均具备提纯潜力，可能对规格要求较低的光伏行业供货；另一类是湿电子化学品专业企业，如江化微（A股）、江阴润玛股份、晶瑞电材（A股）等，可能采购高纯氢氧化钾进一步提纯，具体产能未知，预计规模较小。 表 16 国内电子级氢氧化钾主要企业 企业 现有产能 产品等级、产销量及营收 优利德（江苏）化工有限公司 1万吨/年 韩国UNID株式会社在中国大陆的生产基地 华融化学（A股） 0.5万吨/年 2024年投产，可稳定产出用于半导体领域的高纯度电子氢氧化钾产品，已经实现进口替代 江化微（A股） - 未知 晶瑞电材（A股） - 未知 联仕新材 - 未知 江阴润玛股份 - 向重庆京东方、上海新昇半导体等供应 兴福电子（A股） - EL等级，预计向光伏行业供货 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 九、电子级异丙醇 电子级异丙醇（IPA）是湿电子化学品中用量最大的有机溶剂，主要作为脱水干燥剂、通用清洗剂及光刻辅助溶剂广泛应用于半导体及泛半导体制造的核心环节。其主要功能在于有效去除硅片及其他基材表面的有机污染物和微小颗粒，同时不留下任何残留物，确保了后续制程的高质量进行。在特定的清洗步骤中，如光刻胶去除和蚀刻后清洗，异丙醇凭借其优异的溶解性能和快速挥发性，能够迅速清除表面杂质，并减少水斑和其他缺陷的形成，从而提升产品的最终良率。此外，电子级异丙醇还用于某些化学机械抛光（CMP）后的清洁过程，以及作为一些高精度复配化学品的原料，为多种制造流程提供支持。 根据国海证券数据，2022年我国半导体行业电子级异丙醇需求量为2.93万吨，预计2025年增长至3.56万吨。根据中国电子行业协会数据，单晶太阳能电池片对电子级异丙醇的单位消耗量为0.444吨/MW，据此推算2024年我国光伏电池行业对电子级异丙醇需求量约29万吨。 全球电子级异丙醇核心厂商包括韩国LG化学、日本德山化工、日本住友化学、中国台湾李长荣化工、美国陶氏化学等。内资企业中能够量产G5级异丙醇的企业主要有滨州载元裕能、江苏达诺尔、联仕新材、建业股份（A股）、江阴江化微（A股）等，近期还有晶瑞电材（A股）、中国石油锦州石化公司、博洋股份、江苏兴福电子等一批项目即将投产，如下表所示，预计2025年起电子级异丙醇产能大幅提升。 表 17 国内电子级异丙醇主要企业 企业 现有产能 产品等级、产销量及营收 镇江李长荣高性 0.5万吨/年 台湾李长荣集团大陆基地，可量产G4/G5级产 能材料有限公司 品,在现有产能基础上,新建4.5万吨/年电子级IPA扩建项目,其中一期扩建及新增合计1.5万吨/年、计划于2025年10月投产,全部建成后将成为中国大陆最大电子级IPA生产基地之一 德山化工(浙江)有限公司 0.4万吨/年 日本德山化学在中国大陆的基地,2019年投产 滨州载元裕能新材料科技有限公司 1.2万吨/年 G5级,由滨州裕能电子材料与韩国载元产业株式会社合资建设,作为16.9万吨湿电子化学品项目的一部分,2021年建成投产 江苏达诺尔 1万吨/年以上 G5级,2024年超纯异丙醇营收1.7亿元,预计销量超万吨,2014年超纯异丙醇产能0.3万吨/年,潜江基地一期年产8万吨超纯电子化学品(含电子级IPA)已稳定投产,二期、三期在建,现有产能未知 联仕新材 未知 G5级IPA主要供应商之一,产能未知 建业股份(A股) 0.6万吨/年 G5级,2024年投产 江阴江化微(A股) 未知 2025年上半年,镇江江化微顺利完成二期项目G5等级产品异丙醇试生产;预计一期IPA产能数千吨/年 晶瑞电材(A股) 1万吨/年(试生产) G5级,湖北基地1万吨/年项目2025年1月起进入试生产阶段,与中国石化合作,用于集成电路14nm制程 中国石油锦州石化公司 1万吨/年(试生产) G1级异丙醇2022年产量1400吨,在建电子级异丙醇项目1万吨/年(含G3级7000吨/年、G5级3000吨/年)2025年2月完成详细设计进入施工阶段、9月试车成功,G5级产品计划满足8-12英寸晶圆制造标准 博洋微电子(铜陵)有限公司 1.5万吨/年(试生产) 苏州博洋股份子公司,2025年8月G5级异丙醇(IPA)正式启动试生产,设计产能1.5万吨/年 江苏兴福电子材料有限公司 - 在建年产2万吨电子级IPA项目,由兴福电子(A股)与浙江新华股份(A股)合资建设,计划2025年底前竣工投产,由新化股份提供工业级异丙醇原料 江苏安瑞森电子材料有限公司 - 2025年9月高纯气体及电子化学品新建项目（一期）进入受理公示，包含电子级IPA产能1万吨/年 山东裕龙石化有限公司 - 在建炼化一体化项目，包含电子级异丙醇生产装置 资料来源：各公司公告，深企投产业研究院整理。 # 03 # 功能湿电子化学品篇 功能湿化学品技术门槛高，美欧日韩企业主导全球高端应用市场，国产企业在集成电路先进制程应用处于起步阶段，国产化任重道远。 # 一、总体格局 在功能性湿电子化学品领域，美欧日企业拥有明显的优势，主导全球高端市场。功能湿化学品技术门槛高，国内化学品企业与国际先进企业相比差距较大，目前国内能量产并形成稳定供应的产品以成熟制程为主。欧美日韩的功能湿电子化学品主要企业大多会涉及蚀刻及清洗工艺化学品，包括蚀刻液、清洗液等产品线，光刻胶主要供应商还会同步提供光刻胶配套试剂（显影液、剥离液等），进而为半导体及显示面板客户提供一站式解决方案。全球主要企业在蚀刻、清洗、光刻工艺的湿电子化学品产品线布局情况如下表所示。 表 18 全球功能湿电子化学品主要企业产品线 企业 蚀刻液 清洗液 显影液 剥离液 业务特点 巴斯夫 ✓ ✓ ✓ ✓ 配方类刻蚀液产品占据全球领导地位 默克 ✓ ✓ ✓ ✓ 蚀刻液、清洗液依托慧瞻作为业务主体,在显示面板光刻胶配套试剂较为突出 杜邦 ✓ ✓ ✓ ✓ 清洗液最具竞争力,同时作为光刻胶主要企业提供配套试剂 英特格 ✓ ✓ 各类清洗液如CMP抛光后清洗液、刻蚀后清洗液龙头 空气化工 ✓ ✓ ✓ CMP后清洗液、剥离液表现较为突出 住友化学 ✓ ✓ ✓ ✓ 以显示面板应用为主,中国大陆业务已出售 关东化学 ✓ ✓ ✓ ✓ 清洗液、光刻胶配套试剂表现较突出 东京应化 ✓ ✓ 光刻胶厂商,提供配套试剂,剥膜液表现突出 JSR ✓ ✓ 光刻胶厂商,提供配套试剂 三菱化学 ✓ ✓ ✓ ✓ 同时提供光刻胶及全套配套湿化学品 富士胶片 ✓ ✓ 光刻胶厂商,提供配套试剂 资料来源：公开资料，深企投产业研究院整理。 分产品看，德国巴斯夫配方类刻蚀液产品占据全球领导地位。美国杜邦、德国默克（慧瞻）、美国英特格等公司在CMP抛光后清洗液、铝工艺刻蚀后清洗液、铜工艺刻蚀后清洗液、HKMG假栅去除清洗液、铜电镀液及添加剂等配方类产品上市场份额突出。光刻胶配套试剂领域，主要国际公司包括日本东京应化TOK、日本关东化学、德国默克等。全球集成电路用功能湿电子化学品分产品代表企业如下表所示。 表 19 全球集成电路功能湿电子化学品代表企业 产品领域 国际代表企业 蚀刻液（除高选择比及 BOE 蚀刻液） 日本关东化学、中国台湾联仕电子 BOE 蚀刻液 德国巴斯夫、日本关东化学、日本 Stella Chemifa、中国台湾台硝（广明实业） 高选择比蚀刻液 韩国秀博瑞殷、韩国 SK 化学、美国英特格 稀释液 德国巴斯夫、日本三菱化学、日本关东化学 清洗液 美国杜邦、德国默克（慧瞻）、美国英特格、美国空气化工、日本关东化学 显影液 美国空气化工、日本东京应化、日本岩谷、日本德山 剥离液 美国空气化工、美国英特格（收购ATMI）、日本东京应化 电镀液及配套试剂 美国杜邦、德国巴斯夫、美国麦德美乐思、德国安美特 CMP抛光液 美国英特格、日本富士胶片、德国默克、美国杜邦 资料来源：兴福电子、公开资料，深企投产业研究院整理。 近年来，国内企业在新型显示用功能湿电子化学品领域取得较大突破，特别是依托并购海外厂商的中国大陆基地扩大市场份额。在集成电路用功能湿电子化学品领域，目前仍处于起步阶段。国内主要企业包括安集科技（A股）、湖北兴福电子、镇江润晶股份、苏州晶瑞电材（A股）、中巨芯（A股）、上海新阳（A股）、江阴江化微（A股）、杭州格林达（A股）、艾森股份（A股）、江阴润玛股份、联仕新材、上海飞凯材料（A股）、湖北鼎龙股份（A股）、河北信联电子、滨州裕能电子材料等。各领域代表企业如下表所示。 