2024-10-17-汉鼎智库-涂胶显影设备是半导体制造工艺中的关键设备_国产化需求旺盛_市场发展潜力巨大_4页_413kb

涂胶显影设备是半导体制造光刻工艺中的关键设备，直接影响曝光图案成型和后续蚀刻等工艺。根据报告，该设备市场需求持续增长，2025年全球前道涂胶显影设备市场空间预计达45亿美元，是中国大陆约18亿美元。国内国产化进程加速，但整体国产化率仍低，尤其在精度和稳定性方面与国际厂商如东京电子相比有差距。国内部分企业如芯源微已实现部分设备国产替代，未来发展前景广阔。