【星河智源】光刻机技术全景报告_38页_1mb

技术全景报告总结

核心内容概览

本报告主要围绕光刻机技术领域，从专利趋势、技术构成、申请人分布、发明人分析等多个维度，对技术发展情况进行深入分析。光刻机是半导体制造中关键设备，涉及光刻工艺、材料、设备及技术分支等多个方面。

专利概况

专利趋势

• 专利申请量与授权量：从2015年至2024年，光刻机相关专利申请量呈现波动趋势，2020年达到峰值（1504件），但随后逐年下降，2024年仅631件。
• 授权率：授权率在2015年为59.32%，2016年上升至60.95%，但2021年降至51.13%，2022年进一步降至35.07%，2023年为30.44%，2024年仅为11.57%。
• 趋势分析：申请量和授权率的下降可能反映该技术领域近期研发投入减少或技术成熟度较高。

专利类型

• 发明专利：占比最高，共13717件，表明该领域创新程度高。
• 实用新型：共2483件，主要针对产品的小改进。
• 外观设计：仅72件，说明产品外观创新较少。

法律状态

• 有效专利：7583件，占比约51.1%，表示当前有较多专利仍处于有效状态。
• 无效专利：4556件，占比约31.1%，可能与技术水平或管理能力有关。
• 在审专利：4133件，占比约28.3%，说明有大量专利尚未完成授权流程。

技术生命周期

• 申请量与申请人数量：自2015年以来，申请量和申请人数量持续增长，直到2024年出现明显下降，可能表明该技术领域已进入成熟期或衰退期。
• 趋势分析：2024年申请量下降可能意味着技术发展放缓或市场饱和。

技术构成与分支分析

技术构成

• 主要技术分支：
  • G03F7/20（曝光及其设备）：专利数量最多，达5011件，是光刻机技术的核心部分。
  • H01L21/67（半导体器件处理设备）：专利数量为318件。
  • H01L21/336（带有绝缘栅的半导体器件）：专利数量为313件。
  • G03F9/00（对准或定位）：专利数量为880件。
  • H01L29/06（半导体区域形状区分）：专利数量为298件。
  • G03F7/00（图纹面照相制版）：专利数量为479件。
  • H01L31/18（半导体器件制造方法）：专利数量为364件。
  • H01L21/027（光刻工艺）：专利数量为433件。
  • B81C1/00（制造或处理装置）：专利数量为406件。

技术分支申请趋势

• G03F7/20：申请量逐年上升，但2024年下降明显。
• G03F9/00：申请量在2020年后略有上升，但2024年下降。
• H01L21/027：申请量整体上升，但2024年略有下降。
• 其他分支：如H01L21/67、H01L29/06等，申请量呈上升趋势，但2024年出现波动。

申请人分析

申请人排名

• 上海微电子装备（集团）股份有限公司：专利数量最多，达1442件，是该领域的领军企业。
• 哈尔滨工业大学：专利数量为360件，排名第二。
• 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司：专利数量为306件，排名第三。
• 清华大学：专利数量为274件，排名第四。
• 中国科学院光电技术研究所：专利数量为261件，排名第五。
• 上海华力微电子有限公司：专利数量为258件，排名第六。
• 中国科学院微电子研究所：专利数量为229件，排名第七。
• 华中科技大学：专利数量为219件，排名第八。
• 西安电子科技大学：专利数量为213件，排名第九。
• 北京华卓精科科技股份有限公司：专利数量为191件，排名第十。

专利集中度

• 专利集中度：2015年为33.23%，2024年为10.46%，表明近年来专利分布更加分散。
• 趋势分析：集中度下降可能意味着更多企业进入该领域。

新入局者

• 新入局者：包括上海镭望光学科技有限公司、真芯（北京）半导体有限责任公司、光科芯图（北京）科技有限公司等。
• 申请趋势：部分新入局者申请量增长较快，但2024年部分申请量下降，可能反映市场环境变化。

合作申请分析

• 主要合作关系：上海微电子装备（集团）股份有限公司、中国科学院微电子研究所、清华大学等是主要合作方。
• 合作申请量：部分申请人之间合作频繁，表明存在稳定的技术合作团队。

发明人分析

发明人排名

• 谭久彬：专利数量最多，达232件，是该领域的核心发明人之一。
• 朱煜：专利数量为179件，排名第二。
• 张鸣：专利数量为164件，排名第三。
• 郝跃：专利数量为157件，排名第四。
• 马晓华：专利数量为144件，排名第五。
• 王雷：专利数量为133件，排名第六。
• 杨开明：专利数量为126件，排名第七。
• 王向朝：专利数量为122件，排名第八。
• 胡松：专利数量为113件，排名第九。
• 尹文生：专利数量为112件，排名第十。

发明人申请趋势

• 谭久彬：申请量呈波动趋势，2024年下降明显。
• 朱煜：申请量整体上升，但2024年下降。
• 张鸣：申请量呈上升趋势，但2024年下降。
• 郝跃：申请量呈上升趋势，但2024年下降。
• 马晓华：申请量呈上升趋势，但2024年下降。
• 其他发明人：申请量呈上升趋势，但部分发明人2024年申请量下降。

技术创新热点

创新词云

• 热门技术主题：
  • 光刻机：2918件，是该领域的核心主题。
  • 光刻：1369件，技术热度高。
  • 光刻胶：751件，是光刻工艺中的关键材料。
  • 曝光：624件，技术主题重要。
  • 硅片：595件，是半导体制造的基础。
  • 晶圆：521件，技术应用广泛。
  • 掩模：517件，是光刻工艺中的关键组件。
  • 掩模版：515件，技术主题重要。
  • 工件台：512件，是光刻设备的重要部分。
  • 套刻：473件，是光刻工艺中的关键步骤。

旭日图

• 热门主题：
  • 图纹面照相工艺：包括胶印设备制造、投影设备制造等，是光刻机技术的核心。
  • 电气元件：包括聚光场控制装置、集成电路制造等，技术应用广泛。
  • 光学元件：包括新型连接元件、高性能混合液晶等，是光刻设备的重要组成部分。

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