表 20 我国湿电子化学品各领域主要布局企业 产品领域 国内主要布局企业 蚀刻液 江阴江化微、杭州格林达、湖北兴福电子、安集科技、上海新阳、中巨芯、滨州裕能电子材料、江阴润玛股份、镇江润晶股份、苏州博洋化学、晶瑞电材、绵阳艾萨斯、浙江尚能实业、合肥中聚和成、浙江森田新材、上海飞凯材料等 稀释液 中巨芯、杭州格林达等 清洗液 上海新阳、安集科技、湖北兴福电子、杭州格林达、江阴润玛股份等 显影液 杭州格林达、镇江润晶股份、沧州信联电子、湖北兴福电子、晶瑞电材、上海飞凯材料、江阴江化微等 剥离液 江阴江化微、晶瑞电材、安集科技、湖北兴福电子、镇江润晶股份、江阴润玛股份、上海飞凯材料等 电镀液及配套试剂 上海新阳、艾森股份、创智芯联、安集科技、上海飞凯材料、天承科技等 CMP抛光液 安集科技、湖北鼎龙股份、上海新阳、湖南皓志科技、浙江新创纳电子、北京国瑞升、衢州博来纳润、山东百特新材、深圳昂士特等 资料来源：公开资料，深企投产业研究院整理。 # 二、CMP抛光液 # （一）产品概况 在集成电路制造领域，芯片制造过程按照技术分工主要可分为薄膜淀积、CMP、光刻、刻蚀、离子注入等工艺环节，其中CMP技术是晶圆制造的必须流程之一，对高精度、高性能晶圆制造至关重要。CMP又称化学机械平坦技术，是使用化学腐蚀及机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平坦化处理。CMP设备包括抛光、清洗、传送三大模块，其作业过程中，抛光头将晶圆待抛光面压抵在粗糙的抛光垫上，借助抛光液腐蚀、微粒摩擦、抛光垫摩擦等耦合实现全局平坦化。 CMP材料根据功能的不同，主要分为抛光液（或称研磨液）、抛光垫、抛光后清洗液、调节剂等其中，抛光液与抛光垫为核心材料。 CMP抛光液是研磨材料和去离子水、PH值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成的水溶性试剂，在化学机械抛光过程中可使晶圆表面产生一层氧化膜，再由抛光液中的磨粒去除，达到抛光的目的。根据应用的不同工艺环节，可以将抛光液分为硅衬底抛光液、铜及铜阻挡层抛光液、钨抛光液、介质材料抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液以及用于先进封装的硅通孔（TSV）抛光液等，产品品种繁多，即使是同一技术节点、同一工艺段，根据不同抛光对象、不同客户的工艺技术要求也有不同配方。 图13 CMP抛光液产业链 资料来源：湖南皓志科技公开转让说明书。 # （二）市场规模 CMP抛光材料是集成电路制造中至关重要的半导体材料，根据SEMI数据，CMP抛光材料在集成电路制造材料成本中占比 $7\%$ ，其中CMP抛光垫、CMP抛光液、CMP清洗液合计占CMP抛光材料成本的 $85\%$ 以上。根据TECHCET数据，2024年全球半导体CMP抛光材料（包括抛光液和抛光垫，其中抛光液占比近 $60\%$ ）市场规模为34.2亿美元，2025年预计增长 $6\%$ 至36.2亿美元。随着全球晶圆产能的持续增长以及先进技术节点、新材料、新工艺的应用需要更多的 CMP工艺步骤，TECHCET预计2029年全球半导体CMP抛光材料市场规模将超过50亿美元，2024-2029年复合增长率为 $8.6\%$ # （三）竞争格局 全球CMP抛光液市场多年来被美日企业垄断。当前美国、日本主要企业包括美国CMC Materials（原卡博特微电子，2022年被美国Entegris收购）、美国Versum Materials（2019年被德国Merck收购）、美国杜邦DuPont、日本富士胶片Fujifilm、日本富士美Fujimi、日本力诺森科Resonac（原日立化学Hitachi）、日本艾杰旭AGC等，此外韩国Ace Nanochem、韩国KCTech服务于韩国本土企业，也有一定份额。CMC Materials（现Entegris）为全球抛光液龙头，但市占率已经从2000年约 $80\%$ 下降至2022年约 $28\%$ 。日本富士胶片近年来CMP抛光液业务增长强劲，预计2024年全球市场份额达到 $20\%$ 左右。 近年来国内市场国产化率大幅提升。安集科技（A股）是中国大陆唯一实现 $14\mathrm{nm}$ 及以下先进制程CMP抛光液大规模量产并批量供货的企业，占本土企业市场份额 $60\%$ 以上，根据TECHCET公开的全球半导体抛光液市场规模测算，最近三年安集科技化学机械抛光液全球市场占有率分别约 $7\%$ 、 $8\%$ 、 $11\%$ ，跻身全球第一梯队行列。国产其他重点企业还有湖北鼎龙股份（A股）、上海新阳（A股）、湖南皓志科技、浙江新创纳电子、北京国瑞升、衢州博来纳润、山东百特新材、深圳昂士特等，如下表所示。 表 21 我国 CMP 抛光液布局企业 序号 企业 CMP抛光液业务规模 1 安集科技（A股） 全球CMP抛光液第一梯队企业，2024年CMP抛光液营收15.45亿元，占全球市场份额11%，销量3.1万吨 2 湖北鼎龙股份（A股） 武汉本部有年产5000吨抛光液产线，仙桃基地已建成1万吨/年产能，2024年CMP抛光液及清洗液营收2.15亿元 3 上海新阳（A股） CMP抛光液规划在建产能1.2万吨/年，多款产品完成客户端测试并实现批量连续销售 4 湖南皓志科技股份有限公司（新三板） 2024年抛光液及研磨液合计营收0.24亿元，2025年H1营收970万元，国家级专精特新小巨人 5 浙江新创纳电子科技有限公司 由上海新安纳设立，主要为二氧化硅、蓝宝石抛光液和硅片抛光液，现有产能1万多吨/年，浙江省专精特新企业 6 北京国瑞升科技股份有限公司 抛光液涵盖铜、介质、钨、TSV、化合物半导体、衬底等全系列，国家级专精特新小巨人，南通基地规划集成电路研磨液产能700万升/年 7 山东百特新材料有限公司 主营产品为纳米二氧化硅溶胶CMP抛光液，现有产能2万吨/年，国家级专精特新小巨人，另实控人与安集科技合资的山东安特纳米材料有限公司年产1万吨芯片CMP研磨液原料项目2023年投产 8 昂士特科技（深圳）有限公司 涵盖CMP抛光液全系列产品，深圳市专精特新企业，合肥在建10000吨/年抛光液及相关材料项目 9 衢州博来纳润电子材料有限公司 在建14000吨半导体CMP抛光液项目，一期已投产，在衬底端已实现对国内头部客户覆盖，芯片端刚进入头部厂商测试流程 10 张家港安储科技有限公司 聚焦碳化硅衬底抛光液，2024年完成Pre-A轮融资，预计未规模化量产 11 深圳中机新材料有限公司 主营面向硬脆材料和第三代半导体的团聚金刚石研磨液等，2024年完成超亿元A轮融资 资，深圳市专精特新企业 12 齐芯微（绍兴）电子材料科技有限公司 华东理工+中科院体系产学研转化，以集成电路用氧化铈抛光液为主，2023年完成天使轮融资，已完成中试计划量产 13 天津晶岭微电子材料有限公司 早期企业，拥有6000吨/年产线，近年来无消息 14 无锡吉致电子科技有限公司 产品线涵盖氧化铈抛光液、射频滤波器抛光液、铜抛光液等，产能规模较小 15 山东麦丰新材料科技股份有限公司（新三板） 以稀土抛光粉为主业，二氧化硅抛光液规模小，营收数十万元 16 万华化学（A股） 自2020年规划建设CMP抛光液项目，但无实际进展 资料来源：各公司公告、公开资料，深企投产业研究院整理。 # 三、蚀刻液 # （一）产品概况 蚀刻液（Etchant，或称刻蚀液、刻蚀剂）是功能湿电子化学品的一种，其核心功能是通过化学反应或物理作用，有选择性地去除（蚀刻）半导体晶圆、显示面板等基板表面的特定材料层（如硅、金属、氧化物等），以形成所需的电路图形或结构。根据蚀刻对象（材料）的不同，蚀刻液主要分为硅蚀刻液、金属蚀刻液、其他专用蚀刻液，如下表所示。 表 22 蚀刻液产品分类 类别 功能及细分产品 硅基蚀刻液 用于蚀刻硅、多晶硅、氮化硅、氧化硅等硅基材料, 代表产品如BOE蚀刻液（Buffered Oxide Etch，缓冲氧化物蚀刻液，主要用于二氧化硅蚀刻）、Spin D蚀刻液（SE-Si1802）、HNA蚀刻液（用于多晶硅蚀刻）、单晶硅蚀刻液（KOH/TMAH）等 金属蚀刻液 用于蚀刻各种金属层，如铝、铜、钨、钛、钼、钴、镍、银、金等，具体包含铝蚀刻液、铜蚀刻液、钨蚀刻液（如H4蚀刻液/SE-W585）、钴蚀刻